[實用新型]用于等離子體室的邊緣環(huán)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202020930152.2
• 申請日: 2020-05-28
• 公開（公告）號: CN212676216U
• 公開（公告）日: 2021-03-09
• 發(fā)明（設計）人: 邁克爾·C·凱洛格;亞當·克里斯多夫·梅斯;阿列克謝·馬拉霍塔諾夫;約翰·霍蘭德;陳志剛;菲力克斯·萊布·科扎克維奇;亞歷山大·馬丘什金;肖恩·東海林
• 申請（專利權）人: 朗姆研究公司
• 主分類號: H01J37/02
• 分類號: H01J37/02;H01J37/32
• 代理公司: 上海勝康律師事務所 31263
• 代理人: 樊英如;張靜

1.一種用于等離子體室的邊緣環(huán)，所述邊緣環(huán)被配置為沿著襯底支撐件的外圍放置，所述邊緣環(huán)的特征在于，

所述邊緣環(huán)的頂部包括：

內部臺階區(qū)域；

頂部傾斜區(qū)域；

中間頂部區(qū)域；

外部臺階區(qū)域，其中所述中間頂部區(qū)域在所述頂部傾斜區(qū)域和所述外部臺階區(qū)域之間延伸，以及所述頂部傾斜區(qū)域位于所述內部臺階區(qū)域和所述中間頂部區(qū)域之間，其中所述頂部傾斜區(qū)域具有頂部傾斜表面；以及

所述邊緣環(huán)的底部包括內底部環(huán)表面、中間底部傾斜表面和外底部環(huán)表面，其中所述中間底部傾斜表面在所述內底部環(huán)表面和所述外底部環(huán)表面之間，其中所述外底部環(huán)表面具有從所述外底部環(huán)表面形成到所述邊緣環(huán)中的多個螺釘插孔件。

2.根據(jù)權利要求1所述的邊緣環(huán)，其中所述中間頂部區(qū)域包括頂部環(huán)表面的一部分，其中所述多個螺釘插孔件中的每一個延伸到在所述外底部環(huán)表面與所述頂部環(huán)表面之間的深度。

3.根據(jù)權利要求1所述的邊緣環(huán)，其中所述多個螺釘插孔件中的每一個具有容納螺紋。

4.根據(jù)權利要求1所述的邊緣環(huán)，其中所述多個螺釘插孔件中的每一個具有被配置為與螺釘?shù)穆菁y接合的容納螺紋。

5.根據(jù)權利要求1所述的邊緣環(huán)，其中所述內部臺階區(qū)域具有頂部止擋表面，其中所述多個螺釘插孔件中的每一個從所述外底部環(huán)表面延伸到所述中間頂部區(qū)域中，以及具有低于所述頂部止擋表面的水平高度的頂部表面。

6.根據(jù)權利要求5所述的邊緣環(huán)，具有外底部表面，其中所述頂部表面高于所述外底部表面的水平高度。

7.根據(jù)權利要求1所述的邊緣環(huán)，其中所述多個螺釘插孔件中的每一個不在所述中間頂部區(qū)域內形成通孔。

8.根據(jù)權利要求1所述的邊緣環(huán)，其中所述多個螺釘插孔件中的每一個部分地延伸到所述中間頂部區(qū)域中。

9.根據(jù)權利要求1所述的邊緣環(huán)，其中所述邊緣環(huán)具有內頂部臺階區(qū)域和內底部臺階區(qū)域，其中所述內頂部臺階區(qū)域位于所述內底部臺階區(qū)域上方，其中所述多個螺釘插孔件中的每一個延伸到所述內底部臺階區(qū)域中而不延伸到所述內頂部臺階區(qū)域中。

10.根據(jù)權利要求1所述的邊緣環(huán)，其中所述中間頂部區(qū)域包括頂部環(huán)表面的一部分，其中所述內部臺階區(qū)域具有頂部止擋表面，其中所述頂部傾斜區(qū)域提供從所述頂部環(huán)表面向下到所述頂部止擋表面的斜坡，其中所述中間底部傾斜表面提供從所述外底部環(huán)表面向下到所述內底部環(huán)表面的斜坡。