[實用新型]一種涂布機臺

有效

• 申請號: 202021303523.0
• 申請日: 2020-07-06
• 公開（公告）號: CN212302208U
• 公開（公告）日: 2021-01-05
• 發明（設計）人: 郭振
• 申請（專利權）人: 頎中科技（蘇州）有限公司;北京奕斯偉科技有限公司;合肥奕斯偉封測技術有限公司
• 主分類號: G03F7/16
• 分類號: G03F7/16
• 代理公司: 蘇州威世朋知識產權代理事務所(普通合伙) 32235
• 代理人: 胡彭年

本實用新型公開了一種涂布機臺，包括機臺架、轉動安裝在機臺架上的轉軸、設置在轉軸上的承載盤和罩設在承載盤外側的防護罩；承載盤上設置有用于吸附晶圓的真空吸附機構，防護罩上具有支撐部、橫向延伸部和連接支撐部和橫向延伸部的弧形連接部，支撐部傾斜角度范圍為60°到90°，且防護罩的材質為鋁。與現有技術相比，本實用新型通過增大支撐部的傾斜的角度以及通過弧形連接部連接橫向延伸部和支撐部從而擴大了防護罩內的空間，增強了光刻膠溶液在防護罩內的流動性提高了晶圓表面涂布膠的均勻性。同時，將防護罩的材質設置為鋁，能夠有效的將光刻膠溶液吸附在防護罩的內側壁上從而避免出現防護罩上的光刻膠溶液向晶圓表面的方向反濺。

技術領域

本實用新型涉及芯片制造技術領域，特別是一種用于涂布光阻劑的涂布機臺。

背景技術

光阻涂布是芯片生產制造過程中的重要的環節，通常采用旋轉涂蓋的方式來進行。一般先將硅片放在一個平整的金屬承載盤上，金屬承載盤內有小孔與真空管相連，硅片就被吸在金屬承載盤上，這樣硅片就可以與金屬承載盤一起旋轉。涂膠工藝一般分為三個步驟：1.將光刻膠溶液噴灑倒硅片表面；2.加速旋轉金屬承載盤(硅片)，直到達到所需的旋轉速度；3.達到所需的旋轉速度之后，保持一定時間的旋轉，利用旋轉時的離心力作用，促使光刻膠往芯片外圍移動，最后形成一層厚度均勻的光阻層。由于硅片表面的光刻膠是借旋轉時的離心力作用向著硅片外圍移動，故涂膠也可稱做甩膠。

Coater機臺是半導體行業中非常重要的一種涂布機臺，涂布的穩定性將會直接影響晶圓最終的良率。目前在用的Coater機臺主流尺寸是8/12寸兼容的,在8寸晶圓涂布的過程中機臺的穩定性較高，良品率較好。但是對于12寸的大尺寸晶圓，在涂布過程中機臺的穩定性較差，晶圓的正面也易造成凹坑異常或者晶面麻點異常，以上異常的情況往往困擾工程部門，影響產品良率，亟需改善。

實用新型內容

本實用新型的目的是提供一種涂布機臺，以解決現有技術中的不足，它能夠有有效的增強晶圓表面的涂布膠的均勻性，降低晶圓表面麻點和凹坑的異常情況的出現。

本實用新型提供了一種涂布機臺，包括機臺架、轉動安裝在所述機臺架上的轉軸、設置在所述轉軸上的承載盤和罩設在所述承載盤外側的防護罩；所述承載盤上設置有用于吸附晶圓的真空吸附機構；所述防護罩上具有支撐部、橫向延伸部和連接所述支撐部和所述橫向延伸部的弧形連接部，所述支撐部傾斜角度范圍為60°到90°，且所述防護罩的材質為鋁。

作為本實用新型的進一步改進，所述防護罩的頂部設置有穿孔，所述穿孔的直徑不小于320mm。

作為本實用新型的進一步改進，所述弧形連接部所在圓的直徑不小于20mm。

作為本實用新型的進一步改進，所述涂布機臺還具有設置在所述機臺架上并位于所述承載盤下側的防溢蓋；所述防溢蓋上具有橫向支撐部、豎向支撐部、連接所述橫向支撐部和所述豎向支撐部的斜向連接部和設置在所述橫向支撐部上并與所述轉軸相對設置的轉孔，所述斜向連接部的傾斜角度不小于30°且不大于60°。

作為本實用新型的進一步改進，所述斜向連接部的傾斜角度為45°。

作為本實用新型的進一步改進，所述斜向連接部上設置有第一背洗針穿孔。

作為本實用新型的進一步改進，所述橫向支撐部上設置有第二背洗針穿孔。

作為本實用新型的進一步改進，所述防溢蓋上背離所述承載盤的一側設置有若干定位槽。

作為本實用新型的進一步改進，所述定位槽設置有三個，三個所述定位槽呈環形均勻間隔排布。

作為本實用新型的進一步改進，所述橫向支撐部上沿所述轉孔的邊沿設置有向所述承載盤的方向凸伸的環形支撐部。