[實用新型]一種排放裝置和半導體加工設備有效
| 申請號： | 202021909579.0 | 申請日： | 2020-09-03 |
| 公開（公告）號： | CN214051546U | 公開（公告）日： | 2021-08-27 |
| 發明（設計）人： | 高君;邵克堅 | 申請（專利權）人： | 長江存儲科技有限責任公司 |
| 主分類號： | B01J4/00 | 分類號： | B01J4/00;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人： | 李曉光 |
| 地址： | 430074 湖北省武*** | 國省代碼： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 排放 裝置 半導體 加工 設備 | ||
1.一種排放裝置，其特征在于，所述排放裝置包括：
渦輪泵和與所述渦輪泵排放口連接的排放管道；
所述排放管道中設置有排放物濃度處理裝置，用于降低所述排放物的濃度。
2.根據權利要求1所述的排放裝置，其特征在于，所述排放物濃度處理裝置包括：供氣管道和氣體擴散器；
所述氣體擴散器的進氣端與所述供氣管道的一端連接，所述供氣管道的另一端用于與外部惰性氣體供應設備連接；
所述氣體擴散器設置在所述排放管道中，用于使所述供氣管道中的惰性氣體沿著所述排放管道的內壁均勻排向所述渦輪泵方向。
3.根據權利要求2所述的排放裝置，其特征在于，所述氣體擴散器為圓環形擴散器；
所述圓環形擴散器的外徑與所述排放管道的內徑相匹配。
4.根據權利要求3所述的排放裝置，其特征在于，所述圓環形擴散器面向所述渦輪泵的一側形成有多個孔排放單元。
5.根據權利要求3所述的排放裝置，其特征在于，所述圓環形擴散器的外徑和內徑之間的距離為1.5cm-2.5cm。
6.根據權利要求2所述的排放裝置，其特征在于，所述排放裝置還包括：
設置在所述供氣管道內的流量調節器，用于調節惰性氣體的流量；
設置在所述供氣管道內的壓力傳感器，用于檢測惰性氣體的供氣壓力。
7.根據權利要求1所述的排放裝置，其特征在于，所述排放裝置還包括：
設置在所述排放管道中的閥門，所述排放物濃度處理裝置位于所述渦輪泵和所述閥門之間；
與所述排放管道排放口連接的干泵。
8.一種半導體加工設備，其特征在于，所述半導體加工設備包括反應室和權利要求1-7任一項所述的排放裝置；
所述反應室的排放口與所述排放裝置中的渦輪泵連接。
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