[實(shí)用新型]一種磁控濺射設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202021512772.0
• 申請(qǐng)日: 2020-07-28
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN212713735U
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-03-16
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李聰;潘振偉;曲佳佳;陳玲;李靖
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 紹興精功裝備檢測(cè)科技有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/35
• 分類號(hào): C23C14/35;C23C14/50
• 代理公司: 紹興普華聯(lián)合專利代理事務(wù)所(普通合伙) 33274
• 代理人: 丁建清

1.一種磁控濺射設(shè)備，包括磁控艙(1)和安裝在磁控艙(1)下方的工作臺(tái)(6)，其特征在于：所述工作臺(tái)(6)內(nèi)部中心設(shè)有方向向上的電機(jī)(7)，所述電機(jī)(7)的軸穿出工作臺(tái)(6)上部且穿出部分固定有與電機(jī)(7)的軸同軸線的圓形轉(zhuǎn)盤(5)，所述磁控艙(1)包括真空腔(109)，所述轉(zhuǎn)盤(5)位于真空腔(109)內(nèi)，所述轉(zhuǎn)盤(5)上部設(shè)有圓柱形基板(3)，所述基板(3)環(huán)形側(cè)面鋪設(shè)有一張基片(4)，所述磁控艙(1)環(huán)形側(cè)面均勻分布有四個(gè)濺射靶(2)，所述濺射靶(2)包括封板(201)和靶材(203)，所述靶材(203)表面設(shè)有用于覆膜的銅板(2032)，所述靶材(203)朝向磁控艙(1)中心并穿出磁控艙(1)內(nèi)側(cè)環(huán)形面，所述銅板(2032)正對(duì)基片(4)且與基片(4)有一定距離，所述封板(201)固定在磁控艙(1)外側(cè)環(huán)形面，所述磁控艙(1)外側(cè)環(huán)形面上還設(shè)有圍繞靶材(203)一周且用于提供磁場(chǎng)的磁鐵(10)、用于連接外部抽真空裝置的第一排氣口(103)和用于連接外部惰性氣體裝置和外界空氣的兩個(gè)進(jìn)氣口(104)，所述第一排氣口(103)和進(jìn)氣口(104)連通真空腔(109)，所述工作臺(tái)(6)內(nèi)部還設(shè)有排氣裝置(8)，所述排氣裝置(8)包括連通真空腔(109)內(nèi)部的第二排氣口(801)、排氣箱(803)、連通第二排氣口(801)和排氣箱(803)的排氣管(802)和連通外部與排氣箱(803)的過(guò)濾器(804)，所述排氣箱(803)通過(guò)第二排氣口(801)和排氣管(802)將真空腔(109)內(nèi)部的氣體抽出，并通過(guò)過(guò)濾器(804)排放到外部。

2.如權(quán)利要求1所述一種磁控濺射設(shè)備，其特征在于：所述磁控艙(1)外側(cè)環(huán)形面還連接有門框(101)，所述門框(101)外側(cè)設(shè)有與門框(101)鉸接且能夠完全蓋合門框(101)的門(108)，其中一個(gè)所述濺射靶(2)貫穿門(108)且封板(201)固定在門(108)外側(cè)。

3.如權(quán)利要求2所述一種磁控濺射設(shè)備，其特征在于：所述門(108)向內(nèi)延伸設(shè)有環(huán)形豎筋(1083)，所述封板(201)前面固定有靶材背板(202)，所述靶材背板(202)貫穿門(108)內(nèi)外表面，所述靶材背板(202)超出門(108)內(nèi)側(cè)部分的外側(cè)設(shè)有絕緣部(1084)，所述絕緣部(1084)位于環(huán)形豎筋(1083)與靶材背板(202)之間，所述絕緣部(1084)外側(cè)固定在環(huán)形豎筋(1083)上且內(nèi)側(cè)與靶材背板(202)存在間隙。

4.如權(quán)利要求2所述一種磁控濺射設(shè)備，其特征在于：還包括銷軸(110)，所述門框(101)兩側(cè)分別設(shè)有把手(1011)和基座(1012)，所述門(108)兩側(cè)分別設(shè)有與把手(1011)對(duì)應(yīng)的凸臺(tái)(1082)和與基座(1012)對(duì)應(yīng)的合頁(yè)(1081)，所述合頁(yè)(1081)安裝在基座(1012)上且通過(guò)銷軸(110)鉸接，所述門(108)旋轉(zhuǎn)貼合在門框(101)上時(shí)，所述凸臺(tái)(1082)位于門框(101)和把手(1011)之間，旋轉(zhuǎn)所述把手(1011)，所述凸臺(tái)(1082)環(huán)形側(cè)面抵接把手(1011)。

5.如權(quán)利要求4所述一種磁控濺射設(shè)備，其特征在于：所述門(108)內(nèi)側(cè)平面還設(shè)有一圈第一密封圈(1085)，所述第一密封圈(1085)通過(guò)膠水黏連在門(108)內(nèi)側(cè)平面，所述門(108)蓋合在門框(101)上，所述第一密封圈(1085)抵接門框(101)。

6.如權(quán)利要求1所述一種磁控濺射設(shè)備，其特征在于：所述基板(3)還包括壓板(301)和螺釘(302)，所述壓板(301)抵接基片(4)表面且通過(guò)螺釘(302)將基板(3)和基片(4)固定在一起。

7.如權(quán)利要求1所述一種磁控濺射設(shè)備，其特征在于：所述磁控艙(1)外側(cè)環(huán)形面還設(shè)有多個(gè)連通真空腔的窗口(102)，所述窗口(102)上設(shè)有隔離真空腔(109)與外部的透明鏡片(1021)，所述窗口(102)位于相鄰兩個(gè)所述濺射靶(2)之間。

8.如權(quán)利要求1所述一種磁控濺射設(shè)備，其特征在于：所述磁控艙(1)環(huán)形側(cè)面還設(shè)有等離子清洗裝置(105)。