[實用新型]雙重無接觸式清洗處理系統有效
| 申請號： | 202020584700.0 | 申請日： | 2020-04-17 |
| 公開（公告）號： | CN212442391U | 公開（公告）日： | 2021-02-02 |
| 發明（設計）人： | 羅弦 | 申請（專利權）人： | 深圳市誠峰智造有限公司 |
| 主分類號： | B08B7/02 | 分類號： | B08B7/02;B08B7/00 |
| 代理公司： | 深圳市博銳專利事務所 44275 | 代理人： | 王芳 |
| 地址： | 518000 廣東省深圳市*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 雙重 接觸 清洗 處理 系統 | ||
1.一種雙重無接觸式清洗處理系統，包括第一線性移動機構、第二線性移動機構和用于傳送待處理產品的滾輪傳送機構，其特征在于，還包括依次設置的第一干式超聲清洗設備、第二干式超聲清洗設備和等離子處理設備，所述第一干式超聲清洗設備和第二干式超聲清洗設備分別設置于所述滾輪傳送機構相對的兩側，所述第一干式超聲清洗設備的下方對應設有用于吸附待處理產品的第一吸附機構，所述第一線性移動機構帶動所述第一吸附機構作線性運動；所述第二干式超聲清洗設備的上方設有用于吸附待處理產品的第二吸附機構，所述第二線性移動機構帶動所述第二吸附機構作線性運動；所述等離子處理設備包括用于固定待處理產品的固定機構和上下對應設置的第一等離子處理機構和第二等離子處理機構。
2.根據權利要求1所述的雙重無接觸式清洗處理系統，其特征在于，所述第一吸附機構包括第一支架，所述第一支架與所述第一線性移動機構固定連接，所述第一支架上設有至少一個的第一吸盤。
3.根據權利要求1所述的雙重無接觸式清洗處理系統，其特征在于，所述第二吸附機構包括第二支架，所述第二支架與所述第二線性移動機構固定連接，所述第二支架上設有至少一個的第二吸盤。
4.根據權利要求1所述的雙重無接觸式清洗處理系統，其特征在于，所述固定機構包括固定滾輪，所述固定滾輪設置于所述滾輪傳送機構的上方，所述固定滾輪和滾輪傳送機構夾持所述待處理產品。
5.根據權利要求4所述的雙重無接觸式清洗處理系統，其特征在于，所述固定滾輪的數目為至少兩個。
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