[實用新型]磁激勵單元及磁流體拋光裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202021103263.2 | 申請日： | 2020-06-15 |
| 公開（公告）號： | CN212600654U | 公開（公告）日： | 2021-02-26 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 邱俊豪;劉敬蘭 | 申請（專利權(quán)）人： | 東莞市弘名電子科技有限公司 |
| 主分類號： | B24B1/00 | 分類號： | B24B1/00;B24B31/10;B24B41/06 |
| 代理公司： | 深圳市精英專利事務(wù)所 44242 | 代理人： | 馮筠 |
| 地址： | 523710 廣東省東莞市塘廈*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 激勵 單元 流體 拋光 裝置 | ||
1.一種磁激勵單元，其特征在于：包括第一磁體和第二磁體，所述第二磁體圍繞所述第一磁體設(shè)置，所述第一磁體與第二磁體的磁極方向一致。
2.如權(quán)利要求1所述的磁激勵單元，其特征在于：還包括磁性材料，所述磁性材料設(shè)置于所述第一磁體和第二磁體的底端。
3.如權(quán)利要求2所述的磁激勵單元，其特征在于：所述第一磁體為磁體、永磁體或電磁體。
4.如權(quán)利要求3所述的磁激勵單元，其特征在于：所述第一磁體的高度大于或等于第二磁體的高度。
5.如權(quán)利要求4所述的磁激勵單元，其特征在于：所述第一磁體為電磁體，所述電磁體包括基材，所述基材設(shè)有凹槽，所述凹槽中設(shè)有繞線柱，所述繞線柱繞接有線圈。
6.一種磁流體拋光裝置，其特征在于：包括磁激勵模組、磁流體容器和工件掛架，所述磁激勵模組包括磁激勵區(qū)，所述磁激勵區(qū)中設(shè)有至少兩個磁激勵單元固定座，每個磁激勵單元固定座均設(shè)有如權(quán)利要求1-5任意一項所述的磁激勵單元，所述磁激勵模組設(shè)置于所述磁流體容器的一側(cè)，所述磁流體容器盛裝有磁流體，所述磁激勵模組用于讓所述磁流體沿豎直方向形成磁流體波峰，所述工件掛架設(shè)置于所述磁流體容器的上方，所述工件掛架連接有驅(qū)動電機(jī)，通過驅(qū)動電機(jī)帶動所述工件掛架旋轉(zhuǎn)，可讓工件掛架上的工件與所述磁流體容器中的磁流體波峰發(fā)生相對運動實現(xiàn)對工件的拋光。
7.如權(quán)利要求6所述的磁流體拋光裝置，其特征在于：所述磁激勵區(qū)的形狀為圓形、橢圓形、方形、菱形、蜂窩形、規(guī)則多邊形或不規(guī)則多邊形中的一種或幾種。
8.如權(quán)利要求7所述的磁流體拋光裝置，其特征在于：所述磁激勵模組連接有第一驅(qū)動裝置，所述磁激勵模組在所述第一驅(qū)動裝置的驅(qū)動下可沿豎直方向上下移動。
9.如權(quán)利要求8所述的磁流體拋光裝置，其特征在于：所述磁流體容器的另一側(cè)還設(shè)有第二磁激勵模組，所述第二磁激勵模組靠近所述磁激勵模組一端的磁極與所述磁激勵模組靠近所述第二磁激勵模組一端的磁極相反。
10.如權(quán)利要求9所述的磁流體拋光裝置，其特征在于：所述第二磁激勵模組遠(yuǎn)離所述磁流體容器的一側(cè)設(shè)有磁屏蔽層，所述磁激勵模組遠(yuǎn)離所述磁流體容器的一側(cè)設(shè)有磁屏蔽層。
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