[實用新型]磁激勵單元及磁流體拋光裝置

有效

• 申請號: 202021103263.2
• 申請日: 2020-06-15
• 公開（公告）號: CN212600654U
• 公開（公告）日: 2021-02-26
• 發明（設計）人: 邱俊豪;劉敬蘭
• 申請（專利權）人: 東莞市弘名電子科技有限公司
• 主分類號: B24B1/00
• 分類號: B24B1/00;B24B31/10;B24B41/06
• 代理公司: 深圳市精英專利事務所 44242
• 代理人: 馮筠

本實用新型提供了一種磁激勵單元及磁流體拋光裝置，包括第一磁體和第二磁體，所述第二磁體圍繞所述第一磁體設置，所述第一磁體與第二磁體的磁極方向一致。本實用新型的有益效果在于：提供了一種磁激勵單元及磁流體拋光裝置，通過磁激勵單元讓磁流體沿豎直方向形成磁流體波峰，再通過驅動電機帶動工件掛架旋轉，從而讓工件與磁流體波峰發生相對運動實現對工件的拋光，使工件能夠均勻受到磁流體波峰的外力作用，能夠快速獲得50nm以下的表面精度拋光和1um以下表面粗糙度的打磨而不會有亞表面缺陷，且由于磁流體受磁力束縛，不會產生粉塵，整機能耗低，經濟環保。

技術領域

本實用新型涉及拋光裝置技術領域，尤其是指一種磁激勵單元及磁流體拋光裝置。

背景技術

隨著社會的進步，人們常常需要對零件或產品進行拋光處理，現有的拋光技術主要分為物理拋光、化學拋光、電學拋光等。但是現有的拋光技術常常伴隨著污染、粉塵、噪音等對環境不利的影響，而且在拋光的精度上也難以滿足人們越來越高的需求。

實用新型內容

本實用新型所要解決的技術問題是：針對現有技術的不足，提供一種磁激勵單元及磁流體拋光裝置。

為了解決上述技術問題，本實用新型采用的技術方案為：一種磁激勵單元，包括第一磁體和第二磁體，所述第二磁體圍繞所述第一磁體設置，所述第一磁體與第二磁體的磁極方向一致。

進一步的，還包括磁性材料，所述磁性材料設置于所述第一磁體和第二磁體的底端。

進一步的，所述第一磁體為磁體、永磁體或電磁體。

進一步的，所述第一磁體的高度大于或等于第二磁體的高度。

進一步的，所述第一磁體為電磁體，所述電磁體包括基材，所述基材設有凹槽，所述凹槽中設有繞線柱，所述繞線柱繞接有線圈。

本實用新型還涉及一種磁流體拋光裝置，包括磁激勵模組、磁流體容器和工件掛架，所述磁激勵模組包括磁激勵區，所述磁激勵區中設有至少兩個磁激勵單元固定座，每個磁激勵單元固定座均設有如上述任意一項所述的磁激勵單元，所述磁激勵模組設置于所述磁流體容器的一側，所述磁流體容器盛裝有磁流體，所述磁激勵模組用于讓所述磁流體沿豎直方向形成磁流體波峰，所述工件掛架設置于所述磁流體容器的上方，所述工件掛架連接有驅動電機，通過驅動電機帶動所述工件掛架旋轉，可讓工件掛架上的工件與所述磁流體容器中的磁流體波峰發生相對運動實現對工件的拋光。

進一步的，所述磁激勵區的形狀為圓形、橢圓形、方形、菱形、蜂窩形、規則多邊形或不規則多邊形中的一種或幾種。

進一步的，所述磁激勵模組連接有第一驅動裝置，所述磁激勵模組在所述第一驅動裝置的驅動下可沿豎直方向上下移動。

進一步的，所述磁流體容器的另一側還設有第二磁激勵模組，所述第二磁激勵模組靠近所述磁激勵模組一端的磁極與所述磁激勵模組靠近所述第二磁激勵模組一端的磁極相反。

進一步的，所述第二磁激勵模組遠離所述磁流體容器的一側設有磁屏蔽層，所述磁激勵模組遠離所述磁流體容器的一側設有磁屏蔽層。

本實用新型的有益效果在于：提供了一種磁激勵單元及磁流體拋光裝置，通過磁激勵單元讓磁流體沿豎直方向形成磁流體波峰，再通過驅動電機帶動工件掛架旋轉，從而讓工件與磁流體波峰發生相對運動實現對工件的拋光，使工件能夠均勻受到磁流體波峰的外力作用，能夠快速獲得50nm以下的表面精度拋光和1um以下表面粗糙度的打磨而不會有亞表面缺陷，且由于磁流體受磁力束縛，不會產生粉塵，整機能耗低，經濟環保。

附圖說明

下面結合附圖詳述本實用新型的具體結構：

圖1為本實用新型的磁激勵單元的結構示意圖；

圖2為本實用新型的電磁體的結構示意圖；