[實用新型]貯藏器和基板處理裝置

有效

• 申請號: 202020706363.8
• 申請日: 2020-04-30
• 公開（公告）號: CN212135138U
• 公開（公告）日: 2020-12-11
• 發明（設計）人: 牟田友彥;柴田大樹;甲斐亞希子;緒方誠
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: G03F7/16
• 分類號: G03F7/16;G03F7/30;H01L21/027;H01L21/67
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;張會華

本實用新型提供一種貯藏器和基板處理裝置。用于防止向作為被處理體的基板供給含有泡的處理液。貯藏器具備：容器部，其具有上壁、側壁以及底壁，在內部收容處理液；液體噴出路徑，其具有設置在比收容于容器部內的處理液的液面高的位置的液體噴出口，能夠向容器部內噴出處理液；以及氣體噴出路徑，其具有設置在比液面高的位置的氣體噴出口，能夠向容器部內噴出氣體。液體噴出路徑能夠以使處理液碰到側壁中的比液面靠上方的部分的方式從液體噴出口噴出處理液。氣體噴出路徑能夠以使氣體碰到比容器部的內表面中的比液面靠上方的部分的方式從氣體噴出口噴出氣體。

技術領域

本公開涉及一種貯藏器、基板處理裝置以及貯藏器的使用方法。

背景技術

在專利文獻1中公開有一種使被處理體旋轉而對被處理體進行處理的抗蝕劑處理裝置。該抗蝕劑處理裝置具備向被處理體的被處理面供給用于處理的抗蝕劑或顯影液的部件以及檢測用于處理的抗蝕劑或顯影液的收納容器(貯藏器)的余量的部件。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開平1-220827號公報

實用新型內容

實用新型要解決的問題

存在使用具有易于發泡的性質的化學溶液作為抗蝕劑或顯影液等處理液的情況。本公開提供一種能夠防止向作為被處理體的基板供給含有泡的處理液的貯藏器、基板處理裝置以及貯藏器的使用方法。

用于解決問題的方案

本公開的一方面的貯藏器具備：容器部，其具有上壁、側壁以及底壁，在內部收容處理液；液體噴出路徑，其具有設置在比收容于容器部內的處理液的液面高的位置的液體噴出口，能夠向容器部內噴出處理液；以及氣體噴出路徑，其具有設置在比液面高的位置的氣體噴出口，能夠向容器部內噴出氣體。液體噴出路徑能夠以使處理液碰到側壁的內表面中的比液面靠上方的部分的方式從液體噴出口噴出處理液。氣體噴出路徑能夠以使氣體碰到比容器部的內表面中的比液面靠上方的部分的方式從氣體噴出口噴出氣體。

對于上述貯藏器，也可以是，所述液體噴出路徑的包括所述液體噴出口的端部的延伸方向相對于鉛垂方向傾斜。

對于上述貯藏器，也可以是，在與鉛垂方向交叉的平面中，所述側壁的內表面的截面是圓形狀，從鉛垂方向觀察時，沿著所述液體噴出路徑的包括所述液體噴出口的端部的延伸方向延伸的假想線、以及沿著所述氣體噴出路徑的包括所述氣體噴出口的端部的延伸方向延伸的假想線這兩者不與所述側壁的內表面正交。

對于上述貯藏器，也可以是，從鉛垂方向觀察時，所述液體噴出口和所述氣體噴出口隔著所述容器部內的中心彼此相對。

對于上述貯藏器，也可以是，該貯藏器還具備用于分別檢測所述液面的高度達到預定位置的情況的多個液面檢測部，述多個液面檢測部各自檢測的所述預定位置比所述液體噴出口、所述氣體噴出口、從所述液體噴出口噴出的所述處理液碰到所述側壁的位置、以及從所述氣體噴出口噴出的所述氣體碰到所述容器部的位置低。

對于上述貯藏器，也可以是，所述側壁的內表面中的位于比所述液體噴出口靠下方的位置的至少一部分以使所述處理液順著所述側壁的內表面流動的方式相對于鉛垂方向傾斜。

對于上述貯藏器，也可以是，所述液體噴出路徑具有：噴出部，其包括所述液體噴出口；和送出部，其將所述處理液輸送到所述噴出部，所述噴出部的流路截面積比所述送出部的流路截面積大。