[實(shí)用新型]一種印章及壓印裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202021696814.0
• 申請(qǐng)日: 2020-08-14
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN213035515U
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-04-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李衛(wèi)士;雷玫;徐甜;馮曉甜;李偉龍
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 華天慧創(chuàng)科技(西安)有限公司
• 主分類號(hào): B41K1/02
• 分類號(hào): B41K1/02;B41K1/38;B41K1/36;G03F7/00
• 代理公司: 西安通大專利代理有限責(zé)任公司 61200
• 代理人: 馬貴香

本實(shí)用新型公開(kāi)了一種印章及壓印裝置，該印章下表面上涂覆的膠層，不再將整個(gè)印章的下表面涂覆上膠層，而是采用間隔填充膠層的手段，相隔列填充，或相隔行填充，使得印章在壓印過(guò)程中，印章和基底之間沒(méi)有過(guò)多的膠體，從原材料和壓印的一開(kāi)始就減少了殘留層的厚度，減少了壓印過(guò)程需要克服的膠體存在的阻力，進(jìn)一步的，大大的減少了大面積壓印時(shí)需要克服的分子間阻力以及膠水本身在基板上擴(kuò)散的阻力。從而實(shí)現(xiàn)超薄壓印。

【技術(shù)領(lǐng)域】

本實(shí)用新型涉及紫外納米壓印領(lǐng)域，具體為一種印章及壓印裝置。

【背景技術(shù)】

紫外納米壓印廣泛地應(yīng)用于圖形轉(zhuǎn)移的各個(gè)領(lǐng)域，實(shí)現(xiàn)不同形狀、大小和結(jié)構(gòu)的簡(jiǎn)單復(fù)制。納米級(jí)別的結(jié)構(gòu)不需要復(fù)雜和昂貴的光學(xué)元件即可實(shí)現(xiàn)，成為 TOF、diffuser、lens等光學(xué)元器件新型替代作業(yè)方式。參見(jiàn)圖1為現(xiàn)有技術(shù)中紫外納米壓印技術(shù)的實(shí)施方法，首先將膠層涂覆在工作印章上，然后將涂覆有膠層的工作印章和基底接觸，完成壓印過(guò)程。隨著市場(chǎng)對(duì)整體模組厚度越來(lái)越薄的要求，硬基板的壓印方式存在殘留層厚度的限制，針對(duì)現(xiàn)有半導(dǎo)體8吋及8吋以上的wafer，由于壓印時(shí)將殘留層壓印至一定的厚度，需要克服膠水本身分子間力以及流動(dòng)時(shí)受到的阻力，尤其是現(xiàn)有面型膠材料的粘度普遍在200mPa·s(23℃) 以上，如果壓印力超過(guò)一定的數(shù)值，面型會(huì)損傷或變形，所以，在保證壓印力在一定的范圍內(nèi)的情況下，如何將殘留層的厚度控制在15um以內(nèi)，已經(jīng)成為一種挑戰(zhàn)，所以，如何使用透明硬基板的壓印方式，在8吋及8吋以上的wafer上壓印出超薄厚度的面型，就成為了當(dāng)下需要解決的關(guān)鍵問(wèn)題。

【實(shí)用新型內(nèi)容】

本實(shí)用新型的目的在于克服上述現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn)，提供一種印章及壓印裝置，該裝置用于解決在保證壓印力滿足壓印要求的情況下，降低殘留層的厚度。

為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型采用以下技術(shù)方案予以實(shí)現(xiàn)：

一種印章，所述印章的下表面上縱橫排列有若干個(gè)面型孔，所述面型孔為向印章內(nèi)部凹陷的圓弧面；

列的面型孔相隔一列填充有膠體，行的面型孔相隔一行填充有膠體；

填充在面型孔中的膠體有部分溢出。

本實(shí)用新型的進(jìn)一步改進(jìn)在于：

優(yōu)選的，所述溢出面型孔的部分膠體為圓形或矩形。

優(yōu)選的，所述膠體為環(huán)氧樹(shù)脂類紫外固化膠。

一種壓印裝置，包括上述的印章和基底，印章在基底的上方，基底上有殘留層。

優(yōu)選的，所述殘留層的厚度為小于15μm。

優(yōu)選的，所述殘留層的厚度為3-5μm。

優(yōu)選的，所述殘留層上有陣列的面型。

優(yōu)選的，面型為凸出的弧面，所述面型的弧度和面型孔相匹配。

優(yōu)選的，所述基底為玻璃材質(zhì)。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型具有以下有益效果：

本實(shí)用新型公開(kāi)了一種印章，該印章下表面上涂覆的膠層，不再將整個(gè)印章的下表面涂覆上膠層，而是采用間隔填充膠層的手段，相隔列填充，或相隔行填充，使得印章在壓印過(guò)程中，印章和基底之間沒(méi)有過(guò)多的膠體，從原材料和壓印的一開(kāi)始就減少了殘留層的厚度，減少了壓印過(guò)程需要克服的膠體存在的阻力，進(jìn)一步的，大大的減少了大面積壓印時(shí)需要克服的分子間阻力以及膠水本身在基板上擴(kuò)散的阻力。從而實(shí)現(xiàn)超薄壓印。

進(jìn)一步的，膠體在面型孔外部之間的部分為矩形或圓形，使得膠體能夠均勻的向兩邊擴(kuò)算，彌補(bǔ)兩邊沒(méi)有填充膠體的面型孔。

進(jìn)一步的，膠體為環(huán)氧樹(shù)脂類紫外固化膠，滿足紫外固化的需求。