[實用新型]均勻布氣的布氣裝置及真空磁控濺射鍍膜設備

有效

• 申請號: 202020917222.0
• 申請日: 2020-05-27
• 公開（公告）號: CN213037834U
• 公開（公告）日: 2021-04-23
• 發明（設計）人: 李建華;徐從高;李自全;高文波
• 申請（專利權）人: 洛陽生波爾真空裝備有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/56
• 代理公司: 中山市捷凱專利商標代理事務所(特殊普通合伙) 44327
• 代理人: 石仁;何金芳

1.均勻布氣的布氣裝置，其特征在于，包括中空的裝置本體(1)，所述裝置本體(1)上設有用于排出工藝氣體的出氣孔(2)，所述出氣孔(2)上可分離地連接有用于封堵所述出氣孔(2)的調節件(31)，所述調節件(31)上設有與所述裝置本體(1)內部連通的調節通孔(32)。

2.根據權利要求1所述的均勻布氣的布氣裝置，其特征在于，所述出氣孔(2)上設有內螺紋，所述調節件(31)上設有與所述內螺紋螺紋配合的外螺紋。

3.根據權利要求1所述的均勻布氣的布氣裝置，其特征在于，所述調節件(31)包括設置在所述出氣孔(2)內的螺桿(312)，所述螺桿(312)上連接有卡接在所述裝置本體(1)外側的螺帽(311)，所述調節通孔(32)貫穿所述螺桿(312)和所述螺帽(311)設置。

4.根據權利要求1所述的均勻布氣的布氣裝置，其特征在于，所述調節通孔(32)沿所述調節件(31)的軸線方向延伸。

5.根據權利要求1所述的均勻布氣的布氣裝置，其特征在于，所述調節通孔(32)的孔徑為0.2mm～0.8mm。

6.根據權利要求1所述的均勻布氣的布氣裝置，其特征在于，所述裝置本體(1)包括設于最內側的主進氣管(11)和設置在所述主進氣管(11)上并與所述主進氣管(11)連通的副進氣管組(12)，所述主進氣管(11)上設有主進氣孔(111)。

7.根據權利要求6所述的均勻布氣的布氣裝置，其特征在于，所述副進氣管組(12)包括多個依次層疊連接且相互連通的子進氣管(122)，所述子進氣管(122)上設有所述出氣孔(2)和與所述出氣孔(2)相對且交錯的子進氣孔，在兩相鄰的所述子進氣管(122)中，一所述子進氣管(122)上的所述子進氣孔與另一所述子進氣管(122)上的所述出氣孔(2)數量匹配且連通，最外側的所述子進氣管(122)上的所述出氣孔(2)設有所述調節件(31)。

8.根據權利要求7所述的均勻布氣的布氣裝置，其特征在于，所述子進氣管(122)上的所述出氣孔(2)的數量多于所述子進氣孔的數量。

9.根據權利要求1所述的均勻布氣的布氣裝置，其特征在于，所述裝置本體(1)上設有多個沿所述裝置本體(1)長度方向間隔分布的所述出氣孔(2)。

10.真空磁控濺射鍍膜設備，包括磁控濺射靶(8)，其特征在于，包括與磁控濺射靶(8)配備布置的如權利要求1-9任一所述的均勻布氣的布氣裝置。