[實用新型]一種適用于PECVD設備的爐體調節機構

有效

• 申請號: 202020951444.4
• 申請日: 2020-05-29
• 公開（公告）號: CN212864965U
• 公開（公告）日: 2021-04-02
• 發明（設計）人: 陳暉;王玉明;程海良;陸尉
• 申請（專利權）人: 蘇州拓升智能裝備有限公司
• 主分類號: C23C16/52
• 分類號: C23C16/52;C23C16/513
• 代理公司: 北京遠大卓悅知識產權代理有限公司 11369
• 代理人: 祁云珊

本實用新型公開了一種適用于PECVD設備的爐體調節機構，包括：爐體；與所述爐體接觸連接的至少2根的支撐桿；以及設于所述支撐桿的側端部的調節裝置；其中，所述調節裝置至少設有2組，所述調節裝置可通過所述支撐桿控制所述爐體延X軸方向及Z軸方向往復運動。本實用新型具有通過第一調節組件調節爐體延Z軸方向的位置，通過所述第二調節組件調節爐體延X軸方向的位置，結構簡單，操作省力，且兩者互不干擾的有益效果。

技術領域

本實用新型涉及管式PECVD爐管領域。更具體地說，本實用新型涉及一種適用于PECVD設備的爐體調節機構。

背景技術

太陽能電池是一種具有光-電轉換特性的半導體器件，它直接將太陽輻射能轉換成直流電，是光伏収電的最基本單元，在太陽能收集轉化過程中，太陽光照射到太陽能電池的硅片上，其中一部分太陽光會被反射，即使對將硅表面設計成絨面，雖然入射光會產生多次反射可以增加光的吸收率，但是，還是會有一部分的太陽光會被反射，據測算，光在硅表面的反射損失率高達35％左右，減反膜可以極高地提高電池片對太陽光的利用率，有助于提高光生電流密度，進而提高轉換效率，同時薄膜中的氫對于電池片表面的鈍化降低了發射結的表面復合速率，減小了暗電流，提升了開路電壓，提高了光電轉換效率；在燒穿工藝中的高溫瞬時退火斷裂了一些Si-H、N-H鍵，游離出來的H進一步加強了對電池的鈍化。

薄膜制備工藝按照其成膜方法可分為兩大類：物理氣象沉積(PVD)和化學氣象沉積(CVD)。等離子增強型化學氣相沉積(PECVD)是化學氣相沉積的一種，PECVD(PlasmaEnhanced Chemical Vapor Deposition)等離子增強化學氣相沉積，等離子體是物質分子熱運動加劇，相互間的碰撞會導致氣體分子產生電離，物質就會變成自由運動并由相互作用的正離子、電子和中性粒子組成的混合物，其沉積溫度低是其最突出的優點。PECVD的薄膜具有優良的電學性能、良好的襯底附著性以及極佳的臺階覆蓋性。

隨著PECVD設備的產能要求越來越高，由最初的單管240片發展到現在的432片，石墨舟的尺寸變的越來越大，PECVD設備也由當初的兩管發展到現在的五管，單臺設備中爐管使用頻率也在增加，在工廠中一般經過一到三個月的使用周期后，需要將石英管從爐管中取出清洗，清洗后重新裝上石英管時，需要調節石英管的中心線與法蘭的中心線重合，傳統的調節方式通過旋轉兩根調節螺絲調節爐管的位置，在調節左右方向位置時，上下方向也會移動，所以在調節時需要反復旋轉調節螺絲，費時費力。

有鑒于此，實有必要開發一種適用于PECVD設備的爐體調節機構用以解決上述問題。

實用新型內容

針對現有技術中存在的不足之處，本實用新型的目的是提供一種適用于PECVD設備的爐體調節機構，其通過第一調節組件調節爐體延Z軸方向的位置，通過所述第二調節組件調節爐體延X軸方向的位置，結構簡單，操作省力，且兩者互不干擾。

為了實現根據本實用新型的這些目的和其它優點，提供了一種適用于PECVD設備的爐體調節機構，包括：爐體；與所述爐體接觸連接的至少2根的支撐桿；以及設于所述支撐桿的側端部的調節裝置；

其中，所述調節裝置至少設有2組，所述調節裝置可通過所述支撐桿控制所述爐體延X軸方向及Z軸方向往復運動。

優選的是，所述支撐桿延Y軸方向延伸，且相鄰的兩支撐桿之間限定出所述爐體的放置空間。

優選的是，所述調節裝置包括：固定底座；

固接于所述固定底座頂端部的導軌塊，所述導軌塊的中部開設有一導向槽；

設于所述導向槽內部且與所述導軌塊滑動連接的第一調節組件；以及

設于所述導軌塊側端部的第二調節組件；

其中，所述導軌塊延Y軸方向兩側設有導向部，所述導向部延X軸方向延伸，所述導軌塊延X軸方向兩側設有限位部。