[實用新型]一種印章及壓印裝置有效
| 申請號： | 202021696814.0 | 申請日： | 2020-08-14 |
| 公開（公告）號： | CN213035515U | 公開（公告）日： | 2021-04-23 |
| 發明（設計）人： | 李衛士;雷玫;徐甜;馮曉甜;李偉龍 | 申請（專利權）人： | 華天慧創科技(西安)有限公司 |
| 主分類號： | B41K1/02 | 分類號： | B41K1/02;B41K1/38;B41K1/36;G03F7/00 |
| 代理公司： | 西安通大專利代理有限責任公司 61200 | 代理人： | 馬貴香 |
| 地址： | 710018 陜西省西*** | 國省代碼： | 陜西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 印章 壓印 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種印章，其特征在于，所述印章的下表面上縱橫排列有若干個面型孔(5)，所述面型孔(5)為向印章內部凹陷的圓弧面；
列的面型孔(5)相隔一列填充有膠體(3)，行的面型孔(5)相隔一行填充有膠體(3)；
填充在面型孔(5)中的膠體(3)有部分溢出。
2.根據權利要求1所述的一種印章，其特征在于，所述面型孔(5)的部分膠體(3)為圓形或矩形。
3.根據權利要求1所述的一種印章，其特征在于，所述膠體(3)為環氧樹脂類紫外固化膠。
4.一種壓印裝置，其特征在于，包括權利要求1所述的印章(1)和基底(2)，印章(1)在基底(2)的上方，基底(2)上有殘留層(4)。
5.根據權利要求4所述的一種壓印裝置，其特征在于，所述殘留層(4)的厚度為小于15μm。
6.根據權利要求4所述的一種壓印裝置，其特征在于，所述殘留層(4)的厚度為3-5μm。
7.根據權利要求4所述的一種壓印裝置，其特征在于，所述殘留層(4)上有陣列的面型(6)。
8.根據權利要求7所述的一種壓印裝置，其特征在于，面型(6)為凸出的弧面，所述面型(6)的弧度和面型孔(5)相匹配。
9.根據權利要求4所述的一種壓印裝置，其特征在于，所述基底(2)為玻璃材質。
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