[實用新型]一種用于去污泡沫穩定性測量的試驗裝置有效
| 申請號: | 202020977929.0 | 申請日: | 2020-06-02 |
| 公開(公告)號: | CN212808072U | 公開(公告)日: | 2021-03-26 |
| 發明(設計)人: | 鄧少剛;梁宇;郭麗瀟;梁棟;王永仙;高志婷;郭奇;武明亮;張文俊;張宇航;高亞華 | 申請(專利權)人: | 中國輻射防護研究院 |
| 主分類號: | G01N21/84 | 分類號: | G01N21/84;G01N15/02 |
| 代理公司: | 北京天悅專利代理事務所(普通合伙) 11311 | 代理人: | 田明;任曉航 |
| 地址: | 030006 山*** | 國省代碼: | 山西;14 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 去污 泡沫 穩定性 測量 試驗裝置 | ||
本實用新型提供一種用于去污泡沫穩定性測量的試驗裝置,包括發泡柱、刻度尺、發泡柱底盤、納米曝光盤、氣體入口、氣體控制閥、氣體流量計、液體入口、液體控制閥、高清攝像機、放空閥以及放空口;上述試驗裝置可以同時實現對泡沫半衰期、持液半衰期和泡沫結構粒徑的測量;操作簡單,準確性高,所用閥門、流量計等均可手動控制,通過發泡柱外側刻度尺、高清攝像機等可完成實時測量;結果直觀,便于觀察;本發明裝置中發泡柱采用有機玻璃材質,對于生成的泡沫高度、泡沫液高度等可直接觀察。
技術領域
本實用新型涉及環境保護技術領域,具體涉及一種用于去污泡沫穩定性測量的試驗裝置。
背景技術
泡沫去污技術是針對大體積空腔設備初步去污的有效方法之一,主要應用于系統和設備拆除解體前松散污染的去除,目的是降低拆除解體操作的職業照射和減少污染物擴散的可能性。該技術與用酸堿直接浸泡去污相比具有去污劑消耗量少、去污效率高、二次廢液量少的優勢,特別適用于大體積復雜形狀空腔污染設備的去污。
對于泡沫去污技術而言,要想取得較好的去污效果,需要生成的泡沫能夠有較長的泡沫半衰期和持液半衰期,產生的泡沫應細小而致密。為對不同泡沫液配方生成的泡沫穩定性進行研究,需要設計一套能夠對去污泡沫穩定性進行表征的試驗裝置,使得通過裝置能夠對不同泡沫液產生泡沫的泡沫半衰期、持液半衰期和結構粒徑進行測量。
發明內容
針對現有技術中存在的缺陷,本實用新型的目的在于提供一種用于去污泡沫穩定性測量的試驗裝置,該試驗裝置能夠實現對去污配方液產生泡沫的泡沫半衰期、持液半衰期和結構粒徑進行測量。
為實現上述目的,本實用新型采用的技術方案如下:
一種用于去污泡沫穩定性測量的試驗裝置,所述試驗裝置包括:
發泡柱,所述發泡柱采用透明材質制作而成;
刻度尺,所述刻度尺安裝在所述發泡柱的外端面上,其中所述刻度尺其上零刻度與所述發泡柱底端相對齊;
液體入口,所述液體入口一端與所述發泡柱底端相連通;
液體控制閥,所述液體控制閥安裝接在所述液體入口的另一端上;
氣體入口,所述氣體入口一端與所述發泡柱底端相連通;
氣體控制閥,所述氣體控制閥安裝在所述氣體入口的另一端上;
氣體流量計,所述氣體流量計設置在所述氣體入口和發泡柱連接的管路上;
納米曝光盤,所述納米曝光盤設置在所述發泡柱底端,其中所述氣體入口和液體入口通過所述納米曝光盤與所述發泡柱底端內腔相連通;
以及高清攝像機,所述高清攝像機為多臺,多臺所述高清攝像機沿豎直方向間隔設置在所述發泡柱一側。
進一步,所述試驗裝置還包括泡沫柱底盤,所述發泡柱豎直固定安裝在所述泡沫柱底盤上。
進一步,所述試驗裝置還包括放空口,所述放空口與所述發泡柱內腔底端相連通。
進一步,在所述放空口和發泡柱內腔底端之間還設置有放空閥。
進一步,所述刻度尺粘接在所述發泡柱外端面上。
進一步,所述發泡柱采用有機玻璃制作而成。
本方案中的用于去污泡沫發生裝置其優點在于:
(1)、可以同時實現對泡沫半衰期、持液半衰期和泡沫結構粒徑的測量;
(2)、操作簡單,準確性高,所用閥門、流量計等均可手動控制,通過發泡柱外側刻度尺、高清攝像機等可完成實時測量;
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