[實用新型]貯藏器和基板處理裝置

有效

• 申請號: 202020706363.8
• 申請日: 2020-04-30
• 公開（公告）號: CN212135138U
• 公開（公告）日: 2020-12-11
• 發明（設計）人: 牟田友彥;柴田大樹;甲斐亞希子;緒方誠
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: G03F7/16
• 分類號: G03F7/16;G03F7/30;H01L21/027;H01L21/67
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;張會華

1.一種貯藏器，其特征在于，

該貯藏器具備：

容器部，其具有上壁、側壁以及底壁，在內部收容處理液；

液體噴出路徑，其具有設置在比收容于所述容器部內的所述處理液的液面高的位置的液體噴出口，能夠向所述容器部內噴出所述處理液；以及

氣體噴出路徑，其具有設置在比所述液面高的位置的氣體噴出口，能夠向所述容器部內噴出氣體，

所述液體噴出路徑能夠以使所述處理液碰到所述側壁的內表面中的比所述液面靠上方的部分的方式從所述液體噴出口噴出所述處理液，

所述氣體噴出路徑能夠以使所述氣體碰到所述容器部的內表面中的比所述液面靠上方的部分的方式從所述氣體噴出口噴出所述氣體。

2.根據權利要求1所述的貯藏器，其特征在于，

所述液體噴出路徑的包括所述液體噴出口的端部的延伸方向相對于鉛垂方向傾斜。

3.根據權利要求1所述的貯藏器，其特征在于，

在與鉛垂方向交叉的平面中，所述側壁的內表面的截面是圓形狀，

從鉛垂方向觀察時，沿著所述液體噴出路徑的包括所述液體噴出口的端部的延伸方向延伸的假想線、以及沿著所述氣體噴出路徑的包括所述氣體噴出口的端部的延伸方向延伸的假想線這兩者不與所述側壁的內表面正交。

4.根據權利要求3所述的貯藏器，其特征在于，

從鉛垂方向觀察時，所述液體噴出口和所述氣體噴出口隔著所述容器部內的中心彼此相對。

5.根據權利要求1～4中任一項所述的貯藏器，其特征在于，

該貯藏器還具備用于分別檢測所述液面的高度達到預定位置的情況的多個液面檢測部，

所述多個液面檢測部各自檢測的所述預定位置比所述液體噴出口、所述氣體噴出口、從所述液體噴出口噴出的所述處理液碰到所述側壁的位置、以及從所述氣體噴出口噴出的所述氣體碰到所述容器部的位置低。

6.根據權利要求1或2所述的貯藏器，其特征在于，

所述側壁的內表面中的位于比所述液體噴出口靠下方的位置的至少一部分以使所述處理液順著所述側壁的內表面流動的方式相對于鉛垂方向傾斜。

7.根據權利要求1或2所述的貯藏器，其特征在于，

所述液體噴出路徑具有：噴出部，其包括所述液體噴出口；和送出部，其將所述處理液輸送到所述噴出部，

所述噴出部的流路截面積比所述送出部的流路截面積大。

8.一種基板處理裝置，其特征在于，

該基板處理裝置具備：

液供給部，其具有暫時積存用于基板處理的處理液的貯藏器；以及

噴嘴，其朝向處理對象的基板噴出從所述液供給部供給的所述處理液，

所述貯藏器包括：

容器部，其具有上壁、側壁以及底壁，在內部收容處理液；

液體噴出路徑，其具有設置在比收容于所述容器部內的所述處理液的液面高的位置的液體噴出口，能夠向所述容器部內噴出所述處理液；以及

氣體噴出路徑，其具有設置在比所述液面高的位置的氣體噴出口，能夠向所述容器部內噴出氣體，

所述液體噴出路徑能夠以使所述處理液碰到所述側壁的內表面中的比所述液面靠上方的部分的方式從所述液體噴出口噴出所述處理液，

所述氣體噴出路徑能夠以使所述氣體碰到所述容器部的內表面中的比所述液面靠上方的部分的方式從所述氣體噴出口噴出所述氣體。

9.根據權利要求8所述的基板處理裝置，其特征在于，

該基板處理裝置還具備控制所述液供給部的控制裝置，

所述液供給部還具有：氣體送出管，其經由所述氣體噴出路徑向所述貯藏器供給所述氣體；和壓力調節部，其設置于所述氣體送出管，用于調節所述容器部內的由所述氣體形成的壓力，

所述控制裝置控制所述壓力調節部，以便在從壓力被釋放了的狀態對所述容器部內進行加壓之際，使所述容器部內的壓力逐漸上升。