[實(shí)用新型]氣體分布臺(tái)和懸浮傳動(dòng)裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202020682301.8 | 申請(qǐng)日: | 2020-04-27 |
| 公開(公告)號(hào): | CN212103001U | 公開(公告)日: | 2020-12-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李哲峰;烏磊;聆領(lǐng)安辛 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 深圳市原速光電科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C16/455 | 分類號(hào): | C23C16/455;C23C16/54 |
| 代理公司: | 深圳市世紀(jì)恒程知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 44287 | 代理人: | 郭春芳 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市寶安區(qū)*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 氣體 分布 懸浮 傳動(dòng) 裝置 | ||
本實(shí)用新型公開一種氣體分布臺(tái)和懸浮傳動(dòng)裝置,其中,所述氣體分布臺(tái)包括本體和多個(gè)傳動(dòng)輥,所述本體設(shè)有多個(gè)原子層沉積單元,每一所述原子層沉積單元設(shè)有擴(kuò)散孔,每一所述傳動(dòng)輥設(shè)于相鄰的兩個(gè)所述原子層沉積單元之間,所述傳動(dòng)輥突出所述原子層沉積單元的槽口所在平面;或,所述氣體分布臺(tái)包括多個(gè)子臺(tái)體和多個(gè)傳動(dòng)輥,每一所述子臺(tái)體設(shè)有多個(gè)原子層沉積單元,每一所述原子層沉積單元內(nèi)設(shè)有擴(kuò)散孔,每一所述傳動(dòng)輥設(shè)于相鄰的兩個(gè)所述子臺(tái)體之間,所述傳動(dòng)輥突出所述原子層沉積單元的槽口所在平面。本實(shí)用新型技術(shù)方案隔開氣體分布臺(tái)和沉積基材,避免待沉積基材膜劃損,從而降低廢品率。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及原子層沉積技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種氣體分布臺(tái)和懸浮傳動(dòng)裝置。
背景技術(shù)
目前的懸浮傳動(dòng)裝置都是通過傳動(dòng)裝置直接將沉積基材膜傳送在氣體分布臺(tái)上,在傳動(dòng)的過程中,沉積基材膜容易與氣體分布臺(tái)內(nèi)的零部件表面摩擦容易刮花,導(dǎo)致廢品率較高。
上述內(nèi)容僅用于輔助理解本申請(qǐng)的技術(shù)方案,并不代表承認(rèn)上述內(nèi)容是現(xiàn)有技術(shù)。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型的主要目的是提供一種氣體分布臺(tái)和懸浮傳動(dòng)裝置,旨在隔開氣體分布臺(tái)和沉積基材膜,避免沉積基材膜劃損,從而降低廢品率。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型提出的一種氣體分布臺(tái);所述氣體分布臺(tái)包括本體和多個(gè)傳動(dòng)輥,所述本體設(shè)有多個(gè)原子層沉積單元,每一所述原子層沉積單元內(nèi)設(shè)有擴(kuò)散孔,每一所述傳動(dòng)輥設(shè)于相鄰的兩個(gè)所述原子層沉積單元之間,所述傳動(dòng)輥突出所述原子層沉積單元的槽口所在平面;
或,所述氣體分布臺(tái)包括本體和多個(gè)傳動(dòng)輥,所述本體包括多個(gè)子臺(tái)體,每一所述子臺(tái)體設(shè)有多個(gè)原子層沉積單元,每一所述原子層沉積單元內(nèi)設(shè)有擴(kuò)散孔,每一所述傳動(dòng)輥設(shè)于相鄰的兩個(gè)所述子臺(tái)體之間,所述傳動(dòng)輥突出所述原子層沉積單元的槽口所在平面。
在一實(shí)施例中,每一所述傳動(dòng)輥與所述本體活動(dòng)連接;或,每一所述傳動(dòng)輥與所述子臺(tái)體活動(dòng)連接。
在一實(shí)施例中,所述本體還凹設(shè)有多個(gè)容納槽,每一所述容納槽位于相鄰的兩個(gè)所述原子層沉積單元之間,并與相鄰的兩個(gè)所述原子層沉積單元連通,每一所述傳動(dòng)輥設(shè)于一所述容納槽內(nèi),并突出所述容納槽的槽口,且所述傳動(dòng)輥與所述容納槽的槽壁之間具有間隔。
在一實(shí)施例中,所述氣體分布臺(tái)還包括設(shè)于所述本體的抽氣裝置,每一所述容納槽的槽壁設(shè)有多個(gè)間隔排布的抽氣孔,所述抽氣裝置與多個(gè)所述抽氣孔連通,所述抽氣裝置用于抽離位于所述容納槽內(nèi)的氣體。
在一實(shí)施例中,所述氣體分布臺(tái)還包括設(shè)于多個(gè)安裝座,且多個(gè)所述安裝座分別設(shè)于所述本體相對(duì)兩側(cè),每一所述傳動(dòng)輥的兩端分別與兩個(gè)所述安裝座可拆卸連接。
在一實(shí)施例中,所述安裝座包括:
基座,設(shè)于所述本體的外壁;和
安裝塊,抵接于所述基座,所述傳動(dòng)輥的一端與所述安裝塊可拆卸地連接。
在一實(shí)施例中,所述安裝座還包括設(shè)于所述基座與所述安裝塊之間的墊片,所述墊用于調(diào)節(jié)所述安裝塊在所述基座上的高度。
在一實(shí)施例中,所述基座包括底板和設(shè)于所述底板的第一側(cè)板和第二側(cè)板,所述底板與所述第一側(cè)板、所述第二側(cè)板呈夾角設(shè)置,所述底板、所述第一側(cè)板及所述第二側(cè)板圍合形成安裝槽,所述安裝塊放置于所述安裝槽內(nèi)。
在一實(shí)施例中,所述氣體分布臺(tái)還包括多個(gè)滾動(dòng)軸承,每一所述滾動(dòng)軸承設(shè)于一所述安裝塊,每一所述傳動(dòng)輥的兩端分別插設(shè)于兩個(gè)所述滾動(dòng)軸承的中心孔處,以使所述傳動(dòng)輥可轉(zhuǎn)動(dòng)地連接于所述安裝塊。
本實(shí)用新型還提出一種懸浮傳動(dòng)裝置,所述原子層沉積系統(tǒng)包括所述氣體分布臺(tái)。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
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