[實(shí)用新型]一種真空腔體超低溫水汽吸附系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202022033400.6 | 申請(qǐng)日： | 2020-09-17 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN213570711U | 公開(kāi)（公告）日： | 2021-06-29 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 吳煜明 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 柏霆（蘇州）光電科技有限公司 |
| 主分類號(hào)： | C23C14/34 | 分類號(hào)： | C23C14/34;C23C14/56;B01D53/26;B01D5/00 |
| 代理公司： | 暫無(wú)信息 | 代理人： | 暫無(wú)信息 |
| 地址： | 215000 江蘇省*** | 國(guó)省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 空腔 超低溫 水汽 吸附 系統(tǒng) | ||
1.一種真空腔體超低溫水汽吸附系統(tǒng)，包括濺鍍線體和吸附組件，其特征在于，所述濺鍍線體根據(jù)濺鍍工藝，依次設(shè)置腔體閘門(mén)(1)、粗抽腔體(2)、高真空腔體(3)、進(jìn)料緩沖腔體(4)、轉(zhuǎn)接腔體(5)、鍍區(qū)腔體(6)和出料緩沖腔體(7)；所述吸附組件包括冷媒入口端(12)、冷媒出口端(9)、高真空段冷媒管(10)和濺鍍段冷媒管(13)；
所述高真空段冷媒管(10)設(shè)置在高真空腔體(3)的腔體內(nèi)壁上，所述濺鍍段冷媒管(13)貫通設(shè)置在進(jìn)料緩沖腔體(4)，轉(zhuǎn)接腔體(5)，鍍區(qū)腔體(6)和出料緩沖腔體(7)的內(nèi)壁上；所述高真空腔體(3)和進(jìn)料緩沖腔體(4)上均設(shè)置有冷媒管連接頭(8)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空腔體超低溫水汽吸附系統(tǒng)，其特征在于，所述高真空段冷媒管(10)和濺鍍段冷媒管(13)之間通過(guò)串接冷媒管(11)連接，所述串接冷媒管(11)連接分別設(shè)置在高真空腔體(3)和進(jìn)料緩沖腔體(4)上的冷媒管連接頭(8)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種真空腔體超低溫水汽吸附系統(tǒng)，其特征在于，所述冷媒入口端(12)通過(guò)進(jìn)料緩沖腔體(4)上的冷媒管連接頭(8)接入濺鍍段冷媒管(13)，所述冷媒出口端(9)通過(guò)高真空腔體(3)上的冷媒管連接頭(8)接入高真空段冷媒管(10)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空腔體超低溫水汽吸附系統(tǒng)，其特征在于，所述高真空段冷媒管(10)，濺鍍段冷媒管(13)，以及冷媒管連接頭(8)均設(shè)置在濺鍍線體的同側(cè)。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面擴(kuò)散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
