[實用新型]一種在中空纖維膜內(nèi)部填裝吸附劑的靜態(tài)接觸式除磷裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202021060758.1
• 申請日: 2020-06-10
• 公開（公告）號: CN213623561U
• 公開（公告）日: 2021-07-06
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 曾香;李娜;胡茂華;徐剛
• 申請（專利權(quán)）人: 江西中膜環(huán)境技術(shù)有限公司;廣東中膜科技有限公司
• 主分類號: C02F9/04
• 分類號: C02F9/04;C02F1/44;C02F1/28;C02F101/10
• 代理公司: 中山市捷凱專利商標(biāo)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 44327
• 代理人: 楊連華

本實用新型公開一種在中空纖維膜內(nèi)部填裝吸附劑的靜態(tài)接觸式除磷裝置，包括有除磷處理器，除磷處理器內(nèi)部設(shè)置有反應(yīng)腔，所述除磷處理器上設(shè)置有進(jìn)水口和反應(yīng)腔連通，除磷處理器上設(shè)置有出水口和反應(yīng)腔連通，所述反應(yīng)腔內(nèi)設(shè)置有多條中空纖維膜，中空纖維膜內(nèi)壁設(shè)置有內(nèi)襯，所述內(nèi)襯內(nèi)填充有納米氧化鑭吸附劑，所述除磷處理器一側(cè)設(shè)置有能間歇帶動使用后的納米氧化鑭吸附劑再生的間歇再生系統(tǒng)，內(nèi)襯和間歇再生系統(tǒng)連通，提供一種間歇性循環(huán)再生納米氧化鑭的設(shè)備，節(jié)省資源。

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型涉及除磷技術(shù)裝置。

背景技術(shù)

目前全國自然水體環(huán)境污染情況不容樂觀，水環(huán)境污染情況仍十分嚴(yán)重，主要原因是水體中磷等營養(yǎng)物質(zhì)富集過多所致，污水深度處理和水體富營養(yǎng)化防治已成為亟待解決的重要環(huán)境問題，通常使用的除磷方法是化學(xué)法和生物法，前者處理費用高，且容易產(chǎn)生二次污染，后者運行穩(wěn)定性差，操作嚴(yán)格，受水溫，實時水源條件影響大，且往往需加入深度處理脫磷。

在使用納米氧化鑭處磷的過程中，雖然納米氧化鑭對磷酸鹽具有非常好的吸附去除能力，但是現(xiàn)有的裝置在氧化鑭除磷后不能對納米氧化鑭進(jìn)行重新的循環(huán)利用，不能提供一種間歇性循環(huán)再生納米氧化鑭的設(shè)備，無形之中增加了運行成本。

故此，現(xiàn)有的除磷技術(shù)裝置進(jìn)一步改善。

發(fā)明內(nèi)容

本實用新型的目的是為了提供一種在中空纖維膜內(nèi)部填裝吸附劑的靜態(tài)接觸式除磷裝置。

為了達(dá)到上述目的，本實用新型采用以下方案：

一種在中空纖維膜內(nèi)部填裝吸附劑的靜態(tài)接觸式除磷裝置，包括有除磷處理器，除磷處理器內(nèi)部設(shè)置有反應(yīng)腔，所述除磷處理器上設(shè)置有進(jìn)水口和反應(yīng)腔連通，除磷處理器上設(shè)置有出水口和反應(yīng)腔連通，所述反應(yīng)腔內(nèi)設(shè)置有多條中空纖維膜，中空纖維膜內(nèi)壁設(shè)置有內(nèi)襯，所述內(nèi)襯內(nèi)填充有納米氧化鑭吸附劑，所述除磷處理器一側(cè)設(shè)置有能間歇帶動使用后的納米氧化鑭吸附劑再生的間歇再生系統(tǒng)，內(nèi)襯和間歇再生系統(tǒng)連通，提供一種間歇性循環(huán)再生納米氧化鑭的設(shè)備，節(jié)省資源。

進(jìn)一步地，所述進(jìn)水口設(shè)置在除磷處理器的側(cè)壁下方，所述出水口設(shè)置在除磷處理器的側(cè)壁上方。

進(jìn)一步地，所述反應(yīng)腔內(nèi)設(shè)置有上分割板和下分割板，并通過上分割板和下分割板將反應(yīng)腔分為上腔體、中部反應(yīng)腔和下腔體，所述出水口連通至中部反應(yīng)腔，內(nèi)襯的上下端口分別和間歇再生系統(tǒng)連通。

進(jìn)一步地，所述除磷處理器一側(cè)設(shè)置有原水池，所述原水池水平位置低于進(jìn)水口并且之間通過設(shè)置有進(jìn)水連接管連同，在所述進(jìn)水連接管上設(shè)置有閥門和水壓泵。

進(jìn)一步地，間歇再生系統(tǒng)包括有設(shè)置在除磷處理器一側(cè)的再生池，所述再生池和反應(yīng)腔之間分別連通有排出管路和排入管路，所述排入管路上設(shè)置有閥門用于關(guān)閉或開啟管道，所述排出管路上設(shè)置有泵體用于將納米氧化鑭吸附劑再生后送入反應(yīng)腔內(nèi)循環(huán)再用。

進(jìn)一步地，所述再生池內(nèi)設(shè)置有氫氧化鈉溶液。

進(jìn)一步地，氫氧化鈉溶液的濃度為1mol/L。

進(jìn)一步地，所述中空纖維膜平均孔徑為：0.4～0.8um。

綜上所述，本實用新型相對于現(xiàn)有技術(shù)其有益效果是：

本實用新型解決了現(xiàn)有除磷技術(shù)裝置中存在的技術(shù)問題，能使納米氧化鑭進(jìn)行進(jìn)行循環(huán)利用，并且間歇性的進(jìn)行納米氧化鑭的再生利用，節(jié)省能源的同時降低加工成本，且結(jié)構(gòu)簡單，使用方便。

附圖說明

圖1為本實用新型的結(jié)構(gòu)原理圖；

圖2為本實用新型的內(nèi)部示意圖。