[實用新型]一種用于去污泡沫穩定性測量的試驗裝置有效
| 申請號： | 202020977929.0 | 申請日： | 2020-06-02 |
| 公開（公告）號： | CN212808072U | 公開（公告）日： | 2021-03-26 |
| 發明（設計）人： | 鄧少剛;梁宇;郭麗瀟;梁棟;王永仙;高志婷;郭奇;武明亮;張文俊;張宇航;高亞華 | 申請（專利權）人： | 中國輻射防護研究院 |
| 主分類號： | G01N21/84 | 分類號： | G01N21/84;G01N15/02 |
| 代理公司： | 北京天悅專利代理事務所(普通合伙) 11311 | 代理人： | 田明;任曉航 |
| 地址： | 030006 山*** | 國省代碼： | 山西;14 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 用于 去污 泡沫 穩定性 測量 試驗裝置 | ||
1.一種用于去污泡沫穩定性測量的試驗裝置，其特征在于，所述試驗裝置包括：
發泡柱，所述發泡柱采用透明材質制作而成；
刻度尺，所述刻度尺安裝在所述發泡柱的外端面上，其中所述刻度尺其上零刻度與所述發泡柱底端相對齊；
液體入口，所述液體入口一端與所述發泡柱底端相連通；
液體控制閥，所述液體控制閥安裝接在所述液體入口的另一端上；
氣體入口，所述氣體入口一端與所述發泡柱底端相連通；
氣體控制閥，所述氣體控制閥安裝在所述氣體入口的另一端上；
氣體流量計，所述氣體流量計設置在所述氣體入口和發泡柱連接的管路上；
納米曝光盤，所述納米曝光盤設置在所述發泡柱底端，其中所述氣體入口和液體入口通過所述納米曝光盤與所述發泡柱底端內腔相連通；
以及高清攝像機，所述高清攝像機為多臺，多臺所述高清攝像機沿豎直方向間隔設置在所述發泡柱一側。
2.根據權利要求1所述的一種用于去污泡沫穩定性測量的試驗裝置，其特征在于，所述試驗裝置還包括泡沫柱底盤，所述發泡柱豎直固定安裝在所述泡沫柱底盤上。
3.根據權利要求1或2所述的一種用于去污泡沫穩定性測量的試驗裝置，其特征在于，所述試驗裝置還包括放空口，所述放空口與所述發泡柱內腔底端相連通。
4.根據權利要求3所述的一種用于去污泡沫穩定性測量的試驗裝置，其特征在于，在所述放空口和發泡柱內腔底端之間還設置有放空閥。
5.根據權利要求1所述的一種用于去污泡沫穩定性測量的試驗裝置，其特征在于，所述刻度尺粘接在所述發泡柱外端面上。
6.根據權利要求1所述的一種用于去污泡沫穩定性測量的試驗裝置，其特征在于，所述發泡柱采用有機玻璃制作而成。
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