[實(shí)用新型]一種用于鍺片甩干的甩干盤及包含它的氮?dú)馐芥N片甩干裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202021837590.0
• 申請(qǐng)日: 2020-08-28
• 公開（公告）號(hào): CN212806250U
• 公開（公告）日: 2021-03-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張成龍;柯尊斌;王卿偉
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中鍺科技有限公司
• 主分類號(hào): F26B5/08
• 分類號(hào): F26B5/08;F26B11/18;F26B21/14
• 代理公司: 南京中律知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 32341
• 代理人: 李建芳

1.一種用于鍺片甩干的甩干盤，其特征在于：包括底盤和支撐柱；底盤為圓形，底盤上均布有透氣孔；支撐柱有結(jié)構(gòu)相同、大小相等的三根以上，所有的支撐柱均豎直地分布在底盤上表面的周邊；支撐柱包括連接柱和限位柱，連接柱的底部連接在底盤的上表面上，限位柱的直徑小于連接柱的直徑，限位柱設(shè)在支撐柱頂部中央的位置、形成支撐臺(tái)階。

2.如權(quán)利要求1所述的用于鍺片甩干的甩干盤，其特征在于：支撐柱的頂部周邊到限位柱之間為逐漸增高的弧面結(jié)構(gòu)、形成弧面支撐臺(tái)階。

3.如權(quán)利要求1或2所述的用于鍺片甩干的甩干盤，其特征在于：連接柱和限位柱為一體成型結(jié)構(gòu)；限位柱的頂部為漸縮的弧面結(jié)構(gòu)。

4.如權(quán)利要求1或2所述的用于鍺片甩干的甩干盤，其特征在于：支撐柱有4～8根。

5.如權(quán)利要求1或2所述的用于鍺片甩干的甩干盤，其特征在于：透氣孔為圓形。

6.一種氮?dú)馐芥N片甩干裝置，包括權(quán)利要求1-5任意一項(xiàng)所述的用于鍺片甩干的甩干盤，其特征在于：還包括殼體、蓋體、層流罩、支撐座、驅(qū)動(dòng)電機(jī)、第一氮?dú)夤堋⒌诙獨(dú)夤芎偷獨(dú)庠矗粴んw為底部封端、頂部敞口的筒狀結(jié)構(gòu)，殼體側(cè)邊底部設(shè)有出氣口，蓋體活動(dòng)蓋設(shè)在殼體的頂部；甩干盤、層流罩、支撐座和驅(qū)動(dòng)電機(jī)均設(shè)在殼體內(nèi)；驅(qū)動(dòng)電機(jī)的轉(zhuǎn)軸與支撐座連接、并可驅(qū)動(dòng)支撐座轉(zhuǎn)動(dòng)；甩干盤的底部安裝在支撐座上；層流罩的直徑小于殼體內(nèi)徑，層流罩活動(dòng)安裝在支撐柱上方的殼體內(nèi)側(cè)壁上；第一氮?dú)夤芤欢伺c氮?dú)庠催B通、另一端從殼體側(cè)壁頂部伸入殼體內(nèi)層流罩的上方，第二氮?dú)夤芤欢伺c氮?dú)庠催B通、另一端從殼體側(cè)壁底部伸入殼體內(nèi)甩干盤的下方。

7.如權(quán)利要求6所述的氮?dú)馐芥N片甩干裝置，其特征在于：支撐柱上方的殼體內(nèi)側(cè)壁周邊的同一高度上均布有三個(gè)支撐塊，層流罩的周邊活動(dòng)支撐在支撐塊上。

8.如權(quán)利要求6或7所述的氮?dú)馐芥N片甩干裝置，其特征在于：第一氮?dú)夤芎偷诙獨(dú)夤苌暇O(shè)有流量調(diào)節(jié)閥。

9.如權(quán)利要求6或7所述的氮?dú)馐芥N片甩干裝置，其特征在于：第一氮?dú)夤芎偷诙獨(dú)夤苌暇O(shè)有流量計(jì)。

10.如權(quán)利要求6或7所述的氮?dú)馐芥N片甩干裝置，其特征在于：殼體外側(cè)底部設(shè)有控制驅(qū)動(dòng)電啟停的驅(qū)腳踏開關(guān)；氮?dú)庠礊榈獨(dú)夤蕖?/p>