[實(shí)用新型]用于磁控濺射鍍膜設(shè)備的放氣裝置及磁控濺射鍍膜設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202020650167.3
• 申請(qǐng)日: 2020-04-26
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN212199402U
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-12-22
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳軍;李弋舟;陳曦
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 長(zhǎng)沙韶光鉻版有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): C23C14/35
• 分類(lèi)號(hào): C23C14/35
• 代理公司: 長(zhǎng)沙正奇專(zhuān)利事務(wù)所有限責(zé)任公司 43113
• 代理人: 馬強(qiáng);胡凌云

1.用于磁控濺射鍍膜設(shè)備的放氣裝置，其特征在于，包括進(jìn)氣管（1）、與進(jìn)氣管（1）連通的第一布?xì)夤埽?）和套設(shè)于第一布?xì)夤埽?）外的第二布?xì)夤埽?），所述第一布?xì)夤埽?）和第二布?xì)夤埽?）之間存在間隙，所述第一布?xì)夤埽?）上設(shè)有多個(gè)第一孔（401），所述第二布?xì)夤埽?）上設(shè)有多個(gè)第二孔（501），所述第一孔（401）和第二孔（501）錯(cuò)位設(shè)置。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于磁控濺射鍍膜設(shè)備的放氣裝置，其特征在于，所述多個(gè)第一孔（401）沿第一布?xì)夤埽?）的長(zhǎng)度方向依次分布；所述多個(gè)第二孔（501）沿第二布?xì)夤埽?）的長(zhǎng)度方向依次分布。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于磁控濺射鍍膜設(shè)備的放氣裝置，其特征在于，相鄰2個(gè)第一孔（401）之間設(shè)有1個(gè)第二孔（501）。

4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的用于磁控濺射鍍膜設(shè)備的放氣裝置，其特征在于，所述第二孔（501）的孔徑大于第一孔（401）的孔徑。

5.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的用于磁控濺射鍍膜設(shè)備的放氣裝置，其特征在于，所述第一布?xì)夤埽?）的兩端封閉；所述第二布?xì)夤埽?）的兩端封閉。

6.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的用于磁控濺射鍍膜設(shè)備的放氣裝置，其特征在于，所述第一布?xì)夤埽?）位于第二布?xì)夤埽?）內(nèi)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的用于磁控濺射鍍膜設(shè)備的放氣裝置，其特征在于，所述第二布?xì)夤埽?）的內(nèi)徑與第一布?xì)夤埽?）的外徑之差為0.5-5cm。

8.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的用于磁控濺射鍍膜設(shè)備的放氣裝置，其特征在于，所述進(jìn)氣管（1）與第一布?xì)夤埽?）的連接位置位于第一布?xì)夤埽?）的中垂面上。

9.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的用于磁控濺射鍍膜設(shè)備的放氣裝置，其特征在于，從氣流流動(dòng)方向看，所述進(jìn)氣管（1）上依次設(shè)有調(diào)節(jié)閥（3）和過(guò)濾器（2）。

10.磁控濺射鍍膜設(shè)備，其特征在于，包括鍍膜工藝室和如權(quán)利要求1-9任一項(xiàng)所述的放氣裝置，所述第一布?xì)夤埽?）和第二布?xì)夤埽?）設(shè)置于鍍膜工藝室內(nèi)，所述進(jìn)氣管（1）的進(jìn)氣端伸出至鍍膜工藝室外。