[實用新型]一種單端全屏蔽小型真空滅弧室

有效

• 申請號: 202020675429.1
• 申請日: 2020-04-28
• 公開（公告）號: CN211788810U
• 公開（公告）日: 2020-10-27
• 發明（設計）人: 張亞麗
• 申請（專利權）人: 陜西寶光真空電器股份有限公司
• 主分類號: H01H33/664
• 分類號: H01H33/664;H01H33/662
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 胡彬

1.一種單端全屏蔽小型真空滅弧室，包括瓷殼(10)和設置于所述瓷殼(10)內部的屏蔽筒(20)、靜均壓罩(31)和動均壓罩(32)，其特征在于，所述屏蔽筒(20)的第一端與所述靜均壓罩(31)插接形成全屏蔽結構，所述屏蔽筒(20)的第二端與所述動均壓罩(32)間隔設置形成開放式結構，所述第一端的邊緣向所述屏蔽筒(20)的內側彎折形成第一卷邊結構(21)。

2.根據權利要求1所述的單端全屏蔽小型真空滅弧室，其特征在于，所述第一端向所述屏蔽筒(20)的內側彎折形成第一擋止部(22)。

3.根據權利要求2所述的單端全屏蔽小型真空滅弧室，其特征在于，所述第一擋止部(22)的邊緣沿所述屏蔽筒(20)的軸向延伸形成伸長部(23)，所述伸長部(23)與所述靜均壓罩(31)插接，所述伸長部(23)的邊緣形成所述第一卷邊結構(21)。

4.根據權利要求3所述的單端全屏蔽小型真空滅弧室，其特征在于，所述靜均壓罩(31)的直徑大于所述伸長部(23)的直徑，所述靜均壓罩(31)與所述伸長部(23)之間沿徑向形成間隙。

5.根據權利要求1所述的單端全屏蔽小型真空滅弧室，其特征在于，所述靜均壓罩(31)的邊緣向所述靜均壓罩(31)的內側彎折形成第二卷邊結構(311)。

6.根據權利要求1所述的單端全屏蔽小型真空滅弧室，其特征在于，還包括動導電桿(52)和套設于所述動導電桿(52)上的波紋管(60)，所述波紋管(60)位于所述屏蔽筒(20)的外部。

7.根據權利要求6所述的單端全屏蔽小型真空滅弧室，其特征在于，所述第二端向所述屏蔽筒(20)的內側彎折形成第二擋止部(24)。

8.根據權利要求7所述的單端全屏蔽小型真空滅弧室，其特征在于，所述動導電桿(52)上于所述波紋管(60)靠近所述屏蔽筒(20)的一側設置有屏蔽罩(80)，所述屏蔽罩(80)的直徑大于所述第二擋止部(24)的邊緣處的直徑。

9.根據權利要求7所述的單端全屏蔽小型真空滅弧室，其特征在于，所述動均壓罩(32)套設于所述波紋管(60)的外側。