[實(shí)用新型]一種用于鍍膜的公自轉(zhuǎn)鍍膜裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202020699553.1
• 申請(qǐng)日: 2020-04-30
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN212199404U
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-12-22
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 余海春;戴曉東;陳韶華;卜欽欽
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 光馳科技（上海）有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/50
• 分類號(hào): C23C14/50;C23C14/54
• 代理公司: 上海申蒙商標(biāo)專利代理有限公司 31214
• 代理人: 周宇凡

本實(shí)用新型涉及薄膜制備技術(shù)領(lǐng)域，尤其是一種用于鍍膜的公自轉(zhuǎn)鍍膜裝置，包括真空腔體、大轉(zhuǎn)架、小轉(zhuǎn)架，大轉(zhuǎn)架和小轉(zhuǎn)架均設(shè)置在真空腔體的內(nèi)部，其中小轉(zhuǎn)架安裝在大轉(zhuǎn)架上且兩者之間構(gòu)成轉(zhuǎn)動(dòng)配合；大轉(zhuǎn)架連接有公轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置，公轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置設(shè)置在真空腔體的外部，公轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置連接驅(qū)動(dòng)大轉(zhuǎn)架在真空腔體內(nèi)公轉(zhuǎn)，小轉(zhuǎn)架連接有自轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置，自轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置設(shè)置在真空腔體的內(nèi)部，自轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置連接驅(qū)動(dòng)小轉(zhuǎn)架在大轉(zhuǎn)架上的自轉(zhuǎn)；大轉(zhuǎn)架和小轉(zhuǎn)架為圓筒式轉(zhuǎn)架。本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)是：通過(guò)調(diào)節(jié)公轉(zhuǎn)與自轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)速比例,可以改變沉積時(shí)間的分布，改善薄膜厚度的均勻性，具有制得的薄膜均勻性更好、濺射效率高等優(yōu)點(diǎn)。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及薄膜制備技術(shù)領(lǐng)域，尤其是一種用于鍍膜的公自轉(zhuǎn)鍍膜裝置。

背景技術(shù)

制備光學(xué)薄膜常用的方法有兩種，一種是濺射法，一種是蒸發(fā)法。在濺射法中，通常是利用離子轟擊靶材表面，靶材的原子被轟擊出來(lái)并沉積在基板表面成膜。在蒸發(fā)法中，通常是利用電子束或熱蒸發(fā)的方式使基板表面沉積光學(xué)薄膜。

常規(guī)成膜裝置通過(guò)基板托盤(pán)（工件盤(pán)）公自轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu)提高基板表面沉積薄膜的均勻性。基板表面沉積薄膜的均勻性及精度與基板托盤(pán)（工件盤(pán)）的公自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速比例，基板托盤(pán)公自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速息息相關(guān)。且不同鍍膜材料獲得高均勻性薄膜所需的公自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速比例不盡相同。而隨著光學(xué)薄膜應(yīng)用的不斷拓展，越來(lái)越多的產(chǎn)品上均通過(guò)鍍膜來(lái)提高其使用性能，但對(duì)于曲面結(jié)構(gòu)復(fù)雜的產(chǎn)品而言，目前并未有較好的設(shè)備來(lái)實(shí)現(xiàn)其表面的鍍膜。

發(fā)明內(nèi)容

本實(shí)用新型的目的是根據(jù)上述現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供了一種用于鍍膜的公自轉(zhuǎn)鍍膜裝置，通過(guò)設(shè)置大轉(zhuǎn)架及小轉(zhuǎn)架實(shí)現(xiàn)公轉(zhuǎn)和自轉(zhuǎn)，從而可改變承載在小轉(zhuǎn)架上的鍍膜產(chǎn)品所受沉積時(shí)間的分布，從而改善薄膜厚度的均勻性。

本實(shí)用新型目的實(shí)現(xiàn)由以下技術(shù)方案完成：

一種用于鍍膜的公自轉(zhuǎn)鍍膜裝置，其特征在于：所述裝置包括真空腔體、大轉(zhuǎn)架、小轉(zhuǎn)架，所述大轉(zhuǎn)架和所述小轉(zhuǎn)架均設(shè)置在所述真空腔體的內(nèi)部，其中所述小轉(zhuǎn)架安裝在所述大轉(zhuǎn)架上且兩者之間構(gòu)成轉(zhuǎn)動(dòng)配合；所述大轉(zhuǎn)架連接有公轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置，所述公轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置設(shè)置在所述真空腔體的外部，所述公轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置連接驅(qū)動(dòng)所述大轉(zhuǎn)架在所述真空腔體內(nèi)公轉(zhuǎn)，所述小轉(zhuǎn)架連接有自轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置，所述自轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置設(shè)置在所述真空腔體的內(nèi)部，所述自轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置連接驅(qū)動(dòng)所述小轉(zhuǎn)架在所述大轉(zhuǎn)架上的自轉(zhuǎn)；所述大轉(zhuǎn)架和所述小轉(zhuǎn)架為圓筒式轉(zhuǎn)架。

所述小轉(zhuǎn)架與所述大轉(zhuǎn)架之間的轉(zhuǎn)動(dòng)配合指的是，所述小轉(zhuǎn)架的自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)軸安裝在所述大轉(zhuǎn)架上，且所述自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)軸與所述大轉(zhuǎn)架的架體之間構(gòu)成軸孔配合，使所述自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)軸可在所述自轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置的連接驅(qū)動(dòng)下轉(zhuǎn)動(dòng)。

所述公轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置包括電機(jī)、同步帶輪、磁流體，所述電機(jī)通過(guò)所述同步帶輪連接所述磁流體，所述磁流體與所述大轉(zhuǎn)架相連接固定。

所述自轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置為真空電機(jī)，所述真空電機(jī)固定安裝在所述大轉(zhuǎn)架上。

所述真空電機(jī)通過(guò)電極導(dǎo)入法蘭連接有電機(jī)滑環(huán)，所述電機(jī)滑環(huán)為所述真空電機(jī)的動(dòng)力部件。

所述真空電機(jī)設(shè)置有冷卻水管路。

沿所述大轉(zhuǎn)架的圓周均勻間隔布置若干所述小轉(zhuǎn)架。

本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)是：通過(guò)調(diào)節(jié)公轉(zhuǎn)與自轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)速比例,可以改變沉積時(shí)間的分布，改善薄膜厚度的均勻性，具有制得的薄膜均勻性更好、濺射效率高等優(yōu)點(diǎn)；適用于曲面結(jié)構(gòu)復(fù)雜的產(chǎn)品鍍膜，且該公自轉(zhuǎn)系統(tǒng)可以分別控制公轉(zhuǎn)與自轉(zhuǎn)的速度，在鍍膜工藝設(shè)計(jì)設(shè)計(jì)上靈活性更強(qiáng)；運(yùn)行穩(wěn)定性更加，使用壽命更長(zhǎng)。

附圖說(shuō)明

圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本實(shí)用新型的立體結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式