[實用新型]一種半導體生產用離子清洗機

有效

• 申請號: 202021812550.0
• 申請日: 2020-08-26
• 公開（公告）號: CN212461619U
• 公開（公告）日: 2021-02-02
• 發明（設計）人: 張文翰
• 申請（專利權）人: 深圳市星曜微半導體有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67;H01L21/687
• 代理公司: 重慶百潤洪知識產權代理有限公司 50219
• 代理人: 沈鋒

1.一種半導體生產用離子清洗機，包括機體(1)，其特征在于：所述機體(1)的兩側外壁上設置有多組載物件(2)，所述機體(1)的前表面設置有顯示屏(3)，所述機體(1)的前表面靠近顯示屏(3)一側設置有真空室(4)，所述真空室(4)的內部設置有壓合件(5)，所述真空室(4)的內部設置有離子噴頭；

所述壓合件(5)包括有置于機體(1)內部的底板(51)，所述底板(51)上表面的兩端沿豎直方向上設置有固定桿(52)，所述固定桿(52)外部套有彈簧(53)，所述彈簧(53)頂端固定安裝有活動環(54)，所述活動環(54)的側表面設置有側板(55)，所述側板(55)的側表面沿水平方向上安裝有導軌(56)，兩組所述側板(55)之間安裝有壓網(57)，所述壓網(57)的端部安裝有滑動塊(58)。

2.根據權利要求1所述的一種半導體生產用離子清洗機，其特征在于：所述彈簧(53)的一端與底板(51)表面相連接，所述彈簧(53)的另一端與活動環(54)相連接，所述活動環(54)與固定桿(52)之間通過滑動方式相連接。

3.根據權利要求1所述的一種半導體生產用離子清洗機，其特征在于：所述側板(55)上的導軌(56)與壓網(57)兩端的滑動塊(58)之間通過滑動方式相連接。

4.根據權利要求1所述的一種半導體生產用離子清洗機，其特征在于：所述底板(51)和壓網(57)均為不銹鋼金屬網結構設計，所述底板(51)固定于機體(1)上。

5.根據權利要求1所述的一種半導體生產用離子清洗機，其特征在于：所述載物件(2)包括有與機體(1)側表面相鉸接的支撐板(21)，所述機體(1)的側表面靠近支撐板(21)上方位置處設置有限位塊(22)，所述機體(1)的側表面靠近支撐板(21)下方位置處固定安裝有固定塊(23)，所述固定塊(23)上安裝有支撐架(24)。

6.根據權利要求5所述的一種半導體生產用離子清洗機，其特征在于：所述支撐架(24)貫穿于固定塊(23)，兩者成對設置有多組，所述支撐架(24)呈L形結構設計。

7.根據權利要求1所述的一種半導體生產用離子清洗機，其特征在于：所述機體(1)的下表面設置有多組行走輪，所述機體(1)上鉸接設置有側門，所述側門上嵌入設置有可視窗。