[實(shí)用新型]一種晶粒的測(cè)試設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202021544223.1 | 申請(qǐng)日: | 2020-07-30 |
| 公開(公告)號(hào): | CN212725246U | 公開(公告)日: | 2021-03-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李昕昱 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 昕昱科技發(fā)展(深圳)有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/67 | 分類號(hào): | H01L21/67;H01L21/66 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 晶粒 測(cè)試 設(shè)備 | ||
1.一種晶粒的測(cè)試設(shè)備,包括工作臺(tái),其特征在于,在所述工作臺(tái)上設(shè)有晶粒取放機(jī)構(gòu)、晶粒料盤轉(zhuǎn)移機(jī)構(gòu)、晶粒擺放區(qū)域和晶粒測(cè)試位,所述晶粒擺放區(qū)域設(shè)有待測(cè)區(qū)域和已測(cè)區(qū)域,所述待測(cè)區(qū)域和已測(cè)區(qū)域布置有擺放晶粒的晶粒料盤,晶粒料盤可擺放多個(gè)晶粒,所述晶粒取放機(jī)構(gòu)從待測(cè)區(qū)域取出晶粒,并運(yùn)送至晶粒測(cè)試位進(jìn)行測(cè)試,接著將測(cè)試好的晶粒放到已測(cè)區(qū)域相對(duì)應(yīng)的晶粒料盤,當(dāng)測(cè)試完一個(gè)在待測(cè)區(qū)域的晶粒料盤的所有晶粒后,晶粒料盤轉(zhuǎn)移機(jī)構(gòu)將已測(cè)好所有晶粒的晶粒料盤轉(zhuǎn)移至已測(cè)區(qū)域。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶粒的測(cè)試設(shè)備,其特征在于,在所述工作臺(tái)上設(shè)有移動(dòng)裝置,所述移動(dòng)裝置包括在X軸方向運(yùn)動(dòng)的第一滑座和在Y軸方向運(yùn)動(dòng)的第二滑座,在所述第二滑座上設(shè)有在Z軸運(yùn)動(dòng)的升降機(jī)構(gòu),所述第二滑座與晶粒取放機(jī)構(gòu)連接,所述升降機(jī)構(gòu)與晶粒料盤轉(zhuǎn)移機(jī)構(gòu)連接。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的晶粒的測(cè)試設(shè)備,其特征在于,晶粒取放機(jī)構(gòu)包括真空吸筆和真空泵,所述真空泵與所述真空吸筆連接,所述真空吸筆用于對(duì)晶粒的取放操作。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的晶粒的測(cè)試設(shè)備,其特征在于,所述晶粒料盤轉(zhuǎn)移機(jī)構(gòu)包括第一夾臂和第二夾臂,所述第一夾臂或所述第二夾臂連接氣缸輸出端,氣缸的往復(fù)運(yùn)動(dòng)實(shí)現(xiàn)第一夾臂與第二夾臂的開合動(dòng)作。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶粒的測(cè)試設(shè)備,其特征在于,所述晶粒擺放區(qū)域設(shè)有呈矩陣布置的限位塊,各限位塊之間組成多個(gè)容納空間,所述容納空間用于放置晶粒料盤并對(duì)晶粒料盤進(jìn)行限位。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的晶粒的測(cè)試設(shè)備,其特征在于,限位塊的高度大于晶粒料盤的高度。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶粒的測(cè)試設(shè)備,其特征在于,所述晶粒測(cè)試位緊貼于晶粒擺放區(qū)域設(shè)置,晶粒測(cè)試位包括沿工作臺(tái)一側(cè)均勻布置的多臺(tái)晶粒測(cè)試機(jī)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至7任一所述的晶粒的測(cè)試設(shè)備,其特征在于,在所述工作臺(tái)的一側(cè)設(shè)有人工檢測(cè)臺(tái),所述人工檢測(cè)臺(tái)用于人工抽檢晶粒。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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