[實(shí)用新型]一種蒸鍍?cè)O(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202021523780.5 | 申請(qǐng)日: | 2020-07-28 |
| 公開(公告)號(hào): | CN212864945U | 公開(公告)日: | 2021-04-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 鄭沂;林志斌 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 福建華佳彩有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/24 | 分類號(hào): | C23C14/24;C23C14/12;H01L51/56 |
| 代理公司: | 福州市景弘專利代理事務(wù)所(普通合伙) 35219 | 代理人: | 黃以琳;張忠波 |
| 地址: | 351100 福*** | 國省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 設(shè)備 | ||
本實(shí)用新型涉及一種蒸鍍?cè)O(shè)備,包括蒸鍍腔體、蒸鍍裝置、填料裝置以及旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu);蒸鍍裝置、填料裝置分別設(shè)置于蒸鍍腔體內(nèi),填料裝置設(shè)置于蒸鍍裝置的一側(cè),旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)與填料裝置可拆卸連接;蒸鍍裝置用于蒸鍍蒸鍍材料;填料裝置用于向蒸鍍裝置提供蒸鍍材料;旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)用于將填料裝置旋轉(zhuǎn)至蒸鍍裝置上方;填料裝置包括填料腔體、感應(yīng)機(jī)構(gòu)以及出料開關(guān);感應(yīng)機(jī)構(gòu)設(shè)置于填料腔體的內(nèi)壁上,出料開關(guān)設(shè)置于填料腔體上;填料腔體用于存放蒸鍍材料;感應(yīng)機(jī)構(gòu)用于感應(yīng)蒸鍍材料的重量變化。蒸鍍過程中,可以完全在真空狀態(tài)下進(jìn)行加料,使蒸鍍?cè)O(shè)備持續(xù)保持在真空狀態(tài)進(jìn)行連續(xù)蒸鍍,避免外界空氣中的顆粒進(jìn)入腔體內(nèi),保持了蒸鍍腔體內(nèi)的潔凈度,提高產(chǎn)品質(zhì)量。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及蒸鍍技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種蒸鍍?cè)O(shè)備。
背景技術(shù)
OLED(Organic Light Emitting Display),即有機(jī)發(fā)光顯示屏,在MP3 屏幕應(yīng)用領(lǐng)域?qū)儆谛箩绕鸬姆N類,被譽(yù)為“夢(mèng)幻顯示屏”。它無需背光燈,而是“主動(dòng)發(fā)光“它拋棄了傳統(tǒng)LCD的缺點(diǎn),每個(gè)像素都可自行發(fā)光,不管在什么角度什么光線下都可以比傳統(tǒng)LCD顯示更加清晰的畫面,環(huán)境越黑屏幕越亮,猶如夜間的熒彩精靈。
蒸鍍就是其中很關(guān)鍵的制程工藝,其工藝為在一定的真空條件下加熱蒸鍍材料,使蒸鍍材料熔化(或升華)成原子、分子或原子團(tuán)組成的蒸氣,然后凝結(jié)在玻璃基板表面成膜,從而形成OLED器件的功能層。
在現(xiàn)有技術(shù)中,蒸鍍?cè)O(shè)備因需要定期頻繁地開腔進(jìn)行加料,開腔加料過程需一定時(shí)間打開腔門,使得外界空氣中的顆粒進(jìn)入腔體內(nèi),從而影響腔體內(nèi)環(huán)境的潔凈度,污染腔體環(huán)境,影響產(chǎn)品質(zhì)量;且因蒸鍍過程中因蒸鍍?cè)磧?nèi)的蒸鍍材料不足需破真空加料,從而中斷鍍膜,影響產(chǎn)能。
實(shí)用新型內(nèi)容
為此,需要提供一種蒸鍍?cè)O(shè)備,用于解決在現(xiàn)有技術(shù)中,蒸鍍?cè)O(shè)備因需要定期頻繁地開腔進(jìn)行加料,開腔加料過程需一定時(shí)間打開腔門,使得外界空氣中的顆粒進(jìn)入腔體內(nèi),從而影響腔體內(nèi)環(huán)境的潔凈度,污染腔體環(huán)境,影響產(chǎn)品質(zhì)量;且因蒸鍍過程中因蒸鍍?cè)磧?nèi)的蒸鍍材料不足需破真空加料,從而中斷鍍膜,影響產(chǎn)能等技術(shù)問題。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,發(fā)明人提供了一種蒸鍍?cè)O(shè)備,包括蒸鍍腔體、蒸鍍裝置、填料裝置以及旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu);
所述蒸鍍裝置、所述填料裝置分別設(shè)置于所述蒸鍍腔體內(nèi),所述填料裝置設(shè)置于所述蒸鍍裝置的一側(cè),所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)與所述填料裝置可拆卸連接;
所述蒸鍍裝置用于蒸鍍蒸鍍材料;
所述填料裝置用于向所述蒸鍍裝置提供蒸鍍材料;
所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)用于將所述填料裝置旋轉(zhuǎn)至所述蒸鍍裝置上方;
所述填料裝置包括填料腔體、感應(yīng)機(jī)構(gòu)以及出料開關(guān);
所述感應(yīng)機(jī)構(gòu)設(shè)置于所述填料腔體的內(nèi)壁上,所述出料開關(guān)設(shè)置于所述填料腔體上;
所述填料腔體用于存放蒸鍍材料;
所述感應(yīng)機(jī)構(gòu)用于感應(yīng)蒸鍍材料的重量變化。
作為本實(shí)用新型的一種優(yōu)選結(jié)構(gòu),所述蒸鍍裝置包括坩堝以及加熱源,所述坩堝設(shè)置于所述加熱源上,所述加熱源用于加熱所述坩堝。
作為本實(shí)用新型的一種優(yōu)選結(jié)構(gòu),所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)包括旋轉(zhuǎn)軸以及支撐桿,所述支撐桿一端與所述旋轉(zhuǎn)軸連接,所述支撐桿另一端與所述填料腔體可拆卸連接。
作為本實(shí)用新型的一種優(yōu)選結(jié)構(gòu),所述填料裝置還包括壓縮部件,所述壓縮部件設(shè)置于所述填料腔體內(nèi),所述壓縮部件用于壓縮所述填料腔體內(nèi)的蒸鍍材料。
作為本實(shí)用新型的一種優(yōu)選結(jié)構(gòu),所述蒸鍍?cè)O(shè)備還包括控制機(jī)構(gòu),所述控制機(jī)構(gòu)用于控制所述蒸鍍?cè)O(shè)備的運(yùn)行;
所述感應(yīng)機(jī)構(gòu)包括彈性元件、電阻應(yīng)變片、測(cè)量電路以及傳輸電纜;
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
- 傳感設(shè)備、檢索設(shè)備和中繼設(shè)備
- 簽名設(shè)備、檢驗(yàn)設(shè)備、驗(yàn)證設(shè)備、加密設(shè)備及解密設(shè)備
- 色彩調(diào)整設(shè)備、顯示設(shè)備、打印設(shè)備、圖像處理設(shè)備
- 驅(qū)動(dòng)設(shè)備、定影設(shè)備和成像設(shè)備
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- 設(shè)備綁定方法、設(shè)備、終端設(shè)備以及網(wǎng)絡(luò)側(cè)設(shè)備
- 設(shè)備、主設(shè)備及從設(shè)備
- 設(shè)備向設(shè)備轉(zhuǎn)發(fā)





