[實用新型]一種適用于PECVD設備的爐體調節機構有效
| 申請號: | 202020951444.4 | 申請日: | 2020-05-29 |
| 公開(公告)號: | CN212864965U | 公開(公告)日: | 2021-04-02 |
| 發明(設計)人: | 陳暉;王玉明;程海良;陸尉 | 申請(專利權)人: | 蘇州拓升智能裝備有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/52 | 分類號: | C23C16/52;C23C16/513 |
| 代理公司: | 北京遠大卓悅知識產權代理有限公司 11369 | 代理人: | 祁云珊 |
| 地址: | 215000 江蘇省蘇州市*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 適用于 pecvd 設備 調節 機構 | ||
1.一種適用于PECVD設備的爐體調節機構,其特征在于,包括:爐體(11);與所述爐體(11)接觸連接的至少2根的支撐桿(12);以及設于所述支撐桿(12)的側端部的調節裝置(13);
其中,所述調節裝置(13)至少設有2組,所述調節裝置(13)可通過所述支撐桿(12)控制所述爐體(11)延X軸方向及Z軸方向往復運動。
2.如權利要求1所述的適用于PECVD設備的爐體調節機構,其特征在于,所述支撐桿(12)延Y軸方向延伸,且相鄰的兩支撐桿(12)之間限定出所述爐體(11)的放置空間。
3.如權利要求1所述的適用于PECVD設備的爐體調節機構,其特征在于,所述調節裝置(13)包括:固定底座(131);
固接于所述固定底座(131)頂端部的導軌塊(132),所述導軌塊(132)的中部開設有一導向槽(1321);
設于所述導向槽(1321)內部且與所述導軌塊(132)滑動連接的第一調節組件(133);以及
設于所述導軌塊(132)側端部的第二調節組件(134);
其中,所述導軌塊(132)延Y軸方向兩側設有導向部(1322),所述導向部(1322)延X軸方向延伸,所述導軌塊(132)延X軸方向兩側設有限位部(1323)。
4.如權利要求3所述的適用于PECVD設備的爐體調節機構,其特征在于,所述第一調節組件(133)包括:設于所述導向槽(1321)內部的驅動絲桿(1331),以及
套接于驅動絲杠(1331)表面且與驅動絲杠(1331)螺接的活動塊(1332),所述活動塊(1332)至少設有2個;
其中,兩活動塊(1332)通過連接座(1333)分別與兩所述支撐桿(12)相固接。
5.如權利要求4所述的適用于PECVD設備的爐體調節機構,其特征在于,所述驅動絲桿(1331)包括:第一螺旋部(1331a);以及第二螺旋部(1331b);所述第一螺旋部(1331a)及所述第二螺旋部(1331b)對稱設置,且所述第一螺旋部(1331a)及所述第二螺旋部(1331b)的螺牙螺旋方向相反;
其中,兩活動塊(1332)分別與所述第一螺旋部(1331a)及所述第二螺旋部(1331b)螺接。
6.如權利要求4所述的適用于PECVD設備的爐體調節機構,其特征在于,所述驅動絲桿(1331)的兩側端部均設有絲桿安裝座(1334),所述驅動絲桿(1331)與所述絲桿安裝座(1334)轉動連接;所述絲桿安裝座(1334)與所述導向部(1322)滑動連接,且所述絲桿安裝座(1334)可延所述導向部(1322)延伸方向往復滑動。
7.如權利要求6所述的適用于PECVD設備的爐體調節機構,其特征在于,所述第二調節組件(134)包括:調節螺栓(1341),其通過固定板(1342)固接于所述固定底座(131)的頂端部;以及
調節板(1343),所述調節板(1343)與所述導向部(1322)滑動連接,且所述調節板(1343)可延所述導向部(1322)延伸方向往復滑動;
其中,所述調節螺栓(1341)至少設有2個,所述調節螺栓(1341)的螺紋部與所述調節板(1343)固接,所述調節板(1343)與所述絲桿安裝座(1334)固接。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于蘇州拓升智能裝備有限公司,未經蘇州拓升智能裝備有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202020951444.4/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





