[實(shí)用新型]一種用于化學(xué)氣相沉積爐內(nèi)氣體混合的攪動(dòng)裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202020622569.2 | 申請(qǐng)日: | 2020-04-22 |
| 公開(公告)號(hào): | CN212800532U | 公開(公告)日: | 2021-03-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李培元;楊睿欣;杜淑娣;薛亮 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 西安航空制動(dòng)科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C16/455 | 分類號(hào): | C23C16/455 |
| 代理公司: | 中國(guó)航空專利中心 11008 | 代理人: | 王世磊 |
| 地址: | 710075 陜*** | 國(guó)省代碼: | 陜西;61 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 用于 化學(xué) 沉積 氣體 混合 攪動(dòng) 裝置 | ||
本實(shí)用新型實(shí)施例公開了一種用于化學(xué)氣相沉積爐內(nèi)氣體混合的攪動(dòng)裝置。攪動(dòng)裝置包括:混氣罐,設(shè)置于該混氣罐內(nèi)部的攪動(dòng)組件;其中,混氣罐的一端面設(shè)置有進(jìn)氣孔,另一端面與化學(xué)氣相沉積(CVD)爐體連通;攪動(dòng)組件包括軸體和沿軸體的周向均勻設(shè)置的至少三個(gè)葉片,軸體的兩端一一對(duì)應(yīng)的固設(shè)于混氣罐的兩端,且葉片與軸體的垂直面具有預(yù)設(shè)夾角。本實(shí)用新型實(shí)施例解決了現(xiàn)有制造碳剎車盤的工藝中,由于通入CVD爐的碳源氣體難以快速混合均勻,而導(dǎo)致CVD爐中的碳源氣體不能充分反應(yīng),從而造成反應(yīng)速率下降,以及原料氣體反應(yīng)不充分而造成浪費(fèi)的問題。
技術(shù)領(lǐng)域
本申請(qǐng)涉及但不限于剎車盤制造技術(shù)領(lǐng)域,尤指一種用于化學(xué)氣相沉積爐內(nèi)氣體混合的攪動(dòng)裝置。
背景技術(shù)
碳剎車盤的制造工藝是將碳纖維預(yù)制體疊放在化學(xué)氣相沉積(Chemical VaporDeposition,簡(jiǎn)稱為:CVD)爐內(nèi),加熱至所要求的溫度,并在CVD爐內(nèi)通入不同種類的碳源氣體或惰性氣體混合物,例如為碳?xì)浠衔铩⒌獨(dú)獾龋荚礆怏w被加熱至一定溫度裂解、擴(kuò)散至多孔的預(yù)制體內(nèi),部分熱解碳沉積在碳纖維周圍和空隙中使預(yù)制體致密,密度達(dá)到要求后,最終形成碳剎車盤。
由于進(jìn)行CVD工藝的碳源氣體可能為混合氣體,且不同分子量的碳源氣體的密度不同,若上述密度不同的混合氣體通入CVD爐時(shí)均勻性較差,則會(huì)導(dǎo)致碳源氣體進(jìn)CVD爐后不能充分反應(yīng),使反應(yīng)速率下降,并且使得原料氣體反應(yīng)不充分而造成浪費(fèi)。
實(shí)用新型內(nèi)容
為了解決上述技術(shù)問題,本實(shí)用新型實(shí)施例提供了一種用于化學(xué)氣相沉積爐內(nèi)氣體混合的攪動(dòng)裝置,以解決現(xiàn)有制造碳剎車盤的工藝中,由于通入CVD 爐的碳源氣體難以快速混合均勻,而導(dǎo)致CVD爐中的碳源氣體不能充分反應(yīng),從而造成反應(yīng)速率下降,以及原料氣體反應(yīng)不充分而造成浪費(fèi)的問題。
本實(shí)用新型實(shí)施例提供一種用于化學(xué)氣相沉積爐內(nèi)氣體混合的攪動(dòng)裝置,包括:混氣罐,設(shè)置于所述混氣罐內(nèi)部的攪動(dòng)組件;
所述混氣罐的一端面設(shè)置有進(jìn)氣孔,另一端面與化學(xué)氣相沉積CVD爐體連通;
所述攪動(dòng)組件包括軸體和沿所述軸體的周向均勻設(shè)置的至少三個(gè)葉片,所述軸體的兩端一一對(duì)應(yīng)的固設(shè)于所述混氣罐的兩端,且所述葉片與所述軸體的垂直面具有預(yù)設(shè)夾角;
所述攪動(dòng)組件,被配置為所述葉片在氣流的作用下,沿所述軸體進(jìn)行軸向旋轉(zhuǎn)。
可選地,如上所述的用于化學(xué)氣相沉積爐內(nèi)氣體混合的攪動(dòng)裝置中,所述攪動(dòng)組件包括四個(gè)葉片。
可選地,如上所述的用于化學(xué)氣相沉積爐內(nèi)氣體混合的攪動(dòng)裝置中,所述葉片與所述軸體的垂直面的夾角在30度到60度之間。
可選地,如上所述的用于化學(xué)氣相沉積爐內(nèi)氣體混合的攪動(dòng)裝置中,所述葉片為梯形葉片,所述梯形葉片設(shè)置于穿過所述軸體的圓環(huán)上,所述圓環(huán)的直徑為所述混氣罐直徑的五分之一。
可選地,如上所述的用于化學(xué)氣相沉積爐內(nèi)氣體混合的攪動(dòng)裝置中,所述梯形葉片的短邊與所述圓環(huán)相連接,且所述四個(gè)葉片的短邊相加等于所述圓環(huán)的周長(zhǎng),所述梯形葉片的長(zhǎng)邊為所述短邊的兩倍。
可選地,如上所述的用于化學(xué)氣相沉積爐內(nèi)氣體混合的攪動(dòng)裝置中,所述葉片的材料采用塑料、樹脂或PVC。
可選地,如上所述的用于化學(xué)氣相沉積爐內(nèi)氣體混合的攪動(dòng)裝置中,所述軸體設(shè)置于所述混氣罐的中心軸位置。
可選地,如上所述的用于化學(xué)氣相沉積爐內(nèi)氣體混合的攪動(dòng)裝置中,所述混氣罐的兩個(gè)端面分別設(shè)置有直徑與所述軸體直徑相同的凹槽,兩個(gè)所述凹槽用于一一對(duì)應(yīng)的插入所述軸體的兩端。
可選地,如上所述的用于化學(xué)氣相沉積爐內(nèi)氣體混合的攪動(dòng)裝置中,所述攪動(dòng)組件的直徑為所述混氣罐直徑的二分之一到三分之二。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時(shí)基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
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