[實用新型]一種等離子體化學氣相沉積設備水平度的自動調節(jié)裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202022055703.8
• 申請日: 2020-09-18
• 公開（公告）號: CN213236853U
• 公開（公告）日: 2021-05-18
• 發(fā)明（設計）人: 黃中山;王虎斌
• 申請（專利權）人: 盛吉盛（寧波）半導體科技有限公司
• 主分類號: F16M11/42
• 分類號: F16M11/42;F16M11/04;F16M11/18;F16F15/02;C23C16/50;G01C9/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種等離子體化學氣相沉積設備水平度的自動調節(jié)裝置，其特征在于：包括減震盒（1）、頂座（4）、S7-300PLC控制器（5）、安裝板（8）和固定螺桿（10）；所述減震盒（1）底部的四個角固定安裝有支撐機構（2），所述減震盒（1）底部靠近支撐機構（2）的位置處固定安裝有萬向輪（3），所述減震盒（1）的頂部設有頂座（4），所述頂座（4）頂部前側的中央位置處固定安裝有S7-300PLC控制器（5），所述頂座（4）的頂部通過電動推桿（6）固定安裝有安裝板（8），所述電動推桿（6）通過導線與S7-300PLC控制器（5）電性連接，所述安裝板（8）底部的四個角處固定安裝有FLS-CH10水平傳感器（7），所述FLS-CH10水平傳感器（7）通過導線與S7-300PLC控制器（5）電性連接，所述安裝板（8）頂部的兩側固定安裝有焊接板（9），所述焊接板（9）的一側通過固定螺桿（10）固定安裝有凹型固定架（11），所述凹型固定架（11）內部的兩端通過彈簧（12）固定安裝有頂板（13）。

2.根據(jù)權利要求1所述的一種等離子體化學氣相沉積設備水平度的自動調節(jié)裝置，其特征在于：所述減震盒（1）的內部放置有減震墊（101），所述減震盒（1）頂部的四個角設有通孔（102）。

3.根據(jù)權利要求1所述的一種等離子體化學氣相沉積設備水平度的自動調節(jié)裝置，其特征在于：所述頂座（4）底部的四個角固定安裝有插桿（401），插桿（401）的底端之間固定安裝有壓板（402），壓板（402）位于減震盒（1）的內部。

4.根據(jù)權利要求1所述的一種等離子體化學氣相沉積設備水平度的自動調節(jié)裝置，其特征在于：所述固定螺桿（10）的外側端固定安裝有擰塊（1002），所述固定螺桿（10）的內側端設有軸承座（1001）。

5.根據(jù)權利要求1所述的一種等離子體化學氣相沉積設備水平度的自動調節(jié)裝置，其特征在于：所述頂板（13）的前側黏貼有防護墊（1301），所述頂板（13）的一側固定安裝有連接桿（1302）。

6.根據(jù)權利要求1所述的一種等離子體化學氣相沉積設備水平度的自動調節(jié)裝置，其特征在于：所述凹型固定架（11）內部的一側設有滑槽（1101），滑槽（1101）的內部滑動安裝有滑塊（1102），滑塊（1102）與連接桿（1302）固定連接。

7.根據(jù)權利要求1所述的一種等離子體化學氣相沉積設備水平度的自動調節(jié)裝置，其特征在于：所述支撐機構（2）包括螺管（201）、支撐螺桿（202）和底座（203），螺管（201）的底端固定安裝有支撐螺桿（202），支撐螺桿（202）的底端固定安裝有底座（203）。

8.根據(jù)權利要求1所述的一種等離子體化學氣相沉積設備水平度的自動調節(jié)裝置，其特征在于：所述S7-300PLC控制器（5）正面的頂部設有顯示屏（501），所述S7-300PLC控制器（5）正面的底部設有控制鍵（502），所述S7-300PLC控制器（5）的一側通過導線連接有插頭（503）。