[實用新型]存儲器

有效

• 申請號: 202020684894.1
• 申請日: 2020-04-29
• 公開（公告）號: CN211700281U
• 公開（公告）日: 2020-10-16
• 發明（設計）人: 童宇誠;張欽福
• 申請（專利權）人: 福建省晉華集成電路有限公司
• 主分類號: H01L27/108
• 分類號: H01L27/108;H01L21/8242
• 代理公司: 上海思捷知識產權代理有限公司 31295
• 代理人: 王宏婧

1.一種存儲器，其特征在于，包括：

襯底；

多個節點接觸結構，從所述襯底上向上延伸，所述節點接觸結構中形成有氣隙；

多個開口，位于相鄰的節點接觸結構之間以電性隔離所述節點接觸結構，并且，所述開口與所述氣隙連通；以及，

絕緣層，至少填充所述開口。

2.如權利要求1所述的存儲器，其特征在于，所述絕緣層遮蓋所述氣隙與所述開口的連通處；或者，所述絕緣層填充部分所述氣隙。

3.如權利要求1所述的存儲器，其特征在于，所述絕緣層完全填充所述氣隙。

4.如權利要求1-3中任一項所述的存儲器，其特征在于，所述節點接觸結構形成有第一氣隙和第二氣隙，所述第一氣隙的底部高于所述第二氣隙的頂部，所述開口至少與所述第一氣隙連通。

5.如權利要求4所述的存儲器，其特征在于，所述開口的底部低于所述第一氣隙的底部且高于所述第二氣隙的頂部。

6.如權利要求1所述的存儲器，其特征在于，還包括：

隔離柱，沿第一方向延伸且位于所述襯底和所述開口之間；

位線結構，沿第二方向延伸且位于所述襯底和所述開口之間；

所述節點接觸結構位于所述隔離柱及所述位線結構限定出的節點接觸窗中，在垂直于高度方向上，所述隔離柱與所述開口的位置以及所述位線結構與所述開口的位置均具有偏移。

7.如權利要求1所述的存儲器，其特征在于，以所述開口的底部的高度位置為界限將所述節點接觸結構分為上節點接觸部和下節點接觸部，在垂直于高度方向上，所述上節點接觸部的最大寬度尺寸大于所述下節點接觸部的最大寬度尺寸。