[實用新型]一種多反應室CVD爐

有效

• 申請號: 202022133660.0
• 申請日: 2020-09-25
• 公開（公告）號: CN213447294U
• 公開（公告）日: 2021-06-15
• 發明（設計）人: 劉汝強;吳思華;張峰;王殿春;周清波
• 申請（專利權）人: 山東國晶新材料有限公司
• 主分類號: C23C16/26
• 分類號: C23C16/26;C23C16/44;C23C16/458
• 代理公司: 濟南金迪知識產權代理有限公司 37219
• 代理人: 趙龍群

本實用新型涉及一種多反應室CVD爐，屬于化學氣相沉積技術領域。CVD爐包括套筒A、套筒B、產品盤、散氣盤、隔板、石墨進氣管和傳動裝置，其中，套筒A底部密封，套筒A頂部設置散氣盤，套筒A中間位置設置隔板，隔板上方為上反應室，隔板下方為下反應室，隔板上方和套筒A底部上方分別設置套筒B，套筒B緊貼套筒A，產品盤放置于套筒B上方，石墨進氣管上端貫穿套筒A、隔板和產品盤的中心位置，下端設置于套筒A外側，石墨進氣管上設置出氣孔，石墨進氣管下端設置不銹鋼管，不銹鋼管通過軸承密封連接進氣管道，石墨進氣管下端連接傳動裝置。本實用新型通過增加反應腔室數量和石墨進氣管的旋轉功能，提高產品產出率及氣體利用率，降低生產成本。

技術領域

本實用新型涉及一種多反應室CVD爐，屬于化學氣相沉積技術領域。

背景技術

原子吸收管是原子吸收光譜儀中的核心部件。原子吸收光譜儀根據物質基態原子蒸汽對特征輻射吸收的作用來進行金屬元素分析，它能夠靈敏可靠地測定微量或痕量元素。熱解涂層的(石墨)原子管通過改善石墨基體的純度、強度以及耐腐蝕性，能有效避免石墨管的氧化，從而延長石墨管的壽命，同時涂層也可以防止樣品侵入石墨管，從而提高其靈敏性和重復性。因此熱解石墨涂層原子管廣泛應用于吸收光譜分析設備以及其他相關領域。

目前進行石墨管涂層的CVD爐為小腔室爐，通過進氣管通入甲烷氣體，每爐只能安裝一個產品盤，每個產品盤放置200-300支石墨管，既單爐涂層管產出200-300支；原子管有多種類型，每種類型所需產品盤構造不同，因此在遇到多種石墨管需涂層時，只能排序生產；生產效率低，氣體利用率低，生產成本高。

基于上述問題，有必要開發一種多反應室的CVD爐，通過增加反應腔室數量和石墨進氣管的旋轉功能，提高產品產出率及氣體利用率，降低生產成本。

發明內容

針對現有技術的不足，本實用新型提供一種多反應室的CVD爐，通過增加反應腔室數量和石墨進氣管的旋轉功能，提高產品產出率及氣體利用率，降低生產成本。

本實用新型的技術方案如下：

一種多反應室的CVD爐，包括套筒A、套筒B、產品盤、散氣盤、隔板、石墨進氣管和傳動裝置，其中，套筒A底部密封，套筒A頂部設置散氣盤，套筒A中間位置設置隔板，隔板上方為上反應室，隔板下方為下反應室，隔板上方和套筒A底部上方分別設置套筒B，套筒B緊貼套筒A，產品盤放置于套筒B上方，石墨進氣管上端貫穿套筒A、隔板和產品盤的中心位置，下端設置于套筒A外側，石墨進氣管上設置出氣孔，石墨進氣管下端設置不銹鋼管，不銹鋼管通過軸承密封連接進氣管道，石墨進氣管下端連接傳動裝置，通過傳動裝置帶動石墨進氣管旋轉。

優選的，傳動裝置包括減速機、齒輪A、齒輪B和傳動鏈條，齒輪A套裝于不銹鋼管外側，減速機輸出軸上設置齒輪B，齒輪A和齒輪B通過傳動鏈條連接。通過減速機轉動帶動不銹鋼管旋轉，進而帶動石墨進氣管旋轉，使氣體分布更均勻。

優選的，散氣盤上設置散氣孔A，隔板下方處的套筒A上設置散氣孔B，通過散氣孔A和散氣孔B散發多余氣體。

進一步優選的，散氣盤厚度為10-20cm，散氣孔A直徑為5-15mm，散氣孔B直徑為5-15mm。

優選的，出氣孔設置于隔板下方的石墨進氣管上。

優選的，上反應室直徑為20-40cm,高度為30-50cm，下反應室直徑為20-40cm,高度為30-50cm。

優選的，石墨進氣管直徑為20-80mm。

優選的，出氣孔與水平面的角度為30-60°，出氣孔直徑為5-15mm。

優選的，石墨進氣管轉速為0.2-3r/min。