[實用新型]一種可實現光學元件面形高精度控制的鍍膜裝置

有效

• 申請號: 202020782677.6
• 申請日: 2020-05-12
• 公開（公告）號: CN212051636U
• 公開（公告）日: 2020-12-01
• 發明（設計）人: 沈清;李旭光
• 申請（專利權）人: 無錫奧夫特光學技術有限公司
• 主分類號: C23C14/50
• 分類號: C23C14/50;C23C16/458
• 代理公司: 無錫派爾特知識產權代理事務所(普通合伙) 32340
• 代理人: 楊立秋

本實用新型公開一種可實現光學元件面形高精度控制的鍍膜裝置，屬于高精度鍍膜技術領域。所述可實現光學元件面形高精度控制的鍍膜裝置包括工件盤、鍍膜夾具和光學元件；所述工件盤開有旋轉空腔，所述鍍膜夾具放置于所述旋轉空腔中，所述鍍膜夾具與所述工件盤轉動連接；所述光學元件放置于所述鍍膜夾具中，并通過滑動卡扣機構固定安裝。該可實現光學元件面形高精度控制的鍍膜裝置通過電機控制所述鍍膜夾具既能夠保證光學元件的雙面受熱均勻，還能保證光學元件兩面的鍍膜環境相同；在完成雙面鍍膜之后，兩面光學薄膜同時應力釋放，并且保持幾乎完全等同的應力釋放速率；在實現超高面形偏差精度的同時還能減少鍍膜返工次數，降低了時間和資金成本。

技術領域

本實用新型涉及高精度鍍膜技術領域，特別涉及一種可實現光學元件面形高精度控制的鍍膜裝置。

背景技術

面形偏差是評估光學元件成像質量的重要指標。光學元件的面形偏差對光束線的焦點尺寸有極大影響。目前，最常規的操作是將產品鍍完一面之后從爐腔中取出翻面再重新進爐對另外一面進行鍍膜。然而，由于薄膜在兩次鍍膜間隔中應力緩慢釋放，最終產品的面形偏差難以精準控制以至于時常需要返工，這無疑增加了時間與資金成本。因此對于光學膜產品（特別是薄膜基底），低成本、高精準實現高質量面形偏差控制是亟待解決的問題。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供一種可實現光學元件面形高精度控制的鍍膜裝置，以解決由于光學元件正反兩面依次鍍膜間隔中應力會緩慢釋放所導致面形偏差難以精準控制的問題。

為解決上述技術問題，本實用新型提供一種可實現光學元件面形高精度控制的鍍膜裝置，包括工件盤、鍍膜夾具和光學元件；

所述工件盤開有旋轉空腔，所述鍍膜夾具放置于所述旋轉空腔中，所述鍍膜夾具與所述工件盤轉動連接；

所述光學元件放置于所述鍍膜夾具中，并通過滑動卡扣機構固定安裝。

可選的，所述鍍膜夾具兩側分別通過轉軸轉動連接。

可選的，所述轉軸外部連接有電機，電機轉動，帶動所述轉軸以及所述鍍膜夾具轉動。

可選的，所述鍍膜夾具上開有若干個滑槽，所述滑槽中均滑動連接有滑動擋塊。

可選的，所述滑動卡扣機構共設有八組，四組位于所述鍍膜夾具正面四邊；另外四組位于所述鍍膜夾具背面四邊。

可選的，所述滑動擋塊上開有定位孔。

在本實用新型中提供了一種可實現光學元件面形高精度控制的鍍膜裝置，包括工件盤、鍍膜夾具和光學元件；所述工件盤開有旋轉空腔，所述鍍膜夾具放置于所述旋轉空腔中，所述鍍膜夾具與所述工件盤轉動連接；所述光學元件放置于所述鍍膜夾具中，并通過滑動卡扣機構固定安裝。該可實現光學元件面形高精度控制的鍍膜裝置能夠在鍍完一面光學膜之后通過電機控制旋轉繼而進行第二面鍍制，整個鍍膜過程連貫，無需開爐；所述鍍膜夾具既能夠保證光學元件的雙面受熱均勻，還能保證光學元件兩面的鍍膜環境相同；所述鍍膜環境主要特指光學元件與光學薄膜的應力累積環境；在完成雙面鍍膜之后，兩面光學薄膜同時應力釋放，并且保持幾乎完全等同的應力釋放速率；在實現超高面形偏差精度的同時還能減少鍍膜返工次數和開爐次數，降低了時間和資金成本。

附圖說明

圖1是本實用新型提供的一種可實現光學元件面形高精度控制的鍍膜裝置的結構示意圖；

圖2是本實用新型提供的一種可實現光學元件面形高精度控制的鍍膜裝置滑動卡扣機構的放大圖。

具體實施方式