[實(shí)用新型]一種真空腔進(jìn)樣系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202021644793.8 | 申請(qǐng)日: | 2020-08-10 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN212375375U | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-01-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 楊宏;褚賽賽;李小芳;龔旗煌;池彬;趙嘉峰 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京大學(xué);費(fèi)勉儀器科技(上海)有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/56 | 分類號(hào): | C23C14/56 |
| 代理公司: | 上海精晟知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31253 | 代理人: | 姜杉 |
| 地址: | 100089*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 空腔 系統(tǒng) | ||
1.一種真空腔進(jìn)樣系統(tǒng),其特征在于,包括:中轉(zhuǎn)腔和真空存樣腔;
所述真空存樣腔包括第一法蘭、樣品固持裝置和第一傳樣裝置;所述第一法蘭設(shè)置第一閥門;
所述中轉(zhuǎn)腔包括第二法蘭、第三法蘭、真空泵、傳樣臺(tái)和第二傳樣裝置,所述傳樣臺(tái)固定至所述第二傳樣裝置;
所述真空泵連通所述真空腔內(nèi)部;所述第三法蘭設(shè)置第二閥門;
所述第三法蘭密封固定至外部反應(yīng)腔體;
所述第一法蘭可拆卸式固定至所述第二法蘭;
所述樣品固持裝置固定至所述第一傳樣裝置;所述第一傳樣裝置驅(qū)動(dòng)所述樣品固持裝置進(jìn)入所述中轉(zhuǎn)腔或退回所述真空存樣腔。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空腔進(jìn)樣系統(tǒng),其特征在于,還包括常壓進(jìn)樣門,所述中轉(zhuǎn)腔還包括第四法蘭,所述第四法蘭密封連接所述常壓進(jìn)樣門。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種真空腔進(jìn)樣系統(tǒng),其特征在于,所述第三法蘭可拆卸式固定至所述外部反應(yīng)腔體。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種真空腔進(jìn)樣系統(tǒng),其特征在于,所述第一法蘭和所述第二法蘭為CF法蘭。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種真空腔進(jìn)樣系統(tǒng),其特征在于,所述第一閥門和/或所述第二閥門為閘板閥。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種真空腔進(jìn)樣系統(tǒng),其特征在于,所述真空存樣腔設(shè)置視窗法蘭。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種真空腔進(jìn)樣系統(tǒng),其特征在于,所述中轉(zhuǎn)腔設(shè)置視窗法蘭。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種真空腔進(jìn)樣系統(tǒng),其特征在于,還包括手提支架,所述真空存樣腔固定至所述手提支架。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種真空腔進(jìn)樣系統(tǒng),其特征在于,還包括真空計(jì),所述真空計(jì)測(cè)量所述中轉(zhuǎn)腔內(nèi)部氣壓。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





