[實用新型]一種具有多個子反應器結構的金屬有機化學氣相沉淀設備有效
| 申請號: | 202020581293.8 | 申請日: | 2020-04-18 |
| 公開(公告)號: | CN212388113U | 公開(公告)日: | 2021-01-22 |
| 發明(設計)人: | 李蜂 | 申請(專利權)人: | 呂梁學院 |
| 主分類號: | C23C16/54 | 分類號: | C23C16/54;C23C16/44 |
| 代理公司: | 北京盛凡智榮知識產權代理有限公司 11616 | 代理人: | 陳月婷 |
| 地址: | 033000 山西*** | 國省代碼: | 山西;14 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 具有 個子 反應器 結構 金屬 有機化學 沉淀 設備 | ||
本實用新型公開了一種具有多個子反應器結構的金屬有機化學氣相沉淀設備,包括主設備、子設備、控制鍵面板和防護機構,所述主設備和子設備前表面均設置有控制鍵面板,所述控制鍵面板可拆卸式安裝在主設備或者子設備側面且可對控制鍵面板防護,所述防護機構包括透明板、右固定板、左固定板和限位組件,所述右固定板和左固定板對稱安裝在主設備側面,且通過螺釘固定,所述右固定板和左固定板前端伸出主設備露在外側,且端部設置有矩形缺口;本實用新型通過設置有防護機構,既不影響控制鍵面板的正常使用,又可在不使用時起到防護作用,避免旁人誤碰控制鍵造成沉淀設備工作出現問題,減少影響化學氣相沉淀設備工作的因素,且機構方便安裝和拆卸。
技術領域
本實用新型屬于金屬有機化學氣相沉淀設備技術領域,具體涉及一種具有多個子反應器結構的金屬有機化學氣相沉淀設備。
背景技術
化學氣相沉積是一種化工技術,該技術主要是利用含有薄膜元素的一種或幾種氣相化合物或單質、在襯底表面上進行化學反應生成薄膜的方法,大多數制備貴金屬薄膜都會采用這種方式。化學氣相淀積是近幾十年發展起來的制備無機材料的新技術。而化學氣相沉淀設備可用于形成多種金屬、合金、陶瓷和化合物涂層。
現有的有些化學氣相沉淀設備上的控制鍵面板裸露在外側,在整個化學氣相沉淀設備工作時,可能出現旁人誤碰控制鍵造成設備工作出現差錯,影響設備工作效率的問題,為此我們提出一種具有多個子反應器結構的金屬有機化學氣相沉淀設備。
實用新型內容
本實用新型的目的在于提供一種具有多個子反應器結構的金屬有機化學氣相沉淀設備,以解決上述背景技術中提出的有些化學氣相沉淀設備上的控制鍵面板裸露在外側,在整個化學氣相沉淀設備工作時,可能出現旁人誤碰控制鍵造成設備工作出現差錯,影響設備工作效率的問題。
為實現上述目的,本實用新型提供如下技術方案:一種具有多個子反應器結構的金屬有機化學氣相沉淀設備,包括主設備、子設備、控制鍵面板和防護機構,所述主設備和子設備前表面均設置有控制鍵面板,所述控制鍵面板可拆卸式安裝在主設備或者子設備側面且可對控制鍵面板防護,所述防護機構包括透明板、右固定板、左固定板和限位組件,所述右固定板和左固定板對稱安裝在主設備側面,且通過螺釘固定,所述右固定板和左固定板前端伸出主設備露在外側,且端部設置有矩形缺口,所述透明板位于控制鍵面板正前方,且左右兩側分別固定有固定凸塊和連接板。
優選的,所述固定凸塊另一端位于左固定板端部的缺口中,所述限位組件轉動安裝在左固定板缺口中,且可對固定凸塊壓緊限位,所述限位組件包括轉動板和壓緊棉,左視為“U”型的所述轉動板開口端通過轉軸轉動安裝在缺口中。
優選的,所述轉動板另一端后表面固定有與固定凸塊接觸的壓緊棉,所述轉動板可左右轉動與固定凸塊脫離或者接觸。
優選的,俯視為“L”型的所述連接板自由端位于右固定板的缺口中,且與右固定板缺口轉動連接,所述透明板可左右轉動將控制鍵面板露出。
優選的,所述透明板后表面固定有防護圈,所述防護圈位于控制鍵面板外側且與主設備表面擠壓接觸,所述防護圈為海綿圈。
優選的,所述主設備頂部安裝有金屬有機化學反應的反應容器,所述子設備與反應容器之間連接有連接線,且所述主設備內部安裝有多個子反應器,所述子反應器為等離子反應器。
與現有技術相比,本實用新型的有益效果是:
(1)本實用新型通過設置有防護機構,既不影響控制鍵面板的正常使用,又可在不使用時起到防護作用,避免旁人誤碰控制鍵造成沉淀設備工作出現問題,減少影響化學氣相沉淀設備工作的因素,且機構方便安裝和拆卸。
(2)本實用新型通過設置有海綿圈,可對透明板與主設備表面的空隙進行填充,可避免外界灰塵顆粒堆積落到控制鍵上,減少清理的麻煩。
附圖說明
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





