[實(shí)用新型]一種排放裝置和半導(dǎo)體加工設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202021909579.0 | 申請(qǐng)日: | 2020-09-03 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN214051546U | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-08-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 高君;邵克堅(jiān) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 長(zhǎng)江存儲(chǔ)科技有限責(zé)任公司 |
| 主分類號(hào): | B01J4/00 | 分類號(hào): | B01J4/00;H01L21/67 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 排放 裝置 半導(dǎo)體 加工 設(shè)備 | ||
本實(shí)用新型提供了一種排放裝置和半導(dǎo)體加工設(shè)備,該排放裝置包括:渦輪泵和與所述渦輪泵排放口連接的排放管道;所述排放管道中設(shè)置有排放物濃度處理裝置,用于降低所述排放物的濃度。也就是說(shuō),該排放裝置可以稀釋排放物的排放濃度,避免排放物在排放管道等裝置中積聚,進(jìn)而提高排放效率,使清理周期變長(zhǎng),極大程度的提高了半導(dǎo)體加工設(shè)備的產(chǎn)能。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體工藝技術(shù)領(lǐng)域,更具體地說(shuō),涉及一種排放裝置和半導(dǎo)體加工設(shè)備。
背景技術(shù)
隨著科學(xué)技術(shù)的不斷發(fā)展,半導(dǎo)體加工設(shè)備已廣泛應(yīng)用于各種各樣的制造業(yè)中,為人們的生活和工作帶來(lái)了極大的便利。
但是,目前半導(dǎo)體加工設(shè)備的反應(yīng)殘余氣體和副產(chǎn)物在排放的過(guò)程中,會(huì)殘留在排放管道等裝置的內(nèi)壁上,進(jìn)而影響排放效率和半導(dǎo)體加工設(shè)備的加工性能,并且由于清理周期短,會(huì)極大程度的降低了半導(dǎo)體加工設(shè)備的產(chǎn)能。
實(shí)用新型內(nèi)容
有鑒于此,為解決上述問(wèn)題,本實(shí)用新型提供一種排放裝置和半導(dǎo)體加工設(shè)備,技術(shù)方案如下:
一種排放裝置,所述排放裝置包括:
渦輪泵和與所述渦輪泵排放口連接的排放管道;
所述排放管道中設(shè)置有排放物濃度處理裝置,用于降低所述排放物的濃度。
可選的,在上述排放裝置中,所述排放物濃度處理裝置包括:供氣管道和氣體擴(kuò)散器;
所述氣體擴(kuò)散器的進(jìn)氣端與所述供氣管道的一端連接,所述供氣管道的另一端用于與外部惰性氣體供應(yīng)設(shè)備連接;
所述氣體擴(kuò)散器設(shè)置在所述排放管道中,用于使所述供氣管道中的惰性氣體沿著所述排放管道的內(nèi)壁均勻排向所述渦輪泵方向。
可選的,在上述排放裝置中,所述氣體擴(kuò)散器為圓環(huán)形擴(kuò)散器;
所述圓環(huán)形擴(kuò)散器的外徑與所述排放管道的內(nèi)徑相匹配。
可選的,在上述排放裝置中,所述圓環(huán)形擴(kuò)散器面向所述渦輪泵的一側(cè)形成有多個(gè)孔排放單元。
可選的,在上述排放裝置中,所述圓環(huán)形擴(kuò)散器的外徑和內(nèi)徑之間的距離為1.5cm-2.5cm。
可選的,在上述排放裝置中,所述排放裝置還包括:
設(shè)置在所述供氣管道內(nèi)的流量調(diào)節(jié)器,用于調(diào)節(jié)惰性氣體的流量;
設(shè)置在所述供氣管道內(nèi)的壓力傳感器,用于檢測(cè)惰性氣體的供氣壓力。
可選的,在上述排放裝置中,所述流量為20L/min-30L/min。
可選的,在上述排放裝置中,所述供氣壓力為70psi-90psi。
可選的,在上述排放裝置中,所述排放裝置還包括:
設(shè)置在所述排放管道中的閥門,所述排放物濃度處理裝置位于所述渦輪泵和所述閥門之間;
與所述排放管道排放口連接的干泵。
一種半導(dǎo)體加工設(shè)備,所述半導(dǎo)體加工設(shè)備包括反應(yīng)室和上述任一項(xiàng)所述的排放裝置;
所述反應(yīng)室的排放口與所述排放裝置中的渦輪泵連接。
相較于現(xiàn)有技術(shù),本實(shí)用新型實(shí)現(xiàn)的有益效果為:
本實(shí)用新型提供的一種排放裝置包括:渦輪泵和與所述渦輪泵排放口連接的排放管道;所述排放管道中設(shè)置有排放物濃度處理裝置,用于降低所述排放物的濃度。也就是說(shuō),該排放裝置可以稀釋排放物的排放濃度,避免排放物在排放管道等裝置中積聚,進(jìn)而提高排放效率,使清理周期變長(zhǎng),極大程度的提高了半導(dǎo)體加工設(shè)備的產(chǎn)能。
附圖說(shuō)明
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