[實用新型]托盤機構(gòu)及蒸鍍設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202021383566.4 | 申請日: | 2020-07-14 |
| 公開(公告)號: | CN212983040U | 公開(公告)日: | 2021-04-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 李浩永;曹景博;蔡瑞芝;李燦;吳相;韓冰融 | 申請(專利權(quán))人: | 合肥欣奕華智能機器有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/24 | 分類號: | C23C14/24;C23C14/04;C23C14/50 |
| 代理公司: | 北京同達信恒知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11291 | 代理人: | 李琴 |
| 地址: | 230013 安徽省合*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 托盤 機構(gòu) 設(shè)備 | ||
1.一種托盤機構(gòu),其特征在于,包括:
托盤本體,所述托盤本體具有支撐面,所述支撐面用于支撐玻璃基板和開放式掩膜版;
滾輪,所述滾輪用于帶動所述托盤沿第一方向移動,所述第一方向與所述支撐面平行;
收集裝置,所述收集裝置與所述托盤本體連接,所述收集裝置包括第一收集部,所述第一收集部在所述支撐面所在平面的正投影完全覆蓋所述滾輪在所述支撐面所在平面的正投影。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的托盤機構(gòu),其特征在于,所述收集裝置還包括第二收集部,所述第二收集部位于所述第一收集部朝向所述托盤本體的一側(cè)、且與所述第一收集部的第一側(cè)邊連接;
所述第一收集部與所述第二收集部垂直,所述第二收集部與所述托盤本體連接。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的托盤機構(gòu),其特征在于,所述第一收集部和第二收集部均設(shè)置有磁石。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的托盤機構(gòu),其特征在于,所述第二收集部與所述托盤本體鉸接;
所述收集裝置能夠由第一狀態(tài)轉(zhuǎn)動至第二狀態(tài);
當(dāng)所述收集裝置處于第一狀態(tài)時:所述第一收集部與所述支撐面平行,所述第二收集部與所述支撐面垂直;
當(dāng)所述收集裝置處于第二狀態(tài)時:所述第一收集部與所述支撐面垂直,所述第二收集部與所述支撐面平行。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的托盤機構(gòu),其特征在于,所述托盤機構(gòu)還包括推動裝置;
所述推動裝置用于推動所述收集裝置由所述第一狀態(tài)轉(zhuǎn)動至所述第二狀態(tài)。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的托盤機構(gòu),其特征在于,所述收集裝置還包括阻擋部;
所述阻擋部位于所述第一收集部朝向所述托盤本體的一側(cè),且所述阻擋部與所述第一收集部的第二側(cè)邊連接,所述第二側(cè)邊與所述第一側(cè)邊相對。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的托盤機構(gòu),其特征在于,所述阻擋部設(shè)置有磁石。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的托盤機構(gòu),其特征在于,所述托盤機構(gòu)還包括驅(qū)動裝置;
所述驅(qū)動裝置用于驅(qū)動所述滾輪轉(zhuǎn)動。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的托盤機構(gòu),其特征在于,所述驅(qū)動裝置包括驅(qū)動電機、傳動軸以及支架;
所述驅(qū)動電機與所述傳動軸連接,所述傳動軸與所述滾輪連接且同軸設(shè)置;所述支架用于支撐所述傳動軸和所述滾輪。
10.一種蒸鍍設(shè)備,其特征在于,包括如權(quán)利要求1-9任一項所述的托盤機構(gòu)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于合肥欣奕華智能機器有限公司,未經(jīng)合肥欣奕華智能機器有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202021383566.4/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:一種鋁合金特種車邊燈燈架焊接工裝
- 下一篇:一種機械零部件打磨清洗裝置
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
- 傳感設(shè)備、檢索設(shè)備和中繼設(shè)備
- 簽名設(shè)備、檢驗設(shè)備、驗證設(shè)備、加密設(shè)備及解密設(shè)備
- 色彩調(diào)整設(shè)備、顯示設(shè)備、打印設(shè)備、圖像處理設(shè)備
- 驅(qū)動設(shè)備、定影設(shè)備和成像設(shè)備
- 發(fā)送設(shè)備、中繼設(shè)備和接收設(shè)備
- 定點設(shè)備、接口設(shè)備和顯示設(shè)備
- 傳輸設(shè)備、DP源設(shè)備、接收設(shè)備以及DP接受設(shè)備
- 設(shè)備綁定方法、設(shè)備、終端設(shè)備以及網(wǎng)絡(luò)側(cè)設(shè)備
- 設(shè)備、主設(shè)備及從設(shè)備
- 設(shè)備向設(shè)備轉(zhuǎn)發(fā)





