[實用新型]一種碳化硅外延反應室側壁部件

有效

• 申請號: 202022031451.5
• 申請日: 2020-09-16
• 公開（公告）號: CN213624470U
• 公開（公告）日: 2021-07-06
• 發明（設計）人: 李凱希;馮淦;趙建輝
• 申請（專利權）人: 瀚天天成電子科技（廈門）有限公司
• 主分類號: C30B25/08
• 分類號: C30B25/08;C30B29/36
• 代理公司: 廈門市精誠新創知識產權代理有限公司 35218
• 代理人: 黃斌

1.一種碳化硅外延反應室側壁部件，包括分別安裝于碳化硅外延反應室相對兩側壁上且鏡像設置的兩側壁擋板，其特征在于：所述側壁擋板由至少兩拼接件沿前后方向拼接而成，每一拼接件的前端和/或后端上具有與相鄰拼接件進行拼接的拼接部，且每一側壁擋板的所有拼接件相互拼接后形成沿前后方向延伸、且連續的內壁面。

2.根據權利要求1所述的碳化硅外延反應室側壁部件，其特征在于：所述側壁擋板由兩個拼接件拼接而成，靠近源氣進氣口一側的拼接件定義為前拼接件，另一拼接件定義為后拼接件，該前拼接件的后端設置有一前拼接部，后拼接件的前端設置有與前拼接件的前接部相匹配設置的后拼接部，前拼接件的前拼接部和后拼接件的后拼接部在前后方向上互補設置。

3.根據權利要求1所述的碳化硅外延反應室側壁部件，其特征在于：所述側壁擋板由三個拼接件拼接而成，靠近源氣進氣口一側的拼接件定義為前拼接件，遠離源氣進氣口一側的拼接件定義為后拼接件，位于中間的拼接件定義為中拼接件，其中前拼接件的后端設置有一前拼接部，后拼接件的前端設置有一后拼接部，中拼接件的前端設置有前拼接件的前拼接部相匹配設置的第一拼接部，中拼接件的后端設置有后拼接件的后拼接部相匹配設置的第二拼接部，前拼接件的前拼接部和中拼接件的第一拼接部在前后方向上互補設置、后拼接件的后拼接部和中拼接件的第二拼接部在前后方向上互補設置。

4.根據權利要求2或3所述的碳化硅外延反應室側壁部件，其特征在于：相鄰兩拼接件之間拼接部為互補的臺階結構，且靠近前端拼接件的拼接部內壁面填充靠近后端拼接件的缺口處。

5.根據權利要求1所述的碳化硅外延反應室側壁部件，其特征在于：所述側壁擋板由2～4個拼接件拼接而成。

6.根據權利要求1所述的碳化硅外延反應室側壁部件，其特征在于：所述側壁擋板的內壁面沿前后方向依序分為前內壁面和后內壁面，其中兩側壁擋板的前內壁面之間的間距從前往后依序減小設置，兩側壁擋板的后內壁面之間的間距從前往后等距設置。

7.根據權利要求6所述的碳化硅外延反應室側壁部件，其特征在于：所述側壁擋板前內壁面的上下兩端部與所述側壁擋板后內壁面的上下兩端部等厚設置。