[實用新型]雙重無接觸式清洗處理系統

有效

• 申請號: 202020584700.0
• 申請日: 2020-04-17
• 公開（公告）號: CN212442391U
• 公開（公告）日: 2021-02-02
• 發明（設計）人: 羅弦
• 申請（專利權）人: 深圳市誠峰智造有限公司
• 主分類號: B08B7/02
• 分類號: B08B7/02;B08B7/00
• 代理公司: 深圳市博銳專利事務所 44275
• 代理人: 王芳

本實用新型公開了一種雙重無接觸式清洗處理系統，包括第一線性移動機構、第二線性移動機構和滾輪傳送機構，還包括第一干式超聲清洗設備、第二干式超聲清洗設備和等離子處理設備，第一干式超聲清洗設備的下方對應設有第一吸附機構，第一線性移動機構帶動所述第一吸附機構作線性運動；第二干式超聲清洗設備的上方設有第二吸附機構，所述第二線性移動機構帶動所述第二吸附機構作線性運動；所述等離子處理設備包括用于固定產品的固定機構和上下對應設置的第一等離子處理機構和第二等離子處理機構。集超聲波清洗設備和等離子清洗設備為一體，可進行多維度清洗，清洗效果好，且效率高。

技術領域

本實用新型涉及清潔設備技術領域，尤其涉及一種雙重無接觸式清洗處理系統。

背景技術

目前國內市場上雙面干式超聲波較少，能夠搭配等離子清洗設備的更是屈指可數，多是干式超聲波清洗設備和等離子清洗設備分離為兩個獨立的設備，無法實現一體化，機械自動化程度低。

實用新型內容

本實用新型所要解決的技術問題是：提供一種雙重無接觸式清洗處理系統，集超聲波清洗設備和等離子清洗設備為一體，可進行多維度清洗。

為了解決上述技術問題，本實用新型采用的技術方案為：

一種雙重無接觸式清洗處理系統，包括第一線性移動機構、第二線性移動機構和用于傳送待處理產品的滾輪傳送機構，還包括依次設置的第一干式超聲清洗設備、第二干式超聲清洗設備和等離子處理設備，所述第一干式超聲清洗設備和第二干式超聲清洗設備分別設置于所述滾輪傳送機構相對的兩側，所述第一干式超聲清洗設備的下方對應設有用于吸附待處理產品的第一吸附機構，所述第一線性移動機構帶動所述第一吸附機構作線性運動；所述第二干式超聲清洗設備的上方設有用于吸附待處理產品的第二吸附機構，所述第二線性移動機構帶動所述第二吸附機構作線性運動；所述等離子處理設備包括用于固定待處理產品的固定機構和上下對應設置的第一等離子處理機構和第二等離子處理機構。

進一步的，所述第一吸附機構包括第一支架，所述第一支架與所述第一線性移動機構固定連接，所述第一支架上設有至少一個的第一吸盤。

進一步的，所述第二吸附機構包括第二支架，所述第二支架與所述第二線性移動機構固定連接，所述第二支架上設有至少一個的第二吸盤。

進一步的，所述固定機構包括固定滾輪，所述固定滾輪設置于所述滾輪傳送機構的上方，所述固定滾輪和滾輪傳送機構夾持所述待處理產品。

進一步的，所述固定滾輪的數目為至少兩個。

本實用新型的有益效果在于：第一干式超聲清洗設備和第二干式超聲清洗設備可以分別對產品不同的表面進行清洗，上下對應設置的第一等離子處理機構和第二等離子處理機構可以同時對產品的不同表面進行清洗，清洗效率高。本實用新型的超聲波等離子處理系統，集超聲波清洗設備和等離子清洗設備為一體，可進行多維度清洗，清洗效果好，且效率高。

附圖說明

圖1為本實用新型實施例一的雙重無接觸式清洗處理系統的整體結構示意圖；

圖2為本實用新型實施例一的雙重無接觸式清洗處理系統的部分結構示意圖；

圖3為本實用新型實施例一的雙重無接觸式清洗處理系統的側視圖；

圖4為圖1中在A處的放大結構示意圖；

圖5為圖2中在B處的放大結構示意圖。

標號說明：

1、第一線性移動機構；2、第二線性移動機構；3、滾輪傳送機構；4、第一干式超聲清洗設備；5、第二干式超聲清洗設備；6、第一吸附機構；61、第一支架；62、第一吸盤；7、第二吸附機構；71、第二支架；72、第二吸盤；8、第一等離子處理機構；9、第二等離子處理機構；10、固定滾輪。