[實(shí)用新型]一種真空腔體超低溫水汽吸附系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202022033400.6
• 申請(qǐng)日: 2020-09-17
• 公開（公告）號(hào): CN213570711U
• 公開（公告）日: 2021-06-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 吳煜明
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 柏霆（蘇州）光電科技有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/34
• 分類號(hào): C23C14/34;C23C14/56;B01D53/26;B01D5/00
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本實(shí)用新型涉及真空濺鍍機(jī)輔助設(shè)備領(lǐng)域，尤其涉及一種真空腔體超低溫水汽吸附系統(tǒng)，包括濺鍍線體和吸附組件，所述濺鍍線體根據(jù)濺鍍工藝，依次設(shè)置腔體閘門、粗抽腔體、高真空腔體、進(jìn)料緩沖腔體、轉(zhuǎn)接腔體、鍍區(qū)腔體和出料緩沖腔體；所述吸附組件包括冷媒入口端、冷媒出口端、高真空段冷媒管和濺鍍段冷媒管；采用本實(shí)用新型，高真空腔體中的高真空冷媒管進(jìn)行初步吸附，再配合多腔體延伸濺鍍段冷媒管的高效吸附水氣，實(shí)現(xiàn)雙重回流管路，同一冷媒源，實(shí)現(xiàn)高效利用，提高水氣吸附效率；冷媒出入口的位置優(yōu)化，也進(jìn)一步的提高優(yōu)先吸附能力，保證濺鍍腔體內(nèi)部的正常運(yùn)作。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及真空濺鍍機(jī)輔助設(shè)備領(lǐng)域，尤其涉及一種真空腔體超低溫水汽吸附系統(tǒng)。

背景技術(shù)

真空鍍膜系統(tǒng)在抽氣過程中為提升鍍膜質(zhì)量；增加抽氣速率。會(huì)以超低溫水氣吸附系統(tǒng)去降低腔體內(nèi)部空氣中水氣含量。

連續(xù)式真空鍍膜設(shè)備各節(jié)腔體之間有真空閘門作隔斷，所以吸附水氣用的冷凍界面，必須在各個(gè)腔體獨(dú)立作設(shè)置，再以真空法蘭將冷凍管向大氣側(cè)穿出，再到下一個(gè)腔體的法蘭再作進(jìn)入與內(nèi)部的冷凍界面進(jìn)行串連。

冷凍界面設(shè)置的位置，以鍍膜腔體區(qū)段為主，向前后沿伸1～2節(jié)腔體布健，作為水氣的主要吸附區(qū)段。

連續(xù)式濺鍍線入出料動(dòng)作為，臺(tái)車進(jìn)入到第一節(jié)入料段真空腔體，經(jīng)過初級(jí)真空減壓到一個(gè)壓力值，將真空閘門開啟；臺(tái)車進(jìn)入下一節(jié)腔體，準(zhǔn)備進(jìn)行高真空的抽氣，此時(shí)在高真空度的負(fù)壓環(huán)境，腔體內(nèi)部的殘留雜氣及被鍍工件表面所吸附的水氣，會(huì)開始慢慢被真空泵抽除。高真空抽氣過程，通常要持續(xù)一段時(shí)間，以有效抽除干凈，因此濺鍍線為了縮短入料時(shí)間，通常會(huì)設(shè)計(jì)多節(jié)式的高真空腔體段作為一個(gè)抽氣傳送段，以增加工件在高真空環(huán)境下的水氣/雜氣抽氣時(shí)間。

當(dāng)上下料作業(yè)區(qū)環(huán)境濕度偏高時(shí)，會(huì)有大量的水氣分子會(huì)隨著被鍍工件經(jīng)由腔體入口一同進(jìn)入到設(shè)備線內(nèi)，由于入料前段的腔體屬于經(jīng)常與大氣接觸的腔體，不適合設(shè)置冷凍界面進(jìn)行水氣吸附，因此在 24小時(shí)生產(chǎn)的情況下，第二節(jié)銜接在進(jìn)行高真空抽氣時(shí)，就會(huì)有一定量的水氣會(huì)被高真空泵(例渦輪分子泵或油擴(kuò)散泵)經(jīng)由管路抽到負(fù)責(zé)最終排氣的油式前級(jí)泵內(nèi)，造成前級(jí)泵內(nèi)部?jī)?chǔ)油室容易積存大量的水氣，若沒有及時(shí)排出就容易導(dǎo)致前級(jí)泵真空油的白色乳化，使前級(jí)真空泵失去抽氣作用進(jìn)而影響到高真空泵的抽氣效能，甚至是造成故障。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型目的是在于提供一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，隧道罩覆，防塵防污的降溫設(shè)備。

一種真空腔體超低溫水汽吸附系統(tǒng)，包括濺鍍線體和吸附組件，所述濺鍍線體根據(jù)濺鍍工藝，依次設(shè)置腔體閘門、粗抽腔體、高真空腔體、進(jìn)料緩沖腔體、轉(zhuǎn)接腔體、鍍區(qū)腔體和出料緩沖腔體；所述吸附組件包括冷媒入口端、冷媒出口端、高真空段冷媒管和濺鍍段冷媒管；

所述高真空段冷媒管設(shè)置在高真空腔體的腔體內(nèi)壁上，所述濺鍍段冷媒管貫通設(shè)置在進(jìn)料緩沖腔體，轉(zhuǎn)接腔體，鍍區(qū)腔體和出料緩沖腔體的內(nèi)壁上；所述高真空腔體和進(jìn)料緩沖腔體上均設(shè)置有冷媒管連接頭。

進(jìn)一步的，所述高真空段冷媒管和濺鍍段冷媒管之間通過串接冷媒管連接，所述串接冷媒管連接分別設(shè)置在高真空腔體和進(jìn)料緩沖腔體上的冷媒管連接頭。

進(jìn)一步的，所述冷媒入口端通過進(jìn)料緩沖腔體上的冷媒管連接頭接入濺鍍段冷媒管，所述冷媒出口端通過高真空腔體上的冷媒管連接頭接入高真空段冷媒管。

進(jìn)一步的，所述高真空段冷媒管，濺鍍段冷媒管，以及冷媒管連接頭均設(shè)置在濺鍍線體的同側(cè)。

本實(shí)用新型的有益效果是：