[實用新型]單體氣化裝置及其應用的鍍膜設備

有效

• 申請號: 202020997062.5
• 申請日: 2020-06-03
• 公開（公告）號: CN213142177U
• 公開（公告）日: 2021-05-07
• 發明（設計）人: 高文波;李小彭
• 申請（專利權）人: 洛陽生波爾真空裝備有限公司
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56;C23C14/54;C23C16/54;C23C16/52;G01F23/00;G01K13/02
• 代理公司: 中山市捷凱專利商標代理事務所(特殊普通合伙) 44327
• 代理人: 石仁

本申請涉及真空鍍膜領域，尤其涉及一種單體氣化裝置及其應用的鍍膜設備，單體氣化裝置包括箱體，箱體內設有用于封裝液態單體氣的單體容器以及用于對單體容器恒溫加熱的恒溫加熱系統，單體容器上還設有出氣管，通過恒溫加熱系統對單體容器加熱使液態單體氣氣化并使氣化后的單體氣形成一定的帶壓氣源從出氣管流出，且單體容器上還設有用于檢測單體容器內液態單體氣的余量的單體液位測量裝置。本申請的單體液位測量裝置可實時測量液態單體氣液位，以便監測單體氣余量，通過恒溫加熱系統恒溫加熱單體容器，可使單體容器內溫度均勻升高，使得液態單體氣氣化，從而使單體容器內氣態單體形成一定單體壓強，保證其真空鍍膜時的連續性和穩定性。

【技術領域】

本申請涉及真空鍍膜領域，尤其涉及一種單體氣化裝置及其應用的鍍膜設備。

【背景技術】

目前的鍍膜設備一般不具有單體氣余量的監測功能，無法保證單體氣源氣化后的氣源壓強恒定，不滿足真空鍍膜要求，只能靠觀察口處查看或根據設備運行時間來粗略估算單體氣余量，對于設備運行存在隱患，不利于設備整體的運行及維護。

【發明內容】

為解決現有的鍍膜設備不具有單體氣余量的監測功能，無法保證單體氣源氣化后的氣源壓強恒定的問題，本申請提供一種單體氣化裝置及其應用的鍍膜設備。

本申請為解決其技術問題所采用的技術方案：

單體氣化裝置，包括箱體，所述箱體內設有用于封裝液態單體氣的單體容器以及用于對所述單體容器恒溫加熱的恒溫加熱系統，所述單體容器上還設有出氣管，通過所述恒溫加熱系統對單體容器加熱使液態單體氣氣化并使氣化后的單體氣形成一定的帶壓氣源從出氣管流出，且所述單體容器上還設有用于檢測單體容器內液態單體氣的余量的單體液位測量裝置。

如上所述的單體氣化裝置，所述箱體內位于所述單體容器的外周設有注水腔，所述恒溫加熱系統加熱所述注水腔內膽液體進而恒溫加熱所述單體容器。

如上所述的單體氣化裝置，所述恒溫加熱系統包括加熱器、液位傳感器以及溫度傳感器，所述加熱器設于所述注水腔內，所述溫度傳感器和所述液位傳感器均連接所述加熱器，所述溫度傳感器用于實時檢測水溫，并在水溫未達標時控制加熱器加熱以調節水溫，所述液位傳感器設于箱體的側壁，用于測量水位且在水位過低時停止加熱器的加熱。

如上所述的單體氣化裝置，所述箱體的內側設有用于放置所述單體容器的座板，所述座板的下側設有多個間隔設置并與箱體底部相連用于支撐所述座板的支撐板。

如上所述的單體氣化裝置，所述箱體還包括用于密封所述注水腔的蓋板，所述單體液位測量裝置固定于所述蓋板上。

如上所述的單體氣化裝置，所述單體液位測量裝置包括磁感液位計和與所述磁感液位計相連伸入單體容器內的測量管。

如上所述的單體氣化裝置，所述箱體還包括設于注水腔外側的夾層腔體。

如上所述的單體氣化裝置，所述箱體的底部外壁設有與所述注水腔連通的注水口，所述箱體的頂部外壁設有與所述注水腔連通的溢流口。

如上所述的單體氣化裝置，所述箱體的側壁還設有與所述注水腔連通的放水口。

一種鍍膜設備，包括上述的單體氣化裝置。

與現有技術相比，本申請有如下優點：

1、本申請的箱體上設有單體液位測量裝置，可實時測量液態單體氣液位，以便監測單體氣余量，通過恒溫加熱系統恒溫加熱單體容器，可使單體容器內溫度均勻升高，使得液態單體氣氣化，從而使單體容器內氣態單體形成一定單體壓強，保證其真空鍍膜時的連續性和穩定性。