[實(shí)用新型]一種在中空纖維膜內(nèi)部填裝吸附劑的靜態(tài)接觸式除磷裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202021060758.1
• 申請(qǐng)日: 2020-06-10
• 公開（公告）號(hào): CN213623561U
• 公開（公告）日: 2021-07-06
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 曾香;李娜;胡茂華;徐剛
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 江西中膜環(huán)境技術(shù)有限公司;廣東中膜科技有限公司
• 主分類號(hào): C02F9/04
• 分類號(hào): C02F9/04;C02F1/44;C02F1/28;C02F101/10
• 代理公司: 中山市捷凱專利商標(biāo)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 44327
• 代理人: 楊連華

1.一種在中空纖維膜內(nèi)部填裝吸附劑的靜態(tài)接觸式除磷裝置，包括有除磷處理器(1)，除磷處理器(1)內(nèi)部設(shè)置有反應(yīng)腔(4)，所述除磷處理器(1)上設(shè)置有進(jìn)水口(2)和反應(yīng)腔(4)連通，除磷處理器(1)上設(shè)置有出水口(3)和反應(yīng)腔(4)連通，其特征在于：所述反應(yīng)腔(4)內(nèi)設(shè)置有多條中空纖維膜(6)，中空纖維膜(6)內(nèi)壁設(shè)置有內(nèi)襯(601)，所述內(nèi)襯(601)內(nèi)填充有納米氧化鑭吸附劑(7)，所述除磷處理器(1)一側(cè)設(shè)置有能間歇帶動(dòng)使用后的納米氧化鑭吸附劑(7)再生的間歇再生系統(tǒng)(8)，內(nèi)襯(601)和間歇再生系統(tǒng)(8)連通。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種在中空纖維膜內(nèi)部填裝吸附劑的靜態(tài)接觸式除磷裝置，其特征在于所述進(jìn)水口(2)設(shè)置在除磷處理器(1)的側(cè)壁下方，所述出水口(3)設(shè)置在除磷處理器(1)的側(cè)壁上方。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種在中空纖維膜內(nèi)部填裝吸附劑的靜態(tài)接觸式除磷裝置，其特征在于所述反應(yīng)腔(4)內(nèi)設(shè)置有上分割板(401)和下分割板(402)，并通過(guò)上分割板(401)和下分割板(402)將反應(yīng)腔(4)分為上腔體(403)、中部反應(yīng)腔(404)和下腔體(405)，所述出水口(3)連通至中部反應(yīng)腔(404)，內(nèi)襯(601)的上下端口分別和間歇再生系統(tǒng)(8)連通。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種在中空纖維膜內(nèi)部填裝吸附劑的靜態(tài)接觸式除磷裝置，其特征在于所述除磷處理器(1)一側(cè)設(shè)置有原水池(5)，所述原水池(5)水平位置低于進(jìn)水口(2)并且之間通過(guò)設(shè)置有進(jìn)水連接管(501)連同，在所述進(jìn)水連接管(501)上設(shè)置有閥門和水壓泵。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種在中空纖維膜內(nèi)部填裝吸附劑的靜態(tài)接觸式除磷裝置，其特征在于間歇再生系統(tǒng)(8)包括有設(shè)置在除磷處理器(1)一側(cè)的再生池(801)，所述再生池(801)和反應(yīng)腔(4)之間分別連通有排出管路(802)和排入管路(803)，所述排入管路(803)上設(shè)置有閥門用于關(guān)閉或開啟管道，所述排出管路(802)上設(shè)置有泵體(804)用于將納米氧化鑭吸附劑(7)再生后送入反應(yīng)腔(4)內(nèi)循環(huán)再用。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種在中空纖維膜內(nèi)部填裝吸附劑的靜態(tài)接觸式除磷裝置，其特征在于所述再生池(801)內(nèi)設(shè)置有氫氧化鈉溶液(805)。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種在中空纖維膜內(nèi)部填裝吸附劑的靜態(tài)接觸式除磷裝置，其特征在于氫氧化鈉溶液(805)的濃度為1mol/L。

8.根據(jù)權(quán)利要求1-7任意一項(xiàng)所述的一種在中空纖維膜內(nèi)部填裝吸附劑的靜態(tài)接觸式除磷裝置，其特征在于所述中空纖維膜(6)平均孔徑為：0.4～0.8um。