[實用新型]用于磁控濺射鍍膜設備的放氣裝置及磁控濺射鍍膜設備

有效

• 申請號: 202020650167.3
• 申請日: 2020-04-26
• 公開（公告）號: CN212199402U
• 公開（公告）日: 2020-12-22
• 發明（設計）人: 陳軍;李弋舟;陳曦
• 申請（專利權）人: 長沙韶光鉻版有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 長沙正奇專利事務所有限責任公司 43113
• 代理人: 馬強;胡凌云

本實用新型涉及用于磁控濺射鍍膜設備的放氣裝置及磁控濺射鍍膜設備，包括進氣管、與進氣管連通的第一布氣管和套設于第一布氣管外的第二布氣管，所述第一布氣管上設有多個第一孔，所述第二布氣管上設有多個第二孔，所述第一孔和第二孔錯位設置。氣體進入鍍膜工藝室的流動速度小，沖擊力度低，無需擔心玻璃基片等在鍍膜工藝室內因氣體沖擊而變動位置，保證鍍膜質量，從而提高鍍膜產品的良品率和質量。

技術領域

本實用新型屬于磁控濺射領域，涉及用于磁控濺射鍍膜設備的放氣裝置及磁控濺射鍍膜設備。

背景技術

磁控濺射技術是當今主流的鍍膜技術之一。它是用高能粒子（通常是由電場加速的正離子），轟擊固體表面，固體表面的原子、分子與入射的高能粒子交換動能后，從固體表面飛濺出來的現象稱為濺射。濺射出的原子具有一定的能量。他們可以重新沉積聚集在固體基片表面形成薄膜，稱為濺射鍍膜。在濺射過程中，腔室真空度、潔凈度對膜層的形成和膜層的穩定性有很大影響。為保證真空腔室的潔凈度，除開定期對腔體進行保養和維護外，減少既有污染源，防止外來輸入污染或干擾，也是一個重要環節。輸入性污染源包括工裝夾具、設備零部件、鍍膜用工藝材料、工藝氣體等。其中，工藝氣體主要是磁控濺射過程中向磁控濺射鍍膜設備腔室內充入的保護性氣體，如氮氣。

目前，對于工藝氣體的控制，常用的方法是在腔體外面設置一個手動閥，腔體內部配置一個簡易過濾器，用于簡單的過濾和減低氣體進入腔體的速度，從而達到減少氣體沖擊和揚塵的目的。如此，一方面，操作比較麻煩，另一方面，減低氣體進入速度勢必降低單位時間內充入腔體的氣體量，難以滿足氣體量的需求。

實用新型內容

本實用新型的目的在于針對現有技術的不足，提供的目的之一在于提供用于磁控濺射鍍膜設備的放氣裝置，以實現軟放氣，并滿足磁控濺射過程中對工藝氣體量的需求；本實用新型的目的之二在于提供一種磁控濺射鍍膜設備。

為了解決上述技術問題，本實用新型的技術方案為：

用于磁控濺射鍍膜設備的放氣裝置，包括進氣管、與進氣管連通的第一布氣管和套設于第一布氣管外的第二布氣管，所述第一布氣管和第二布氣管之間存在間隙，所述第一布氣管上設有多個第一孔，所述第二布氣管上設有多個第二孔，所述第一孔和第二孔錯位設置。

如此，氣體通過進氣管進入第一布氣管后，進一步通過第一孔分散式進入第一布氣管與第二布氣管之間的間隙內，然后進一步通過第二孔進入磁控濺射鍍膜設備的鍍膜工藝室內，氣體經過2次布氣，氣體流動速度得到削弱，沖擊力度被降低，阻止鍍膜工藝室內顆粒揚塵，從而實現軟放氣功能；同時，由于兩根布氣管的存在，在增大氣體通入速率時，氣體進入工藝室的速率變化減小，在滿足氣體量需求的同時，避免氣體沖擊和揚塵，保證鍍膜質量。

進一步地，所述多個第一孔沿第一布氣管的長度方向依次分布；所述多個第二孔沿第二布氣管的長度方向依次分布。如此，可進一步實現均勻布氣，防止局部氣流量過大。

進一步地，相鄰2個第一孔之間設有1個第二孔。

進一步地，所述第二孔的孔徑大于第一孔的孔徑，進一步抑制氣體流動速度，減輕氣體的沖擊力度。

進一步地，所述第一布氣管的兩端封閉；所述第二布氣管的兩端封閉。

進一步地，所述第一布氣管位于第二布氣管內。

進一步地，所述第二布氣管的內徑與第一布氣管的外徑之差為0.5-5cm。

進一步地，所述進氣管與第一布氣管的連接位置位于第一布氣管的中垂面上，進一步方便均勻布氣。

進一步地，從氣流流動方向看，所述進氣管上依次設有調節閥和過濾器。如此，可方便調節氣體通入速率，并保證通入氣體的潔凈度。

可選的，所述過濾器為精密過濾器。如此，可進一步減少調節放氣量的次數。