[實用新型]一種化學(xué)氣相沉淀的基體支撐旋轉(zhuǎn)裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202021030481.8
• 申請日: 2020-06-08
• 公開（公告）號: CN213203195U
• 公開（公告）日: 2021-05-14
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 賀鵬博;周帆
• 申請（專利權(quán)）人: 湖南鎧欣新材料科技有限公司
• 主分類號: C23C16/458
• 分類號: C23C16/458
• 代理公司: 長沙軒榮專利代理有限公司 43235
• 代理人: 張勇

本實用新型提供一種化學(xué)氣相沉淀的基體支撐旋轉(zhuǎn)裝置。所述化學(xué)氣相沉淀的基體支撐旋轉(zhuǎn)裝置包括：底座；腔體，所述腔體開設(shè)在底座上；安裝槽，所述安裝槽開設(shè)在腔體的一側(cè)內(nèi)壁上；電機，所述電機固定安裝在安裝槽的底部內(nèi)壁上，所述電機的輸出軸延伸至腔體內(nèi)；第一錐形齒輪，所述第一錐形齒輪固定安裝在電機的輸出軸上；內(nèi)螺紋管，所述內(nèi)螺紋管轉(zhuǎn)動安裝在腔體內(nèi)；第二錐形齒輪，所述第二錐形齒輪固定套設(shè)在內(nèi)螺紋管上，所述第一錐形齒輪與第二錐形齒輪嚙合；空心管，所述空心管固定安裝在底座的頂部；螺桿，所述螺桿螺紋安裝在內(nèi)螺紋管內(nèi)。本實用新型提供的化學(xué)氣相沉淀的基體支撐旋轉(zhuǎn)裝置具有使用方便，可以自動進(jìn)行封蓋的優(yōu)點。

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型涉及化學(xué)氣相沉淀設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種化學(xué)氣相沉淀的基體支撐旋轉(zhuǎn)裝置。

背景技術(shù)

化學(xué)氣相沉淀，英文簡稱為CVD，是半導(dǎo)體工業(yè)中應(yīng)用最為廣泛的用來沉淀多種材料的技術(shù)，包括大范圍的絕緣材料，大多數(shù)金屬材料和金屬合金材料，由于化學(xué)氣相沉淀的周期較長，需要通過支撐設(shè)備來進(jìn)行存放，使得基體可以在沉淀室中堆疊放置，從而達(dá)到批量生產(chǎn)的目的。

但是，現(xiàn)有技術(shù)中，現(xiàn)有的支撐旋轉(zhuǎn)設(shè)備屬于開放式，并不具備閉合功能，這使得基體在存放過程中可能會沾染上灰塵，因此，有必要提供一種新的化學(xué)氣相沉淀的基體支撐旋轉(zhuǎn)裝置解決上述技術(shù)問題。

實用新型內(nèi)容

本實用新型解決的技術(shù)問題是提供一種使用方便，可以自動進(jìn)行封蓋的化學(xué)氣相沉淀的基體支撐旋轉(zhuǎn)裝置。

為解決上述技術(shù)問題，本實用新型提供的化學(xué)氣相沉淀的基體支撐旋轉(zhuǎn)裝置包括：底座；腔體，所述腔體開設(shè)在底座上；安裝槽，所述安裝槽開設(shè)在腔體的一側(cè)內(nèi)壁上；電機，所述電機固定安裝在安裝槽的底部內(nèi)壁上，所述電機的輸出軸延伸至腔體內(nèi)；第一錐形齒輪，所述第一錐形齒輪固定安裝在電機的輸出軸上；內(nèi)螺紋管，所述內(nèi)螺紋管轉(zhuǎn)動安裝在腔體內(nèi)；第二錐形齒輪，所述第二錐形齒輪固定套設(shè)在內(nèi)螺紋管上，所述第一錐形齒輪與第二錐形齒輪嚙合；空心管，所述空心管固定安裝在底座的頂部；螺桿，所述螺桿螺紋安裝在內(nèi)螺紋管內(nèi)，所述螺桿的頂端延伸至空心管內(nèi)；滑桿，所述滑桿滑動安裝在空心管內(nèi)，所述螺桿的頂端與滑桿的底端固定連接；多個盛放盤，多個盛放盤均轉(zhuǎn)動套設(shè)在空心管上；多個連接塊，多個連接塊分別固定安裝在滑桿的兩側(cè)，所述連接塊的一側(cè)延伸至空心管外；多個封蓋，多個封蓋均固定安裝在對應(yīng)的連接塊上。

優(yōu)選的，所述空心管的兩側(cè)內(nèi)壁上均開設(shè)有多個第一滑孔，多個連接塊分別與對應(yīng)的第一滑孔滑動連接。

優(yōu)選的，所述腔體內(nèi)固定安裝有兩個支撐塊，兩個支撐塊上均開設(shè)有轉(zhuǎn)動通孔，所述內(nèi)螺紋管與兩個轉(zhuǎn)動通孔轉(zhuǎn)動連接。

與相關(guān)技術(shù)相比較，本實用新型提供的化學(xué)氣相沉淀的基體支撐旋轉(zhuǎn)裝置具有如下有益效果：

本實用新型提供一種化學(xué)氣相沉淀的基體支撐旋轉(zhuǎn)裝置，通過電機、第一錐形齒輪、內(nèi)螺紋管、第二錐形齒輪、空心管、螺桿、滑桿、連接塊和封蓋相配合，從而完成了對基體的自動封蓋工作。

為解決上述技術(shù)問題，本實用新型提供的化學(xué)氣相沉淀的基體支撐旋轉(zhuǎn)裝置包括：四個滾輪，四個滾輪呈環(huán)形分布固定安裝在底座的底部，所述底座的頂部開設(shè)有兩個第一凹槽，兩個第一凹槽內(nèi)均滑動安裝有壓桿，所述壓桿的頂端延伸至第一凹槽外，所述底座的兩側(cè)均開設(shè)有第二凹槽，所述第一凹槽的底部與第二凹槽的頂部相連通，所述第二凹槽內(nèi)滑動安裝有推桿，所述推桿的一端延伸至第二凹槽外，所述推桿的一端固定安裝有帶動塊，所述帶動塊的底部延伸至第二凹槽外并固定安裝有阻尼塊,所述阻尼塊與滾輪相接觸，所述帶動塊的頂部開設(shè)有第三凹槽，所述第三凹槽內(nèi)滑動安裝有卡塊，所述卡塊的頂部延伸至第一凹槽內(nèi)，所述第三凹槽的底部內(nèi)壁上固定安裝有第一彈簧，所述第一彈簧的頂端與卡塊的底部固定連接。