[實用新型]一種用于鍍膜的公自轉鍍膜裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202020699553.1
• 申請日: 2020-04-30
• 公開（公告）號: CN212199404U
• 公開（公告）日: 2020-12-22
• 發(fā)明（設計）人: 余海春;戴曉東;陳韶華;卜欽欽
• 申請（專利權）人: 光馳科技（上海）有限公司
• 主分類號: C23C14/50
• 分類號: C23C14/50;C23C14/54
• 代理公司: 上海申蒙商標專利代理有限公司 31214
• 代理人: 周宇凡

1.一種用于鍍膜的公自轉鍍膜裝置，其特征在于：所述裝置包括真空腔體、大轉架、小轉架，所述大轉架和所述小轉架均設置在所述真空腔體的內部，其中所述小轉架安裝在所述大轉架上且兩者之間構成轉動配合；所述大轉架連接有公轉驅動裝置，所述公轉驅動裝置設置在所述真空腔體的外部，所述公轉驅動裝置連接驅動所述大轉架在所述真空腔體內公轉，所述小轉架連接有自轉驅動裝置，所述自轉驅動裝置設置在所述真空腔體的內部，所述自轉驅動裝置連接驅動所述小轉架在所述大轉架上的自轉；所述大轉架和所述小轉架為圓筒式轉架。

2.根據權利要求1所述的一種用于鍍膜的公自轉鍍膜裝置，其特征在于：所述小轉架與所述大轉架之間的轉動配合指的是，所述小轉架的自轉轉軸安裝在所述大轉架上，且所述自轉轉軸與所述大轉架的架體之間構成軸孔配合，使所述自轉轉軸可在所述自轉驅動裝置的連接驅動下轉動。

3.根據權利要求1所述的一種用于鍍膜的公自轉鍍膜裝置，其特征在于：所述公轉驅動裝置包括電機、同步帶輪、磁流體，所述電機通過所述同步帶輪連接所述磁流體，所述磁流體與所述大轉架相連接固定。

4.根據權利要求1所述的一種用于鍍膜的公自轉鍍膜裝置，其特征在于：所述自轉驅動裝置為真空電機，所述真空電機固定安裝在所述大轉架上。

5.根據權利要求4所述的一種用于鍍膜的公自轉鍍膜裝置，其特征在于：所述真空電機通過電極導入法蘭連接有電機滑環(huán)，所述電機滑環(huán)為所述真空電機的動力部件。

6.根據權利要求4所述的一種用于鍍膜的公自轉鍍膜裝置，其特征在于：所述真空電機設置有冷卻水管路。

7.根據權利要求1所述的一種用于鍍膜的公自轉鍍膜裝置，其特征在于：沿所述大轉架的圓周均勻間隔布置若干所述小轉架。