[實用新型]濕化學清洗設備的風刀系統和濕化學清洗設備有效
| 申請號: | 202022004987.8 | 申請日: | 2020-09-14 |
| 公開(公告)號: | CN213401102U | 公開(公告)日: | 2021-06-08 |
| 發明(設計)人: | 王貴梅;王少麗;王盼 | 申請(專利權)人: | 晶澳太陽能有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67;H01L31/18;B08B5/02;B08B3/08;F26B21/00 |
| 代理公司: | 北京市萬慧達律師事務所 11111 | 代理人: | 趙越 |
| 地址: | 055550 *** | 國省代碼: | 河北;13 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 化學 清洗 設備 系統 | ||
1.一種濕化學清洗設備的風刀系統,其特征在于,包括:主管路、分管路和至少一個風刀組;所述分管路的一端與所述主管路連接,所述分管路上至少連接一個所述風刀組,所述主管路和所述分管路用于向所述風刀組輸送壓縮空氣;
所述風刀組包括風刀和對接管道;所述風刀上設置有沿軸向排列的多個氣孔,壓縮空氣從所述氣孔吹出;所述對接管道的一端與所述風刀連接,另一端與所述分管路連接。
2.根據權利要求1所述的風刀系統,其特征在于:一個所述風刀組包括兩個不連通的風刀;所述對接管道包括連通管,連通管的兩端分別與兩個風刀連接。
3.根據權利要求2所述的風刀系統,其特征在于:一個所述風刀組的兩個風刀設置在一條直線上,且兩個風刀固定連接。
4.根據權利要求2所述的風刀系統,其特征在于:所述對接管道還包括槽內管、槽外管、軟管;所述槽內管的一端與所述連通管連接;
所述槽內管的另一端、所述槽外管、所述軟管的一端依次連接;所述軟管的另一端連接到所述分管路。
5.根據權利要求4所述的風刀系統,其特征在于:所述槽外管上設置有閥門,用于調節風刀組的風壓。
6.根據權利要求4所述的風刀系統,其特征在于:所述槽外管和所述軟管之間通過過濾器連接,所述過濾器用于過濾壓縮空氣中的雜質。
7.根據權利要求1-6任一項所述的風刀系統,其特征在于:所述氣孔的直徑為0.2毫米,孔距為5毫米;一個所述風刀上設置138個氣孔。
8.根據權利要求1-6任一項所述的風刀系統,其特征在于:所述主管路豎直設置,所述分管路水平設置;
所述風刀組水平設置,且與所述分管路垂直。
9.根據權利要求8所述的風刀系統,其特征在于:所述風刀組的數量為五組,所述分管路的數量為兩條;
一條分管路上連接兩個風刀組,另一條分管路上連接三個風刀組。
10.一種濕化學清洗設備,其特征在于,包括:如權利要求1-9任一項所述的風刀系統,以及多個槽體;
所述風刀系統包括多個風刀組,每個所述槽體中對應設置一個所述風刀組;
所述槽體中設置有用于運送電池片的上滾軸和下滾軸;所述風刀設置在所述上滾軸的一側,用于對所述電池片進行吹掃。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





