[實用新型]一種用于化學機械拋光的修整器和化學機械拋光裝置

有效

• 申請號: 202020682193.4
• 申請日: 2020-04-29
• 公開（公告）號: CN212240605U
• 公開（公告）日: 2020-12-29
• 發明（設計）人: 許振杰;王春龍
• 申請（專利權）人: 華海清科股份有限公司
• 主分類號: B24B53/017
• 分類號: B24B53/017;B24B37/005
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種用于化學機械拋光的修整器，包括基座組件、傳動軸和修整組件，所述傳動軸同軸設置于所述基座組件內，所述修整組件設置于所述基座組件下側并隨所述傳動軸轉動；其特征在于，所述基座組件包括基座，所述基座為中部開孔的環狀結構；所述環狀結構的內設置有磁敏傳感器，所述修整組件內設置有磁鐵，所述磁敏傳感器檢測所述磁鐵形成的磁場的磁感應強度以測量修整組件相對于基座組件的位置。

2.如權利要求1所述的修整器，其特征在于，所述基座由奧氏體不銹鋼制成，其頂面設置有凹槽，所述磁敏傳感器設置于所述凹槽內。

3.如權利要求1所述的修整器，其特征在于，所述修整組件包括防護罩，所述防護罩的內部設置有安裝孔，所述磁鐵粘接于所述安裝孔。

4.如權利要求1所述的修整器，其特征在于，所述磁鐵為鐵氧體永磁鐵，其磁場等級為中磁性或強磁性。

5.如權利要求1所述的修整器，其特征在于，所述多個磁鐵形成的磁感應強度為0.2T-2.5T。

6.如權利要求2所述的修整器，其特征在于，所述磁敏傳感器可檢測0.01mm-20mm范圍內的磁感應強度變化。

7.如權利要求6所述的修整器，其特征在于，所述磁敏傳感器的數量為多個，其沿所述基座的中心均布設置。

8.如權利要求4所述的修整器，其特征在于，所述磁鐵的高度為1mm-30mm。

9.一種化學機械拋光裝置，其包括拋光盤、承載頭、供液裝置和修整裝置；其特征在于，所述修整裝置包括權利要求1-8任一項所述的修整器。