[實用新型]半導(dǎo)體存儲裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202021070914.2 | 申請日: | 2020-06-11 |
| 公開(公告)號: | CN212010971U | 公開(公告)日: | 2020-11-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 張欽福;林昭維;朱家儀;馮立偉;童宇誠 | 申請(專利權(quán))人: | 福建省晉華集成電路有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/108 | 分類號: | H01L27/108 |
| 代理公司: | 北京康信知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11240 | 代理人: | 霍文娟 |
| 地址: | 362200 福建省泉州*** | 國省代碼: | 福建;35 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半導(dǎo)體 存儲 裝置 | ||
1.一種半導(dǎo)體存儲裝置,其特征在于,包含:
一基底;
多個主動區(qū),位于所述基底上;以及
多個位線,相互平行地沿著第一方向間隔地位于所述基底上,所述位線橫跨所述主動區(qū),其中,各所述位線具有相對的第一端與第二端,所述位線的所述第一端及所述第二端呈錯位排列且分別具有不同的長度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體存儲裝置,其特征在于,任意相鄰的兩個所述位線之間的間距小于任意相鄰的兩個所述第一端之間的間距。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體存儲裝置,其特征在于,任意相鄰的兩個所述位線之間的間距小于任意相鄰的兩個所述第二端之間的間距。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體存儲裝置,其特征在于,所述基底包括一存儲區(qū)域與一外圍區(qū)域,所述位線位于所述存儲區(qū)域內(nèi)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體存儲裝置,其特征在于,還包括:
多個閘極,設(shè)置在所述基底內(nèi),多個所述閘極相互平行地沿著第二方向排列,所述第二方向不同于所述第一方向。
6.一種半導(dǎo)體存儲裝置,其特征在于,包含:
一基底;
多個主動區(qū),位于所述基底上;
多個字線,位于所述基底內(nèi),所述多個字線相互平行地沿著第二方向排列;以及
多個位線,相互平行地沿著第一方向間隔地設(shè)置在所述基底上,所述第一方向不同于所述第二方向,多個所述位線橫跨所述主動區(qū),其中,多個所述位線中的一部分的所述位線與多個所述字線之間的重疊面積小于所述多個位線中的其他位線。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的多個半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





