[實(shí)用新型]一種用于CVD設(shè)備的反應(yīng)室渦輪結(jié)構(gòu)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202020797191.X
• 申請日: 2020-05-13
• 公開（公告）號: CN212560430U
• 公開（公告）日: 2021-02-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉子優(yōu);肖蘊(yùn)章;陳炳安;鐘國仿;張燦
• 申請（專利權(quán)）人: 深圳市納設(shè)智能裝備有限公司
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455;C23C16/458
• 代理公司: 北京聯(lián)瑞聯(lián)豐知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11411
• 代理人: 鄭自群

1.一種用于CVD設(shè)備的反應(yīng)室渦輪結(jié)構(gòu)，其特征在于，包括腔室，所述腔室內(nèi)設(shè)置有旋轉(zhuǎn)支撐柱，所述旋轉(zhuǎn)支撐柱沿著軸向方向均勻設(shè)置有多個葉片，所述葉片上設(shè)置有凹槽，通過所述凹槽安裝有晶圓，所述旋轉(zhuǎn)支撐柱還設(shè)置有氣體分流板，所述氣體分流板設(shè)于所述葉片的下方；所述氣體分流板設(shè)置有多個分流孔，所述腔室的底部設(shè)置有連通尾氣系統(tǒng)的排氣孔。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于CVD設(shè)備的反應(yīng)室渦輪結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述葉片設(shè)置有六個。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于CVD設(shè)備的反應(yīng)室渦輪結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述氣體分流板以所述旋轉(zhuǎn)支撐柱為旋轉(zhuǎn)中心，周向均勻設(shè)置有多個分流孔。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于CVD設(shè)備的反應(yīng)室渦輪結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述排氣孔設(shè)于多個所述分流孔形成的圓弧上。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于CVD設(shè)備的反應(yīng)室渦輪結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述腔室還均勻開設(shè)有四組出氣口。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的用于CVD設(shè)備的反應(yīng)室渦輪結(jié)構(gòu)，其特征在于，每組所述出氣口設(shè)置有八個出氣孔。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于CVD設(shè)備的反應(yīng)室渦輪結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述葉片的傾斜角度為45°-60°。