[實用新型]紅外光學薄膜鍍膜機

有效

• 申請號: 202022081431.9
• 申請日: 2020-09-21
• 公開（公告）號: CN213388868U
• 公開（公告）日: 2021-06-08
• 發明（設計）人: 王為城
• 申請（專利權）人: 廈門立揚光學科技有限公司
• 主分類號: C23C14/30
• 分類號: C23C14/30;C23C14/54;C23C14/08;C23C14/10;C23C14/02
• 代理公司: 廈門市精誠新創知識產權代理有限公司 35218
• 代理人: 李寧

本實用新型公開了紅外光學薄膜鍍膜機。在真空室腔體內的上部設置工轉架；在下部中心設置等離子體源，等離子體源的左右兩側設置第一、二電子槍；在中部設置第一、二修正板分別固定在第一、二驅動單元的安裝桿上，第一、二驅動單元設置在真空室腔體外；在下部還設置布氣管道通過布氣系統與外界連接；在真空室腔體外安裝膜厚儀，探頭伸入工轉架中；在真空室腔體的側壁上安裝真空計；電子槍、等離子體源、驅動單元、布氣系統、真空計和膜厚儀都與控制單元連接。此結構無需加熱，膜層設計層數可減少，鍍膜時間大大縮短，膜層表面致密性好，耐劃傷，耐腐蝕，減少了成本，生產效率提升，使用壽命延長，可應用于紅外測溫及探測等相關電子產品。

技術領域

本實用新型涉及鏡片真空光學鍍膜的技術領域，特別涉及紅外光學薄膜鍍膜機。

背景技術

在傳統工藝中，鍍制紅外光學薄膜主要是利用增加膜層層數做相應的干涉優化，來實現紅外光學薄膜的理論設計與優化工作。所使用的鍍膜材料一般吸收都比較大、折射率偏低，要依靠鍍膜機給鏡片的基底加熱200℃上才能達到降吸收的目的，而且只能鍍制在玻璃基底，對塑膠基底無法鍍制。另外產品表面不易保護，使用壽命較短。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供一種紅外光學薄膜鍍膜機，以鍍制優越于傳統性能的紅外光學薄膜。

為了實現上述目的，本實用新型的解決方案是：

紅外光學薄膜鍍膜機，包括真空室腔體、工轉架、第一修正板、第二修正板、第一電子槍、第二電子槍、等離子體源、布氣系統、真空計、膜厚儀和控制單元；在真空室腔體內的上部設置一可轉動的工轉架用于承載鏡片；在真空室腔體內的下部中心位置設置等離子體源；在真空室腔體內的下部且位于等離子體源的左右兩側設置第一電子槍和第二電子槍；在真空室腔體內的中部對應第一電子槍和第二電子槍的槍口分別設置第一修正板和第二修正板，第一修正板和第二修正板分別固定在第一驅動單元和第二驅動單元的安裝桿上，第一驅動單元和第二驅動單元設置在真空室腔體外；在真空室腔體內的下部還設置布氣管道，布氣管道通過真空室腔體外的布氣系統與外界管道連接；在真空室腔體外安裝膜厚儀，膜厚儀的探頭伸入真空室腔體內的工轉架中；在真空室腔體的側壁上安裝真空計；第一電子槍、第二電子槍、等離子體源、第一驅動單元、第二驅動單元、布氣系統、真空計和膜厚儀都與控制單元連接。

所述工轉架呈倒扣的碗形，底部具有旋轉軸與第三驅動單元連接，由第三驅動單元帶動工轉架進行旋轉，第三驅動單元與控制單元連接。

所述第一電子槍和第二電子槍的槍口上方都安裝擋板。

采用上述方案后，本實用新型利用雙電子槍分離高、低折射率的鍍膜方式，同時結合APS源的等離子體輔助技術，以及結合精密的布氣系統，來制備高純度減薄低吸收的人體紅外光學薄膜。

使用加工時，鏡片基底在高真空狀態下，啟動第一電子槍和APS等離子體源，利用輔助物理氣相沉積原理蒸發高折射率材料五氧化三鈦(Ti₃O₅)，同時啟動微量布氣系統和第一修正板和第一驅動單元(高折射率均勻性修正系統)進行鍍制；鍍制高折射率五氧化三鈦(Ti₃O₅)時，第一電子槍光斑修正源會將光斑調整成一個點，使之對所鍍制的材料平穩加熱，避免膜料飛濺，在基底成膜的過程中提高材料純度；高折射率材料鍍制完成后，第一電子槍和高折射率均勻性修正系統關閉；開啟第二電子槍系統，同時開啟對應的第二修正板和第二驅動單元(低折射率均勻性修正系統)，第二電子槍光斑調整為點狀直線軌跡掃描方式，對低折射率二氧化硅(SiO₂)進行物理氣相沉積，得到膜層致密平整的高純度二氧化硅薄膜；鍍膜機在自動系統控制單元下，反復交替執行高、低折射率材料的鍍制步驟，最后完成產品鍍制。

本實用新型較傳統工藝相比無需加熱，膜層設計層數可減少，鍍膜時間大大縮短，膜層表面致密性好，耐劃傷，耐腐蝕。本實用新型減少了電費成本的損耗，生產效率有很大的提升，產品使用壽命較之前有所延長。此產品可應用于紅外測溫及探測等相關電子產品。