[實用新型]一種用于生產PVD用靶材錠坯的裝粉裝置

有效

• 申請號: 202020971840.3
• 申請日: 2020-06-01
• 公開（公告）號: CN211248328U
• 公開（公告）日: 2020-08-14
• 發明（設計）人: 張鳳戈;岳萬祥;魏鐵峰;史建有
• 申請（專利權）人: 北京安泰六九新材料科技有限公司;涿州安泰六九新材料科技有限公司
• 主分類號: B22F3/00
• 分類號: B22F3/00;B22F5/00;C23C14/22
• 代理公司: 北京五洲洋和知識產權代理事務所(普通合伙) 11387
• 代理人: 劉春成

本實用新型提供一種用于生產PVD用靶材錠坯的裝粉裝置，包括用于盛裝金屬粉末的料桶和吊裝機構，所述料桶的底端連通一裝料管，所述裝料管的高度大于或等于待裝粉的包套管的高度，所述吊裝機構用于吊起所述料桶并驅動所述裝料管沿所述包套管的延伸方向移動以調整所述裝料管插入所述包套管內的深度，本實用新型既能顯著提升裝粉作業效率又可以提升產品質量。

技術領域

本實用新型屬于PVD用靶材生產的技術領域，具體涉及一種用于生產PVD用靶材錠坯的裝粉裝置。

背景技術

物理氣相沉積(PVD)技術是指在真空條件下，采用物理方法，將材料源—固體或液體表面氣化成氣態原子、分子或部分電離成離子，并通過低壓氣體(或等離子體)在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術。物理氣相沉積技術不僅可沉積金屬膜、合金膜，還可以沉積化合物、陶瓷、半導體、聚合物膜等。PVD技術被廣泛應用于航空航天、電子、光學、機械、建筑、輕工、冶金、材料等領域，可制備具有耐磨、耐腐蝕、裝飾、導電、絕緣、光導、壓電、磁性、潤滑、超導等特性的膜層。常見PVD用靶材有Cr靶、Ti靶、Al靶等純金屬靶以及CrAl、TiAl等合金靶材。

熱等靜壓(Hot IsostaticPressing，簡稱HIP)工藝是將制品放置到密閉的容器中，向制品施加各向同等的壓力，同時施以高溫，在高溫高壓的作用下，制品得以燒結和致密化。熱等靜壓是高性能材料生產和新材料開發不可或缺的手段。熱等靜壓可以直接粉末成型，即將粉末裝入金屬或陶瓷制作的包套中，然后使用氮氣、氬氣作加壓介質，使粉末直接加熱加壓燒結成型的粉末冶金工藝。

目前，PVD鍍膜用Cr靶主要通過熱等靜壓的成型方式生產，首先根據靶的不同尺寸設計不同大小的包套管，然后將Cr粉裝入制作好的包套管中，再將裝有Cr粉的包套管真空脫氣、密封，最后將脫氣后的包套管通過熱等靜壓機高溫高壓燒結成Cr錠坯。

在上述成型方式中，將“Cr粉裝入包套管中”這一工序對Cr靶的生產效率和產品質量至關重要，這一過程既需要保證裝粉量足夠多，又要保證裝粉過程中不會引入雜質、異物等。而目前，行業內的裝粉操作僅僅依靠不銹鋼鏟，生產效率低，而且容易引入雜質等，產品質量亦無法保證。特別是對于長徑比較大的包套管，其裝粉難度更高，這是因為在裝粉過程中，不僅需要充分排出包套管里面的空氣以充填更多的Cr粉，同時又要保證較高的裝粉效率以降低企業的生產成本。因此，亟需專用的裝粉裝置來解決上述問題。

實用新型內容

本實用新型的目的是為了克服現有技術中Cr粉的裝粉過程效率低、容易引入雜質等問題，而提出一種用于生產PVD用靶材錠坯的裝粉裝置。

為了實現上述目的，本實用新型提供如下技術方案：

一種用于生產PVD用靶材錠坯的裝粉裝置，包括用于盛裝金屬粉末的料桶和吊裝機構，所述料桶的底端連通一裝料管，所述裝料管的高度大于或等于待裝粉的包套管的高度，所述吊裝機構用于吊起所述料桶并驅動所述裝料管沿所述包套管的延伸方向移動以調整所述裝料管插入所述包套管內的深度。

如上所述的用于生產PVD用靶材錠坯的裝粉裝置，優選地，還包括防塵桶蓋，所述防塵桶蓋蓋設于所述料桶的頂端。

如上所述的用于生產PVD用靶材錠坯的裝粉裝置，優選地，所述料桶、防塵桶蓋和裝料管均采用不銹鋼制作而成，且所述料桶和裝料管的內壁均經過拋光處理。

如上所述的用于生產PVD用靶材錠坯的裝粉裝置，優選地，所述料桶的底端還設有閥門，所述閥門用于控制所述裝料管的通斷。

如上所述的用于生產PVD用靶材錠坯的裝粉裝置，優選地，所述閥門為球閥。

如上所述的用于生產PVD用靶材錠坯的裝粉裝置，優選地，所述吊裝機構包括吊板，所述吊板位于所述料桶的上方，所述吊板的底端對稱設有吊鉤，所述料桶的外壁對稱設有掛耳，所述吊鉤與所述掛耳上下對應設置，且所述吊鉤與所述掛耳相勾掛連接。