[實(shí)用新型]紅外光學(xué)薄膜鍍膜機(jī)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202022081431.9 | 申請日: | 2020-09-21 |
| 公開(公告)號(hào): | CN213388868U | 公開(公告)日: | 2021-06-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王為城 | 申請(專利權(quán))人: | 廈門立揚(yáng)光學(xué)科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/30 | 分類號(hào): | C23C14/30;C23C14/54;C23C14/08;C23C14/10;C23C14/02 |
| 代理公司: | 廈門市精誠新創(chuàng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 35218 | 代理人: | 李寧 |
| 地址: | 361000 福建省*** | 國省代碼: | 福建;35 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 紅外 光學(xué)薄膜 鍍膜 | ||
1.紅外光學(xué)薄膜鍍膜機(jī),其特征在于:包括真空室腔體、工轉(zhuǎn)架、第一修正板、第二修正板、第一電子槍、第二電子槍、等離子體源、布?xì)庀到y(tǒng)、真空計(jì)、膜厚儀和控制單元;在真空室腔體內(nèi)的上部設(shè)置一可轉(zhuǎn)動(dòng)的工轉(zhuǎn)架用于承載鏡片;在真空室腔體內(nèi)的下部中心位置設(shè)置等離子體源;在真空室腔體內(nèi)的下部且位于等離子體源的左右兩側(cè)設(shè)置第一電子槍和第二電子槍;在真空室腔體內(nèi)的中部對應(yīng)第一電子槍和第二電子槍的槍口分別設(shè)置第一修正板和第二修正板,第一修正板和第二修正板分別固定在第一驅(qū)動(dòng)單元和第二驅(qū)動(dòng)單元的安裝桿上,第一驅(qū)動(dòng)單元和第二驅(qū)動(dòng)單元設(shè)置在真空室腔體外;在真空室腔體內(nèi)的下部還設(shè)置布?xì)夤艿溃細(xì)夤艿劳ㄟ^真空室腔體外的布?xì)庀到y(tǒng)與外界管道連接;在真空室腔體外安裝膜厚儀,膜厚儀的探頭伸入真空室腔體內(nèi)的工轉(zhuǎn)架中;在真空室腔體的側(cè)壁上安裝真空計(jì);第一電子槍、第二電子槍、等離子體源、第一驅(qū)動(dòng)單元、第二驅(qū)動(dòng)單元、布?xì)庀到y(tǒng)、真空計(jì)和膜厚儀都與控制單元連接。
2.如權(quán)利要求1所述的紅外光學(xué)薄膜鍍膜機(jī),其特征在于:所述工轉(zhuǎn)架呈倒扣的碗形,底部具有旋轉(zhuǎn)軸與第三驅(qū)動(dòng)單元連接,由第三驅(qū)動(dòng)單元帶動(dòng)工轉(zhuǎn)架進(jìn)行旋轉(zhuǎn),第三驅(qū)動(dòng)單元與控制單元連接。
3.如權(quán)利要求1所述的紅外光學(xué)薄膜鍍膜機(jī),其特征在于:所述第一電子槍和第二電子槍的槍口上方都安裝擋板。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





